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公开(公告)号：CN101470357B
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN200810185297.8
申请日：2008-12-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种不需要复杂的结构就能够一边使粘着辊与转印辊接触一边对掩模表面和载物台表面或者工件表面同时进行除尘的曝光装置。对于各曝光部(2、4)内的清洁单元(12)，使粘着辊(57、57)突出并旋转自如地枢轴支承在分别与掩模(10)和载物台(8)对置的一侧。这两个粘着辊(57、57)的外周面和平行于该粘着辊地枢轴支承的大径转印辊(58)的外周面彼此接触。进而，Y-Z载物台(40)使粘着辊(57)与掩模(10)接触并对该掩模(10)的表面进行除尘，使粘着辊(57)与载物台(8)的上表面接触并对该载物台(8)的上表面进行除尘。另外，反转装置(9)使吸附基座(30)以旋转轴为中心进行旋转，吸附基座(30)越过水平方向停止在倾斜的位置，在利用清洁单元(13)对工件(W)的表面进行除尘之后，使所述吸附基座(30)朝向水平方向。
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公开(公告)号：CN101315524B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200810108859.9
申请日：2008-05-29
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种基板搬运装置，不用将基板的预备位置决定机构设置于搬入台、曝光台，却可在搬运至曝光台之前进行基板的预备位置决定，且销的设置位置调整也简化作为课题。基板搬运装置包括：预备位置决定机构(2)，押动上述搬入台(30)上的基板(W)的端面，进行预备位置决定；以及搬运机构(20)，将此预备位置决定机构藉由支持本体(12)支持，且将预备位置决定完成的基板吸着保持而搬运至上述曝光台(40)；其中上述预备位置决定机构系，具有被支持在上述支持本体的驱动装置(6)、以及藉由此驱动装置驱动而押动上述基板的端面的押动装置(3)；上述驱动装置系，具有圆筒形的磁性轴体(7)、使此磁性轴体在轴周围转动的转动装置(8)、以及与藉由此转动装置转动的磁性轴体的周面相对而设置的直线状的第一纵长磁性体(9A)和第二纵长磁性体(9B)。
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公开(公告)号：CN101470357A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200810185297.8
申请日：2008-12-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种不需要复杂的结构就能够一边使粘着辊与转印辊接触一边对掩模表面和载物台表面或者工件表面同时进行除尘的曝光装置。对于各曝光部(2、4)内的清洁单元(12)，使粘着辊(57、57)突出并旋转自如地枢轴支承在分别与掩模(10)和载物台(8)对置的一侧。这两个粘着辊(57、57)的外周面和平行于该粘着辊地枢轴支承的大径转印辊(58)的外周面彼此接触。进而，Y－Z载物台(40)使粘着辊(57)与掩模(10)接触并对该掩模(10)的表面进行除尘，使粘着辊(57)与载物台(8)的上表面接触并对该载物台(8)的上表面进行除尘。另外，反转装置(9)使吸附基座(30)以旋转轴为中心进行旋转，吸附基座(30)越过水平方向停止在倾斜的位置，在利用清洁单元(13)对工件(W)的表面进行除尘之后，使所述吸附基座(30)朝向水平方向。
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公开(公告)号：CN1841202A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610066090.X
申请日：2006-03-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 一种曝光工作台，和能流畅地进行一系列作业且可提高基板品质的曝光装置，曝光工作台即使是较薄的基板也能够适当地吸附保持，且即使在基板周缘呈波浪状的状态下也能够进行保持，在基板的载置面因使用而磨损的情况下，也能以简单的结构进行更换等，保养作业性优良。该曝光工作台(7)包括：基板的载置板(8)；工作台主体(9)；设置在载置板上的多个吸附孔；连通通道，其形成于工作台主体并与吸附孔连通，吸附孔具有第一吸附孔(8a)和第二吸附孔(8b)，第二吸附孔形成为小于第一吸附孔的小孔(8b1)，并形成为将多个小孔相邻地集合起来的吸附孔群，吸附孔群沿着基板的周缘的纵边和横边的至少一方，按规定间隔配置在预先设定的位置上。
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公开(公告)号：CN100535754C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200510076091.8
申请日：2005-05-31
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H05K3/06
Abstract: 本发明提供一种可进行有效且迅速的检查维护作业的并使用于曝光装置的掩模框架搬运装置。该掩模框架搬运装置在壳体内用于通过掩模在基板上进行基板与上述掩模的相面对位置的整合作业及曝光作业的曝光装置，并搬运掩模框架，掩模框架保持与承载上述基板的承载台相对配置的上述掩模，具备：支撑框架，支撑上述掩模框架；输送辊子，设于该支撑框架上，并且将上述掩模框架向预先设定的移动方向搬运；导引框架，具有调整为该输送辊子的搬运高度的导引辊子，沿着上述移动方向与上述支撑框架邻接设置；安装机构，将该导引框架收容于上述壳体的内侧，同时，安装成能够沿着上述移动方向朝上述壳体外侧自由伸出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100495217C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200610167089.6
申请日：2006-12-14
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，使对于光罩薄膜及基板的空气的送风状态达到适当，而且使曝光室内对光罩薄膜及基板送风的空气的流体环境达到适当。曝光装置(1)包括：设于上述曝光室(R2)内的一侧壁上、沿着成为上述支持框(31)的光照射侧的面而供给预设温度及湿度的空气的供给口(3)；设于上述供给口的下方、通过上述支持框与上述载置台(30)之间而送来的空气以及排出上述曝光室内的空气用的侧壁面排出口(5)；设于上述曝光室的另一侧壁且将从上述供给口送来的空气的送风方向至少改变至通过上述支持框与载置台之间而朝向上述侧壁面排出口的送风方向变更装置(4)；使从上述侧壁面排出口排出的空气经过过滤器而进入的同时、调整成预设的温度及湿度而输送至上述供给口的温度湿度调整装置(2)。
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公开(公告)号：CN100533274C
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200510075829.9
申请日：2005-05-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，用简易的结构防止因感光树脂产生的挥发物质造成复眼透镜表面的污染。所述曝光装置具备：具有光源、反射镜及复眼透镜的光源室；以及经由分隔板而与该光源室分隔的曝光室，具备：收容上述复眼透镜的壳体；以及送风装置，将冷却风送至收容于上述壳体内的复眼透镜；上述壳体具有：开口部，形成于来自上述光源的照射光与相对于上述复眼透镜的入射光路及射出光路对应的位置上；进气口，形成于与该开口部的开口方向正交的位置上，并连结上述送风装置；以及排气口，形成于与该进气口相向的位置上，从而在上述壳体内形成一直线状的送风路径；在上述分隔板上，在与上述照射光的光路对应的位置上，设有使上述照射光透过的透光部件。
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公开(公告)号：CN100487585C
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200610066090.X
申请日：2006-03-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 一种曝光工作台，和能流畅地进行一系列作业且可提高基板品质的曝光装置，曝光工作台即使是较薄的基板也能够适当地吸附保持，且即使在基板周缘呈波浪状的状态下也能够进行保持，在基板的载置面因使用而磨损的情况下，也能以简单的结构进行更换等，保养作业性优良。该曝光工作台(7)包括：基板的载置板(8)；工作台主体(9)；设置在载置板上的多个吸附孔；连通通道，其形成于工作台主体并与吸附孔连通，吸附孔具有第一吸附孔(8a)和第二吸附孔(8b)，第二吸附孔形成为小于第一吸附孔的小孔(8b1)，并形成为将多个小孔相邻地集合起来的吸附孔群，吸附孔群沿着基板的周缘的纵边和横边的至少一方，按规定间隔配置在预先设定的位置上。
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公开(公告)号：CN101315524A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200810108859.9
申请日：2008-05-29
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种基板搬运装置，不用将基板的预备位置决定机构设置于搬入台、曝光台，却可在搬运至曝光台之前进行基板的预备位置决定，且销的设置位置调整也简化作为课题。基板搬运装置包括：预备位置决定机构(2)，押动上述搬入台(30)上的基板(W)的端面，进行预备位置决定；以及搬运机构(20)，将此预备位置决定机构藉由支持本体(12)支持，且将预备位置决定完成的基板吸着保持而搬运至上述曝光台(40)；其中上述预备位置决定机构系，具有被支持在上述支持本体的驱动装置(6)、以及藉由此驱动装置驱动而押动上述基板的端面的押动装置(3)；上述驱动装置系，具有圆筒形的磁性轴体(7)、使此磁性轴体在轴周围转动的转动装置(8)、以及与藉由此转动装置转动的磁性轴体的周面相对而设置的直线状的第一纵长磁性体(9A)和第二纵长磁性体(9B)。
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公开(公告)号：CN1983038A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200610167089.6
申请日：2006-12-14
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，使对于光罩薄膜及基板的空气的送风状态达到适当，而且使曝光室内对光罩薄膜及基板送风的空气的流体环境达到适当。曝光装置(1)包括：设于上述曝光室(R2)内的一侧壁上、沿着成为上述支持框(31)的光照射侧的面而供给预设温度及湿度的空气的供给口(3)；设于上述供给口的下方、通过上述支持框与上述载置台(30)之间而送来的空气以及排出上述曝光室内的空气用的侧壁面排出口(5)；设于上述曝光室的另一侧壁且将从上述供给口送来的空气的送风方向至少改变至通过上述支持框与载置台之间而朝向上述侧壁面排出口的送风方向变更装置(4)；使从上述侧壁面排出口排出的空气经过过滤器而进入的同时、调整成预设的温度及湿度而输送至上述供给口的温度湿度调整装置(2)。
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