-
公开(公告)号:KR100567521B1
公开(公告)日:2006-04-03
申请号:KR1020000074629
申请日:2000-12-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67109
Abstract: 본 발명은, 기판을 가열·냉각처리하는 장치로서, 기판을 얹어 놓고 가열처리하는 가열대와, 기판을 얹어놓고 냉각처리하는 냉각대와, 기판을 대기시키는 대기대와, 상기 가열대와 상기 냉각대와 상기 대기대와의 사이에서 기판을 반송하는 반송기구와, 상기 가열대, 냉각대 및 대기대가 배치된 공간내에 기류를 형성하는 기류형성수단을 구비하고 있다. 냉각처리의 경우에는 냉각대상에 기판을 얹어놓는 것이므로 기판 전체를 균일하게 냉각처리할 수가 있다. 이로써 고정밀도인 냉각처리가 지연없이 행하여지고, 가열, 냉각처리에 관한 시간관리에 우수하다. 따라서 기판의 면내 온도분포의 균일화를 도모함과 동시에, 복수의 기판을 냉각처리하더라도 각 기판의 냉각효과를 동일하게 할 수가 있다. 또한 고정밀도인 냉각처리의 이행을 종래보다도 신속하게 행하는 수 있어 패턴의 변형이나 재현성의 악화를 방지할 수가 있다.
-
公开(公告)号:KR1020010051755A
公开(公告)日:2001-06-25
申请号:KR1020000068318
申请日:2000-11-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67248 , G05B11/42 , G05D23/1917 , H01L21/67109
Abstract: PURPOSE: A heat treatment apparatus, cooling method and apparatus are provided to shorten the recovery time. CONSTITUTION: A baking apparatus(34) comprises a temperature control unit(62), which controls a heater(61) in hot plate(60) with a PID, and a parameter- changing unit(63) controlled with the PID, which changes each control parameter for each different temperature. A cooling apparatus comprises a temperature control unit, which controls a peltier element in a cooling plate in the PID and a parameter-changing unit controlled with PID, which changes each control parameter based on the temperature of the cold plate detected by a temperature sensor.
Abstract translation: 目的:提供一种热处理装置,冷却方法和装置,以缩短恢复时间。 构成:烘烤装置(34)包括温度控制单元(62),其利用PID控制加热板(60)中的加热器(61),以及由PID控制的参数改变单元(63),其改变 每个不同温度的控制参数。 冷却装置包括温度控制单元,其控制PID中的冷却板中的珀耳帖元件和由PID控制的参数改变单元,其基于由温度传感器检测到的冷板的温度来改变每个控制参数。
-