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公开(公告)号：KR100168351B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950012904
申请日：1995-05-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 반도체 클린 룸에 대해 기재되어 있다. 이는 천정에 주 덕트와 부 덕트가 배치되어 있고, 바닥에 펌프 스태이지가 배치되어 있는 플리넘 및 덕트 샤프트가 중앙복도를 따라 배치되어 있는 클린 영역을 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 덕트의 용량을 용이하게 증가시킬 수 있고, 스태이지와 스태이지 사이의 왕복을 용이하게 할 수 있으며, 클린 영역의 공간 활용에 대한 제한을 줄일 수 있다. 또한, 플리넘 내의 기류의 유동이 차단되는 것을 방지할 수 있고, 스태이지 상에 설치되는 장비의 변경 혹은 증가를 용이하게 할 수 있다.
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