公开(公告)号：CN106165067A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201580016524.2

申请日：2015-03-17

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 国泽淳次 ,  丸山徹 ,  今井正芳 ,  前田幸次 ,  宫崎充 ,  本坊光朗 ,  丰增富士彦

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明涉及一种将清洗液(例如纯水或药液)供给至晶片等的基板来处理基板的基板处理装置以及该基板处理装置的配管清洗方法。本发明的基板处理装置的特征在于，具备：第一清洗路径，其包含将纯水供给至基板以清洗该基板的多个第一清洗单元(52、54)；第二清洗路径，其包含将纯水供给至基板以清洗该基板的多个第二清洗单元(60、62)；第一纯水供给配管(120)，将纯水供给至第一清洗路径；及第二纯水供给配管(180)，将纯水供给至第二清洗路径。

公开(公告)号：CN301977250S

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201130478253.7

申请日：2011-12-09

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 石桥知淳 ,  及川文利 ,  田中英明 ,  本坊光朗

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为基板清洗用辊轴。2.本外观设计产品是用于插入到基板清洗用辊中的轴，所述基板清洗用辊用于对实施了研磨处理的基板(半导体晶片等)的表面上所附着的研磨屑等进行清洗。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.左视图与右视图是对称的；仰视图与俯视图是对称的。