抛光状态监测装置和抛光装置以及方法

    公开(公告)号:CN101530983A

    公开(公告)日:2009-09-16

    申请号:CN200910133188.6

    申请日:2003-10-15

    Abstract: 一种抛光状态监测装置,包括:光源;发光单元,设置在具有抛光表面的抛光台中,用于将光从光源施加到工件之被抛光的表面;光接收单元,设置在抛光台中,用于接收来自工件表面的反射光;分光镜单元,用于将由光接收单元接收的反射光分开成多条光线;多个光接收元件,用于检测由分光镜单元分开的多条光线和累积检测的多条光线;光谱数据产生器,用于读取由光接收元件累积的信息,以及产生反射光的光谱数据;控制单元,用于控制光接收元件,以在抛光台旋转时执行采样处理;以及处理器,用于根据包括乘法的计算来计算工件表面的预定特征值。

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