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公开(公告)号：KR100561844B1
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：KR1020030069729
申请日：2003-10-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02B3/00
CPC classification number: G02B3/0031 , B29D11/00278 , G02B5/1852 , G02B5/1885 , G02B13/0085
Abstract: 본 발명은 마이크로 렌즈 어레이에 관한 것이다. 굴절 렌즈 및 회절 렌즈를 포함하는 하이브리드형 마이크로 렌즈 어레이에 있어서, 굴절 렌즈; 상기 굴절 렌즈의 구면에 접합하여 비구면을 형성하는 제 1 자외선 경화 물질; 상기 굴절 렌즈를 삽입하여 지지하는 오목부를 포함하는 지지 기판; 및 상기 지지 기판 상의 상기 굴절 렌즈에 대응되는 위치에 형성된 회절 렌즈;를 포함하는 것을 특징으로 하는 하이브리드형 마이크로 렌즈 어레이 및 그 제조 방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020050086160A
公开(公告)日：2005-08-30
申请号：KR1020040012536
申请日：2004-02-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , Y10S430/143 , G03F7/70383
Abstract: 전자빔 노광 방법에 관해 개시되어 있다. 개시된 본 발명은 전자빔 노광 대상의 노광 영역에 메인 필드를 설정하고, 상기 메인 필드에 복수의 서브 필드를 설정하는 제1 단계, 노광하려는 메인 필드를 선택하는 제2 단계, 상기 선택된 메인 필드에서 적어도 하나의 서브 필드를 선택하는 제3 단계, 상기 선택된 서브 필드에 대한 전자빔 노광을 실시하는 제4 단계 및 상기 선택된 서브 필드에 이웃하지 않으면서 노광도 되지 않은 적어도 하나의 다른 서브 필드를 선택하여 전자빔 노광을 실시하는 제5 단계를 포함하는 전자빔 노광 방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020000021729A
公开(公告)日：2000-04-25
申请号：KR1019980040978
申请日：1998-09-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F16D1/08
Abstract: PURPOSE: A coupling is provided to be used repeatedly as a screw to connect by fixing a driving shaft of a motor and the screw. CONSTITUTION: A driving shaft(12) and a screw are inserted into a connecting hole(42) in both ends of a coupling(40) in a certain depth. The driving shaft(12) and the screw(30) are inserted to pass a point forming a hole of screw(46). Then, the driving shaft(12) and the screw(30) inserted in the connecting hole(42) of the coupling are fixed in the coupling(40) by connecting a connecting screw(22) in the hole of screw(42). Because the driving shaft and the screw are fixed with four connecting screws in the coupling, the driving shaft and the screw is strongly fixed in the coupling, and the repeated use of coupling is possible.
Abstract translation: 目的：通过固定电动机的驱动轴和螺钉，提供一个连接件作为螺钉重复使用。 构成：驱动轴（12）和螺钉以一定的深度插入到联轴器（40）的两端的连接孔（42）中。 驱动轴（12）和螺钉（30）被插入以通过形成螺钉（46）的孔的点。 然后，通过将螺钉（42）的孔中的连接螺钉（22）连接，插入联轴器的连接孔（42）中的驱动轴（12）和螺钉（30）固定在联轴器（40）中。 由于驱动轴和螺钉用联轴器中的四个连接螺丝固定，所以驱动轴和螺钉牢固地固定在联轴器中，并且可以重复使用联轴器。
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公开(公告)号：KR1020000014971A
公开(公告)日：2000-03-15
申请号：KR1019980034641
申请日：1998-08-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: PURPOSE: The wafer stage can prevent the destruction or the position variation of a fiducial mark(7) by making a ceramic stone(5) or the hand of an engineer out of reach from the fiducial mark when cleaning. CONSTITUTION: The wafer stage prevents the destruction and the position variation of the fiducial mark due to the contact with the fiducial mark when cleaning a ceramic chuck(3) stacked with particles by attaching an additional guide(6) between the ceramic chuck and the fiducial mark, by screwing a guide(6) on the side of the ceramic chuck. The method can prevent the inferiority of a pattern focus with TTLAF(lens auto focus calibration) and the inferiority due to the variation of a base line. The guide is attached by combining a screw(13) through a penetration hole(14) into a combination hole(12) formed on a side(9) of the ceramic chuck.
Abstract translation: 目的：当清洁时，晶片台可以通过制作陶瓷石（5）或工程师的手从基准点到达，防止基准标记（7）的破坏或位置变化。 构成：当通过在陶瓷卡盘和基准之间附加另外的引导件（6）来清洁用颗粒堆叠的陶瓷卡盘（3）时，晶片台防止由于与基准标记的接触而导致的基准标记的破坏和位置变化 通过在陶瓷卡盘的侧面上旋转引导件（6）来标记。 该方法可以防止TTLAF（透镜自动对焦校准）的图案焦点的劣势以及由于基线的变化引起的劣势。 通过将穿过穿孔（14）的螺钉（13）组合到形成在陶瓷卡盘的侧面（9）上的组合孔（12）中来连接引导件。
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公开(公告)号：KR1019930011504A
公开(公告)日：1993-06-24
申请号：KR1019910021543
申请日：1991-11-28
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김해성
IPC: H04L13/02
Abstract: DTE와 연결되는 모뎀이 문자 정보 처리시 데이타 압축 기법에 의해 문자열 정보를 압축하여 코드로 저장하고, DTE로부터 문자 정보 요구시 해당 코드를 복호하여 DTE로 출력한다. 이를 위하여 모뎀은 문자열 데이타를 수신시 각 문자 데이타를 순차적으로 억세스하며, 해당 문자 + 스트링이 존재하는가 유무를 분석한후 상태에 따라 문자 데이타를 압축하여 부호화 한다. 그리고 문자열 데이타를 모두 압축하면, 압축된 문자열 데이타를 메모리에 순차적으로 저장한다. 이후 DTE로부터 해당 문자열에 대한 명령어 수신시 모뎀을 메모리로부터 저장된 압축데이타를 순차적으로 억세스하여 복호화 한후 DTE로 출력한다.
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公开(公告)号：KR1020120113532A
公开(公告)日：2012-10-15
申请号：KR1020110031284
申请日：2011-04-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B08B17/06 , H01L21/027 , B82B1/00
CPC classification number: H02S40/10 , Y10T428/24479 , B08B17/065 , H01L21/0274 , H01L31/042 , Y02E10/50
Abstract: PURPOSE: A super-hydrophobic structure is provided to obtain super-hydrophobicity because an air collecting area between droplets and a solid surface is extended by a recessed structure. CONSTITUTION: A super-hydrophobic structure(30) comprises a recessed pattern(40) and a second recessed pattern(50). The first pattern has recessed grooves(41) dented on a solid surface. A second recessed groove(51) of the second recessed pattern is smaller than the first recessed groove recessed on an upside of a wall(45).
Abstract translation: 目的：提供超疏水结构以获得超疏水性，因为液滴和固体表面之间的空气收集区域通过凹陷结构延伸。 构成：超疏水结构（30）包括凹形图案（40）和第二凹陷图案（50）。 第一图案具有在固体表面上凹陷的凹槽（41）。 第二凹陷图案的第二凹槽（51）小于凹陷在壁（45）的上侧上的第一凹槽。
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公开(公告)号：KR1020080054804A
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：KR1020060127385
申请日：2006-12-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: G03F7/0002 , G03F9/7042 , B82Y40/00 , G03F7/70633
Abstract: An apparatus and a method for aligning a stamp for nano imprint lithography using resistance are provided to align not only the stamp of transparent material but the stamp of opaque material by using the stamp for nano imprint lithography. After loading a substrate and a stamp in which a resistance alignment key having a resistor and a resistance measuring outlet mark which changes resistance values according to the contact location with the resistance alignment key, are inserted respectively, a first alignment process is performed(S130). The electric resistance is measured by contacting the stamp with the substrate(S150). An optimized alignment location is set according to the measured resistance value(S160). An exposure process is performed on the aligned stamp and the substrate(S170). The stamp and the substrate are unloaded(S180).
Abstract translation: 提供使用电阻对准用于纳米压印光刻的印模的装置和方法，以通过使用用于纳米压印光刻的印模来不仅对准透明材料的印模，而且使不透明材料的印模对准。 在分别插入基板和印模后，分别插入具有电阻器的电阻对准键和根据与电阻对准键的接触位置改变电阻值的电阻测量插座标记的印模，进行第一对准处理（S130） 。 通过使印模与基板接触来测量电阻（S150）。 根据测得的电阻值设定优化的对准位置（S160）。 在对准的印模和基板上进行曝光处理（S170）。 邮票和基板卸载（S180）。
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公开(公告)号：KR100831049B1
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：KR1020060132164
申请日：2006-12-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , B29C59/02
Abstract: A method of manufacturing a solvent-soluble stamp for nano imprint lithography is provided to copy a plurality of stamps in large quantities by using one substrate. A method of manufacturing a solvent-soluble stamp for nano imprint lithography includes the following steps: coating the upper surface of a substrate with resist and patterning the resist through a lithography process; etching the substrate by using the patterned resist; depositing the polymer(30) which has the form of solvent-soluble resin on the resultant object; physically separating the polymer on which pattern of the substrate is transferred; depositing a metal layer(40) on a upper surface of the separated polymer pattern; depositing metal on a upper surface of the resultant object; and solving the resultant object in solvent to remove the polymer.
Abstract translation: 提供一种制造用于纳米压印光刻的溶剂可溶性印模的方法，以通过使用一个基板大量复制多个印记。 制造用于纳米压印光刻的溶剂可溶性印模的方法包括以下步骤：用抗蚀剂涂覆基板的上表面并通过光刻工艺对抗蚀剂进行图案化; 通过使用图案化的抗蚀剂蚀刻衬底; 将具有溶剂可溶性树脂形式的聚合物（30）沉积在所得物体上; 物理分离转移了基板图案的聚合物; 在分离的聚合物图案的上表面上沉积金属层（40）; 在所得物体的上表面上沉积金属; 并在溶剂中溶解所得物以除去聚合物。
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