微加工部件的制作方法
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102084272B

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN200980108705.2

    申请日:2009-12-17

    Applicant: 索尼公司

    CPC classification number: G02B1/118

    Abstract: 一种用于制作微加工部件的方法,其包括如下步骤:在具有曲面的压模上形成无机抗蚀剂层;对在压模上形成的无机抗蚀剂层进行曝光和显影,以便在无机抗蚀剂层上形成图案;以及将在无机抗蚀剂层上设置有图案的压模放置在具有与压模的曲面几乎相同或类似的曲面的电极上,并且蚀刻压模以在压模表面上形成不平坦形状,以便制造微加工部件。

    光学元件和制造光学元件的方法

    公开(公告)号:CN102004271B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201010265375.2

    申请日:2010-08-26

    Applicant: 索尼公司

    CPC classification number: G02B1/118 G02B27/0018

    Abstract: 本发明公开了具有防反射功能的光学元件和制造该光学元件的制造方法。该光学元件包括:基体,具有第一主表面和第二主表面;多个结构体,由凸部或凹部组成,以等于或小于等于反射量将被减小的可见光的波长的微小节距而被配置在第一主表面上;以及光吸收层,用于吸收光并且被布置在第二主表面上,其中,这些结构体被配置为在第一主表面上形成多列轨迹,并形成六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案或者准四方点阵图案,并且这些结构体均具有椭圆锥形状或者截顶椭圆锥形状,其长轴方向为轨迹的延伸方向。

    光学元件
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101952746B

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN200980100416.8

    申请日:2009-07-15

    Applicant: 索尼公司

    CPC classification number: G02B1/118 G02B1/11 G02B1/115 G02B5/045

    Abstract: 一种光学元件,设置有:基体;主结构,即凸部或凹部,以及副结构,主结构和副结构形成在所述基体表面上。主结构在基体表面上形成多行轨道,并且以等于或小于可见光波长的微细间距被周期性重复设置。副结构小于主结构,并且被设置在主结构之间、主结构的排列的空隙中或者主结构的表面上。

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