公开(公告)号：CN1704849A

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：CN200510076091.8

申请日：2005-05-31

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 水口信一郎 ,  船山昌彦 ,  伊势胜

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H05K3/06

Abstract: 一种可进行有效且迅速的检查维护作业的并使用于曝光装置的掩模框架搬运装置。在用于对基板进行曝光作业的曝光装置的掩模框架搬运装置中，具有：支撑掩模框架(4)的支撑框架(3)；设于该支撑框架(3)并将掩模框架(4)向预先设定的移动方向搬运的输送辊子(5)；整合为该输送辊子(5)的搬运高度并与支撑框架(3)邻接设置的导引框架(8)；以及将该导引框架(8)收容于曝光装置的内侧，同时安装成能够沿移动方向朝装置外侧自由伸出的保护门(6)(安装机构)。

公开(公告)号：CN1702556A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510075829.9

申请日：2005-05-27

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 水口信一郎 ,  伊势胜

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种曝光装置，用简易的结构防止因感光树脂产生的挥发物质造成复眼透镜表面的污染。在所述曝光装置(1)中，具备：具有光源(21)、反射镜(41)及复眼透镜(42)的光源室(2)；以及经由分隔板(6)而与光源室(2)分隔的曝光室，其特征为，具备：收纳上述复眼透镜(42)的壳体(7)；以及将冷却风送至收容于上述壳体(7)内的复眼透镜(42)的调温单元(51)。上述壳体(7)具有：开口部(71、72)，形成于光源(21)发出的照射光的与相对于复眼透镜(42)的入射光路及射出光路对应的位置上；进气口(73)，形成于与该开口部(71、72)的开口方向正交的位置上，并连结调温单元(51)；以及排气口(74)，形成于与该进气口(73)相向的位置上。在分隔板(6)上，在与上述照射光的光路对应的位置上，设有使上述照射光透过的透光部件(61)。