-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115210402A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202180017957.5
申请日：2021-02-19
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: C23C14/04 , H01L21/027
Abstract: 蒸镀掩模单元的制造方法包括：在第一支承基板上配置抗蚀膜的步骤；在抗蚀膜上形成剥离层的步骤；从抗蚀膜的侧面向内侧曝光抗蚀膜的步骤；在剥离层上形成具有多个开口的至少一个蒸镀掩模的步骤；将具有至少一个窗的支承框以至少一个窗与至少一个蒸镀掩模的多个开口重叠的方式配置在剥离层上的步骤；和通过镀敷法形成将至少一个蒸镀掩模与支承框相互固定的连接部的步骤。
-
公开(公告)号：CN113493893A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110301035.9
申请日：2021-03-22
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 对于蒸镀掩模单元的制作，要求除了高精度地形成高精细的图案以外，还不产生缺陷图案的技术。本发明的蒸镀掩模的制作方法包括：在第1支承基板的第1面的内侧区域，以第1膜厚形成第1抗蚀剂掩模的步骤，在形成有第1抗蚀剂掩模的第1面上，以第1膜厚以下的第2膜厚形成剥离层的步骤，除去第1抗蚀剂掩模的步骤，在剥离层上配置覆盖剥离层且端部扩展至剥离层的外侧的感光性抗蚀剂膜的步骤，与感光性抗蚀剂膜紧贴地设置第2支承基板的步骤，将第1支承基板从剥离层分离，使感光性抗蚀剂膜和剥离层留存在第2支承基板上的步骤，将超出剥离层的感光性抗蚀剂膜除去的步骤，将感光性抗蚀剂膜的端面曝光的步骤，在剥离层上形成蒸镀掩模图案的步骤。
-
公开(公告)号：CN113388805A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202110265013.1
申请日：2021-03-11
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供能够降低蒸镀不良的蒸镀掩模的制造方法和蒸镀掩模。本发明的蒸镀掩模的制造方法，蒸镀掩模具有：掩模框架，其具有由框部或隔档部包围的空隙；第一镀层，其形成于俯视时与空隙重叠、并且俯视时不与框部或隔档部重叠的区域；和第二镀层，其将掩模框架和第一镀层接合，第一镀层形成为从掩模框架向第一方向突出，蒸镀掩模的制造方法的特征在于，包括：在第二镀层与第一镀层的边界，将从第二镀层向第一方向突出的突起推倒的工序。
-
公开(公告)号：CN113373405A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202110211100.9
申请日：2021-02-25
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供用于以高效率、高成品率、低成本制作蒸镀掩模组件的制作方法。该蒸镀掩模组件的制作方法包括：在支承基板上形成具有多个第1开口的蒸镀掩模的步骤；形成覆盖多个第1开口的第1抗蚀剂掩模的步骤；将具有第2开口的第2抗蚀剂掩模，以第1抗蚀剂掩模从第2开口露出的方式形成在第1抗蚀剂掩模上的步骤；将具有窗的支承架，以窗与多个第1开口重叠的方式配置在支承基板上的步骤；和使用镀敷法形成将蒸镀掩模和支承架固定在一起的连接部的步骤。
-
公开(公告)号：CN106992259B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201611010959.9
申请日：2016-11-17
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 西之原拓磨
Abstract: 本发明的目的在于抑制设置于有机层之上的自发光元件层的剥离，同时提高有机层的耐弯曲性。显示装置包括由相互叠层的多个层构成的基板和电路层。电路层包括显示元件区域和周边区域，显示元件区域设置有与多个单位像素对应的多个像素电极和自发光元件层，周边区域具有到达显示元件区域的配线和端子，并且至少部分地弯曲。基板包括与电路层的显示元件区域重叠的第一区域、和与周边区域重叠且至少部分地弯曲的第二区域。多个层包括至少1层的无机层和多层的有机层。第一区域中的多层的有机层的层数比第二区域中的多层的有机层的层数多。
-
-
-
-
Search Results
15
records
(took 0.033 seconds)
