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公开(公告)号：CN102695987B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201080060384.6
申请日：2010-12-10
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/11
CPC classification number: G03F7/0752 , G03F7/09 , G03F7/11
Abstract: 根据本发明的一个实施方式，一种光致抗蚀剂底层组合物，包括（A）下述化学式1表示的聚硅氧烷树脂和（B）溶剂。根据化学式1：{(SiO1.5-Y-SiO1.5)x(SiO2)y(XSiO1.5)z}(OH)e(OR1)f，所述光致抗蚀剂底层能够具有优良的储存性和耐蚀刻性，并且具有可容易控制的表面特性，以及能够使光致抗蚀剂图案稳定地形成。
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公开(公告)号：CN102819192B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201210272558.6
申请日：2009-12-30
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08K5/54 , G03F7/0752
Abstract: 本发明提供了一种抗蚀剂下层组合物及利用其制造集成电路器件的方法。所述抗蚀剂下层组合物包括由以下化学式1至3表示的化合物中的至少一种以及由以下化学式4和5表示的化合物中的至少一种的有机硅烷基聚合产物，以及溶剂。在以下化学式1至5中，R1至R10、X、n以及m与在说明书中所限定的相同。[化学式1] [R1]3Si-(CH2)nR2[化学式2][化学式3] [R6]3Si-R7-Si[R6]3[化学式4] [R8]3Si-R9[化学式5] [R10]3Si-X-Si[R10]3。
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公开(公告)号：CN101910947B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN200880124489.6
申请日：2008-12-31
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/11
CPC classification number: H01L21/31144 , C08G77/16 , C08G77/50 , C08G77/52 , C08G77/70 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/0332 , H01L21/3081 , H01L21/3122 , H01L21/32139
Abstract: 本发明提供了一种硅基硬掩模组合物。该硬掩模组合物包含(a)有机硅烷聚合物及(b)溶剂。该有机硅烷聚合物以式1表示：{(SiO1.5-Y-SiO1.5)x(R3SiO1.5)y(XSiO1.5)z}(OH)e(OR6)f(1)。在式1中，x、y及z表示聚合物中的重复单元(SiO1.5-Y-SiO1.5)、(R3SiO1.5)及(XSiO1.5)的相对比例，且满足关系式0.05≤x≤0.9、0.05≤y≤0.9、0≤z≤0.9及x+y+z＝1；e及f分别表示键结至硅(Si)原子的末端-OH基数目及末端-OR基数目对聚合物中的2x+y+z硅(Si)原子数目之比，且满足关系式0.03≤e≤0.2及0.03≤f≤0.25；X为含有至少一个经取代或未经取代的芳香环的C6-C30官能基；R3为C1-C6烷基；Y为选自由芳香环、经取代或未经取代的直链或支链C1-C20亚烷基、主链中含有至少一个芳香环或杂环系环或具有至少一个脲基或异氰尿酸酯基的C1-C20亚烷基及含有至少一个多重键的C2-C20烃基所组成的组中的连接基；及R6为C1-C6烷基。
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公开(公告)号：CN101506941B
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN200680055586.5
申请日：2006-12-31
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/075 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/31144 , C08G77/04 , C09D183/04 , H01L21/0276
Abstract: 一种处理抗蚀剂下层膜的硬掩模组合物，包含溶剂和有机硅聚合物，其中有机硅聚合物由结构式6表示：在结构式6中，R是甲基或乙基，R′是取代或未取代的环状或无环烷基，Ar是含芳环官能团，x、y和z满足关系式x+y＝4，0.4≤x≤4，0≤y≤3.6，和4×10-4≤z≤1，而n为约3至约500。
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公开(公告)号：CN101256315A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200810007708.4
申请日：2008-02-29
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: C08G73/10 , G02F1/133723 , Y10T428/1023
Abstract: 本发明提供了一种适用于生产液晶显示装置的液晶取向剂。所述液晶取向剂含有选自聚酰胺酸和可溶性聚酰亚胺中的至少一种聚合物、非质子极性溶剂以及单乙二醇二甲醚或二丙二醇二甲醚。所述液晶取向剂具有令人满意的可印刷性。本发明还提供了使用所述取向剂形成的液晶取向层。所述液晶取向层非常均匀。
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公开(公告)号：CN101042533A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710007513.5
申请日：2007-01-30
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/075 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供了硬掩模组合物，该组合物含有通过一种或多种式(I)化合物的反应所制备的有机硅烷聚合物，其中，R1、R2和R3可以各自独立地为烷基、乙酰氧基或肟；且R4可以是氢、烷基、芳基或芳烷基；并且其中有机硅烷聚合物具有大约1.1至大约2的多分散性。Si(OR1)(OR2)(OR3)R4(I)
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公开(公告)号：CN1333486C
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN03141230.0
申请日：2003-06-05
CPC classification number: H01M10/0525 , H01M4/131 , H01M4/133 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M10/0567 , H01M10/0569 , H01M10/058 , H01M10/446 , H01M2300/0025 , H01M2300/0042 , Y10T29/49108
Abstract: 本发明公开一种锂蓄电池，其包括：正极，其包括作为正极活性材料的能够可逆地嵌入/放出锂离子的材料；负极，其包括作为负极活性材料的能够可逆地嵌入/放出锂离子的材料；电解质，其包括锂盐、碳酸酯基有机溶剂和下式(1)表示的异噁唑化合物。
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公开(公告)号：CN1927845A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200510098322.5
申请日：2005-09-07
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07D251/30 , C09K19/38
CPC classification number: C08G73/1085 , G02F1/133723 , Y10T428/10 , Y10T428/1005 , Y10T428/1018
Abstract: 在此公开了一种LC取向剂，其使用了具有树枝状侧链的二胺。具体而言，本发明涉及一种用于LC取向膜的组合物，其使用具有树枝状侧链的二胺来制备聚酰胺酸，接下来进行酰酰亚胺化反应。当该LC取向膜应用于液晶显示装置时，保证了高耐热性、可见光区的高穿透性、优良的取向性和高电压保持率。即使其包含了少量的官能化二胺，也能够确保高的预倾角。因此容易控制该预倾角并且提高了垂直取向力。
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