公开(公告)号：KR100165365B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950054704

申请日：1995-12-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박금식

IPC: H01L21/268

Abstract: 본 발명은 종래의 반도체 이온 주입 장비에서의 일렉트론 샤워 어셈블리내에 사용되는, 열전자를 방출하는 필라멘트의 구조의 취약성을 개선한 것으로, 기둥형 소자와 평면형 소자를 일체적으로 U자모양으로 형성하는 필라멘트 구조이다. 상기 U자형 굴곡부는 기둥형 부분보다 얇은 두께로 형성되는 구조를 가지며, 상기 U자형 구조는 텅스텐 재질로 연결부위없이 일체로 형성된다. 이로써, 종래의 필라멘트의 취약성을 보완함으로써 반도체 이온주입 장비의 유지보수중에도 상당히 내구성을 가지게 되므로 잘 파손되지 않으며, 고가의 필라멘트를 그 제한 수명내에서 효율적으로 사용할 수 있는 장점이 있다.

公开(公告)号：KR1019980084666A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019970020512

申请日：1997-05-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박금식

IPC: H01L21/265

Abstract: 본 발명은 이온 빔을 셋업하지 않는 동안에는 램프에 공급되는 전원을 차단하여 램프의 사용 수명을 최대화할 수 있는 이온 주입 시스템의 램프 전원 공급 장치에 관한 것으로, 24V 직류 전원 공급부와, 상기 전원 공급부로부터 전원을 공급받고, 외부로부터 인가된 신호에 응답하여 이온 빔을 셋업하는 서프레션 인터록부와, 상기 전원 공급부와 서프레션 인터록부 사이에 연결되고, 외부로부터 인가된 소정의 제어 신호에 응답하여 상기 전원 공급부로부터 공급되는 전원을 상기 서프레션 인터록부로 공급하는 복수 개의 릴레이와, 일단이 상기 복수 개의 릴레이와 서프레션 인터록부 사이에 연결되고, 타단이 접지에 연결되어 상기 전원 공급부로부터 전원을 인가받는 램프를 포함한다. 이와 같은 이온 주입 시스템의 램프 전원 공급 장치에 의해서, 이온 빔을 셋업하지 않는 동안에는 램프에 공급되는 전원을 차단할 수 있고, 따라서 램프의 사용 수명을 최대화할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970052175A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950054704

申请日：1995-12-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박금식

IPC: H01L21/268

Abstract: 본 발명은 종래의 반도체 이온 주입 장비에서의 일렉트론 샤워 어셈블리내에 사용되는, 열전자를 방출하는 필라멘트의 구조의 취약성을 개선한 것으로, 기둥형 소자와 평면형 소자를 일체적으로 U자모양으로 형성하는 필라멘트 구조이다. 상기 U자형 굴곡부는 기둥형 부분보다 얇은 두께로 형성되는 구조를 가지며, 상기 U자형 구조는 텅스텐 재질로 연결부위없이 일체로 형성된다. 이로써, 종래의 필라멘트의 취약성을 보완함으로써 반도체 이온주입 장비의 유지보수중에도 상당히 내구성을 가지게 되므로 잘 파손되지 않으며, 고가의 필라멘트를 그 제한 수명내에서 효율적으로 사용할 수 있는 장점이 있다.

公开(公告)号：KR1020070009281A

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：KR1020050064421

申请日：2005-07-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박금식

IPC: H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31701

Abstract: An ion implanting apparatus is provided to avoid a cross contamination phenomenon by including a plurality of dummy wafer cassettes so that a dummy wafer is individually stored according to doping ions to be used in an ion implantation process. An ion implanting apparatus(100) implants specific ions into a plurality of wafers including a dummy wafer. The dummy wafer is individually used according to specific ions. The used dummy wafer is individually stored in a plurality of dummy wafer cassettes(142). The plurality of wafers are mounted on a disc(111) including a plurality of susceptors(112). A motor supplies driving force for rotating the disc, associating with the disc.

Abstract translation: 提供离子注入装置，以通过包括多个虚拟晶片盒来避免交叉污染现象，使得根据待离子注入工艺中使用的掺杂离子单独存储虚设晶片。 离子注入装置（100）将特定离子注入到包括虚拟晶片的多个晶片中。 根据特定离子单独使用虚拟晶片。 所使用的虚设晶片分别存储在多个虚拟晶片盒（142）中。 多个晶片安装在包括多个基座（112）的盘（111）上。 马达提供用于旋转盘的驱动力，与盘相关联。

公开(公告)号：KR1020070001634A

公开(公告)日：2007-01-04

申请号：KR1020050057230

申请日：2005-06-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이동호 ,  박금식

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/68707 ,  H01L21/67242

Abstract: A wafer transfer apparatus is provided to prevent scratch and broken phenomena of a wafer by using detecting units having light sensors and reflectors for detecting horizontal and vertical distortions of the wafer. A robot arm(100) having a hand(110) is formed on a side of a vacuum chamber. The robot arm is carried in the vacuum chamber to transfer a wafer. A first detecting unit(120) detects horizontal distortion of the hand when it loads and unloads the wafer from a wafer cassette. A second detecting unit(200) detects vertical distortion of the hand when it loads and unloads the wafer from the wafer cassette. The first detecting unit has light sensors(121a,121b) and reflectors(122a,122b). The second detecting unit has light sensors(220a,220b) and reflectors(210a,210b). The light sensors are installed on the outside of the robot arm to have light emitting units emitting light signals and light receiving units receiving the light signals. The reflectors are formed on the hand to reflect the light signals emitted from the light emitting unit to the light receiving unit.

Abstract translation: 提供晶片传送装置，通过使用具有光传感器的检测单元和用于检测晶片的水平和垂直失真的反射器来防止晶片划伤和断裂现象。 具有手（110）的机器人臂（100）形成在真空室的一侧。 机器人臂被携带在真空室中以转移晶片。 第一检测单元（120）当从晶片盒加载和卸载晶片时，检测手的水平变形。 第二检测单元（200）当从晶片盒加载和卸载晶片时检测手的垂直变形。 第一检测单元具有光传感器（121a，121b）和反射器（122a，122b）。 第二检测单元具有光传感器（220a，220b）和反射器（210a，210b）。 光传感器安装在机器人臂的外侧，以具有发射光信号的发光单元和接收光信号的光接收单元。 反射器形成在手上以将从发光单元发射的光信号反射到光接收单元。

公开(公告)号：KR1020060083340A

公开(公告)日：2006-07-20

申请号：KR1020050003847

申请日：2005-01-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이동호 ,  박금식 ,  이인표

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 로드 포트를 구비하는 반도체 제조 설비의 포트 도어 오동작을 감지하기 위한 장치 및 그의 제어 방법에 관한 것이다. 반도체 제조 설비는 캐리어 이송 장치에 의해 FOUP(Front Open Unified Pod)이 로드 포트(load port) 상에 안착되면, 로드 포트는 FOUP을 클램프(clamp)하여 FOUP 도어와 포트 도어 간에 상호 체결되도록 한다. FOUP 도어와 포트 도어가 결합된 상태에서 웨이퍼 이송을 위해 포트 도어는 틸트(tilt motion) 및 업다운(up and down)되어 개폐된다. 이 때, 본 발명의 반도체 제조 설비는 포트 도어가 오픈되고, 포트 도어에 장애물이 감지되면, 포트 도어의 클로즈 동작을 중지시킨다. 따라서, 포트 도어의 오동작으로 인한 웨이퍼 파손 및 로봇암의 손상을 방지한다.
반도체 제조 설비, 로드 포트, FOUP, 포트 도어, 센서, 인터락

公开(公告)号：KR1019980005423A

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR1019960022348

申请日：1996-06-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박금식

IPC: H01L21/265