一种钼镍合金靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN112813393B

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202011637587.9

    申请日:2020-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种钼镍合金靶材,由以下质量组分组成:Ni元素5%‑50%,余量为Mo元素,以上组分的质量分数百分比为100%。本发明钼镍合金靶材的制备方法,采用放电等离子体烧结技术,通过调节直流脉冲电流的大小来控制升温速率和烧结温度,具有升温速度快、烧结时间短、节能环保,工艺简单,成本低的特点,实现了钼镍合金靶材的短流程制备,同时所制备的钼镍合金靶材具有晶粒细小、高致密度的特点。

    一种钼钠合金板状靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN112813397B

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202011637456.0

    申请日:2020-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种钼钠合金板状靶材的制备方法,包括:先将钼酸钠和粘结剂用去离子水溶解混合均匀后,再加入钼粉,并经喷雾造粒后得到钼钠合金粉末,最后对钼钠合金粉末进行脱碳处理;对步骤1得到的钼钠合金粉末进行低压预压制,得到初始压坯;将初始压坯置于石墨模具中,然后将石墨模具置于SPS烧结炉中加压,并进行抽真空;最后对SPS烧结炉进行增加电流升温烧结、卸压、冷却,得到钼钠合金坯料;将钼钠合金坯料进行机加工、打磨抛光得到钼钠合金板状靶材成品。通过SPS技术实现了升温/降温速率快、烧结时间短、节能环保,工艺简单,成本低,实现了钼钠合金板状靶材的短生产周期制备。

    一种蝶形钼钨双金属复合旋转靶的制备方法

    公开(公告)号:CN110293223B

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN201910663911.5

    申请日:2019-07-23

    Abstract: 本发明公开了一种蝶形钼钨双金属复合旋转靶的制备方法,该方法包括:一、向蝶形石墨模具的筒体与下模组成的腔体内装填Mo‑W粉末,采用上模预压形成钼钨粉层;二、向钼钨粉层上装填钨粉形成钨粉层,然后盖上上模进行真空热压烧结,得蝶形钼钨双金属复合旋转靶粗品;三、将蝶形钼钨双金属复合旋转靶粗品进行热处理,经机加工得蝶形钼钨双金属复合旋转靶。本发明采用Mo‑W粉末作为复合旋转靶的基体材料,有效提高了复合旋转靶中靶面与基体的结合强度,避免了使用过程中靶面与基体的开裂分层,延长了复合旋转靶的使用寿命,解决了钼钨金属复合靶的复合压制分层和烧结以及锻打开裂问题,且提高了复合旋转靶的一次成形成品率。

    一种钼镍合金靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN112813393A

    公开(公告)日:2021-05-18

    申请号:CN202011637587.9

    申请日:2020-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种钼镍合金靶材,由以下质量组分组成:Ni元素5%‑50%,余量为Mo元素,以上组分的质量分数百分比为100%。本发明钼镍合金靶材的制备方法,采用放电等离子体烧结技术,通过调节直流脉冲电流的大小来控制升温速率和烧结温度,具有升温速度快、烧结时间短、节能环保,工艺简单,成本低的特点,实现了钼镍合金靶材的短流程制备,同时所制备的钼镍合金靶材具有晶粒细小、高致密度的特点。

    一种制备二硫化钼溅射靶材的方法

    公开(公告)号:CN107815654B

    公开(公告)日:2020-02-11

    申请号:CN201711140433.7

    申请日:2017-11-16

    Abstract: 本发明公开了一种制备二硫化钼溅射靶材的方法,该方法包括:一、将二硫化钼原料粉末进行低压压制处理,得到二硫化钼坯料;二、将二硫化钼坯料在惰性气体保护下进行球磨,得到二硫化钼粉末;三、将二硫化钼粉末装入胶套内进行冷等静压处理,得到二硫化钼成形坯料;四、将二硫化钼成形坯料装入包套中,抽真空焊封后进行热等静压烧结处理,再除去包套,得到二硫化钼靶材粗品;五、将二硫化钼靶材粗品进行机械加工和清洗,得到二硫化钼溅射靶材。本发明采用低压压制和球磨工艺,将二硫化钼原料粉末由不规则片状结构转变为类球形颗粒状结构,提高了粉末的可压性,增强了粉末之间的结合力,改善了二硫化钼溅射靶材的质量。

    一种二硫化钼溅射靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN107904564A

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201711138071.8

    申请日:2017-11-16

    CPC classification number: C23C14/3414 C23C14/0623

    Abstract: 本发明公开了一种二硫化钼溅射靶材的制备方法,该方法包括以下步骤:一、将二硫化钼原料粉末进行低压压制,得到二硫化钼压制坯料;二、将二硫化钼压制坯料进行粉碎,得到二硫化钼粉末;三、将二硫化钼粉末进行高压压制,得到二硫化钼成形坯料;四、将二硫化钼成形坯料进行真空低温烧结,得到二硫化钼毛坯;五、将二硫化钼毛坯进行机械加工,得到二硫化钼溅射靶材。本发明将二硫化钼原料粉末压制后粉碎得到二硫化钼粉末,提高了二硫化钼粉末的可压性和可烧结性,然后将高压压制工艺和真空低温烧结工艺相结合制备二硫化钼溅射靶材,避免了加工设备对产品尺寸的限制,扩大了二硫化钼溅射靶材的尺寸范围,提高了生产效率。

    一种钼铼镧合金材料的制备方法

    公开(公告)号:CN106756157B

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:CN201611053781.6

    申请日:2016-11-25

    Abstract: 本发明提供了一种钼铼镧合金材料的制备方法,包括以下步骤:一、对钼铼镧合金材料的成分进行设计,然后按设计成分分别称取纳米氧化镧粉、铼粉和二氧化钼粉;二、再次称取纳米氧化镧粉;三、将步骤一和二所称取的纳米氧化镧粉混合均匀后加入去离子水中,分散后过滤,得到滤液;四、将铼粉加入到滤液中,分散后得到混合液,然后加入二氧化钼粉中;五、利用氢气进行还原,得到还原物料,筛分后混料,得到还原合金粉;六、进行等静压成型,得到压坯,烧结后得到钼铼镧合金材料。本发明合金材料颗粒均匀细小,板坯断口中晶粒细小,晶界清晰纯净,晶界、晶内无可见团聚第二相颗粒,说明本发明合金材料中纳米颗粒分散效果好,满足技术要求。

    一种制备钼靶的方法
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103132033B

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201310098029.3

    申请日:2013-03-26

    Abstract: 本发明公开了一种制备钼靶的方法,该方法为:一、将钼粉压制成钼坯料,置于高温炉内进行预烧结得到预烧结坯;二、将预烧结坯置于高温炉内进行烧结,得到高纯钼金属坯;三、将高纯钼金属坯送入马弗炉中加热,然后对加热后的高纯钼金属坯进行压力加工,得到钼板;四、将钼板加热,冷却后进行机械加工;五、将经机械加工后的钼板清洗干净,与金属背板绑定,得到钼靶。本发明采用在低压力下进行预烧结,能够降低杂质熔点,创造杂质挥发条件,有利于去除材料中的气体元素和低熔点杂质,尤其是降低了材料中的C、O、Si、Cr、Ca、K、Mg、Ti、Ni等杂质元素含量,显著提高了制成品的纯度,保证了钼溅射靶材的纯度和产品质量。

    一种钠掺杂钼平面靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN105112859A

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201510594613.7

    申请日:2015-09-17

    Abstract: 本发明公开了一种钠掺杂钼平面靶材的制备方法,该方法为:一、将钼粉和二水合钼酸钠的混合粉末与去离子水搅拌均匀,喷雾干燥处理后得到钠掺杂钼颗粒;二、将钠掺杂钼颗粒装入冷等静压模具后密封,然后进行冷等静压压制,压制后去除冷等静压模具,得到板坯;三、对板坯进行包套处理,然后抽真空密封;四、将板坯热压烧结,然后进行去包套处理,得到钠掺杂钼平面靶材。本发明制备成本低、材料利用率高且靶材中Na含量和组织可控、产品一致性好,能够较好的满足工业化生产用钠掺杂钼平面靶材的需求。

    一种钼钠合金材料的制备方法

    公开(公告)号:CN103898345A

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:CN201410178165.8

    申请日:2014-04-29

    Abstract: 本发明提供了一种钼钠合金材料的制备方法,包括以下步骤:一、制备造粒钼粉;二、将造粒钼粉进行压制成坯,然后进行烧结处理,得到钼骨架;三、将钼酸钠坯铺设于钼骨架顶部,然后进行熔渗处理,得到半成品材料;四、进行均匀化处理,得到钼钠合金材料。与传统的热等静压制备工艺相比,本发明制备工艺更加易于控制,对设备要求低,制备周期短,所制备的钼钠合金材料的组织和性能稳定,致密性良好,可实现批量化稳定生产,具有广泛的应用前景。

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