직접환원동 제조 장치 및 방법
    12.
    发明授权
    직접환원동 제조 장치 및 방법 有权
    直接还原铜制造设备和方法

    公开(公告)号:KR101842092B1

    公开(公告)日:2018-03-26

    申请号:KR1020160046134

    申请日:2016-04-15

    Abstract: 본발명은직접환원동제조장치및 방법에관한것이다. 보다상세하게는동 및동합금제련시발생하는동 부산물로부터유동층환원반응을이용하여고순도의동으로환원하여회수하는직접환원동제조장치및 방법에관한것이다. 본발명에따른직접환원동제조장치는동 부산물및 환원가스가각각공급되도록형성되어, 상기동 부산물이상기환원가스에의해환원반응하여고체상태의동이생성되도록형성되는반응기; 상기반응기에서생성된동을상기반응기로부터배출저장되도록상기반응기의하단부에연통형성되는금속회수부; 상기반응기에서미반응한환원가스가배출되는가스버닝장치; 상기동 부산물이상기가스버닝장치로배출되지않도록상기반응기상부에설치되는배플;을포함한다.

    Abstract translation: 直接还原铜的设备和方法 更具体地说,本发明涉及一种直接还原铜的设备和方法,该设备和方法是通过使用铜和铜合金熔炼期间产生的铜副产物的流化床还原反应通过高纯度铜回收铜而回收的。 根据本发明的用于生产直接还原铜的设备包括分别供应铜副产物和还原气体的反应器,从而通过铜副产物重定向还原气体的还原反应来生产固态铜; 金属回收单元,与反应器的下端连通,以便将反应器中产生的铜从反应器排出; 一种气体燃烧装置,其中未反应的还原气体从反应器排出; 安装在反应器上部的挡板不会排放到铜副产品异常燃气装置中。

    가스 분산판을 가지는 유동층 반응기
    13.
    发明公开
    가스 분산판을 가지는 유동층 반응기 有权
    流化床反应器与气体分配板

    公开(公告)号:KR1020150118788A

    公开(公告)日:2015-10-23

    申请号:KR1020140044855

    申请日:2014-04-15

    CPC classification number: B01J8/24 B01J8/44

    Abstract: 본발명은가스분산판을가지는유동층반응기에관한것으로서, 더욱구체적으로는유동층반응기에서저융점금속의환원이가능하도록분산판을통한입자의역류나금속용융물의고착을방지하고, 분산판등의클리닝이용이하며, 환원반응후 발생한슬래그의배출이용이하도록하는가스분산판을가지는유동층반응기에관한것이다. 본발명에따른가스분산판을가지는유동층반응기는, 반응기본체; 및상기반응기본체내에지면을기준으로 5~71°의각도로경사지게설치되고, 지면을기준으로 4~70°의각도로경사지는분산판베플이간격을가지고서나란하게다수로마련되며, 상기분산판베플사이에가스의통과를위한슬릿이형성되는분산판;을포함한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种具有气体分布板的流化床反应器,更具体地说,涉及一种具有气体分配板的流化床反应器,该气体分布板防止颗粒通过分布板回流或熔化金属的粘附以使其能够熔化 在流化床反应器中要还原的金属,并且有利于分配板的清洁和还原反应后产生的炉渣的排出。 具有根据本发明的气体分配板的流化床反应器包括:反应器体; 并且相对于反应器主体中的地面倾斜设置为相对于地面为5-71°的分配板配备有多个分配板挡板,其相对于地面倾斜4-70° 并且在分配板挡板之间形成有通过气体的狭缝。

Patent Agency Ranking