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公开(公告)号：KR2019990010476U
公开(公告)日：1999-03-15
申请号：KR2019970023845
申请日：1997-08-29
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박동수
Abstract: 본 고안은 회전압축기의 베인 지지장치를 개시한다. 개시된 본 고안은, 회전압축기 본체의 내주면에 압입되며 실린더실 및 그 실린더실과 관통하는 지지공이 형성된 실린더와, 상기 지지공에 탄지된 스프링과, 일측은 상기 스프링에 탄지되고 타측은 상기 실린더실을 향해 노출된 베인으로 구비된 회전압축기의 베인 지지장치에 있어서, 상기 지지공이 관통된 상기 실린더의 외주면 일측에는 상기 스프링이 상기 지지공의 외측으로 이탈되는 것을 방지하는 스프링 지지부가 구비된 것을 특징으로 함으로써, 회전압축기의 내측에 실린더를 조립시 실린더의 내부 일측에 관통 형성된 지지공으로부터 베인을 지지하는 스프링이 이탈되는 것을 방지한다.
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公开(公告)号：KR1019990011038A
公开(公告)日：1999-02-18
申请号：KR1019970033976
申请日：1997-07-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 가공하는 반도체 제조 장비에서 웨이퍼를 정렬하는 웨이퍼 정렬 장치에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 웨이퍼의 플랫존을 감지하여 웨이퍼를 정렬하는 방법을 이용한 웨이퍼 정렬 장치에 관한 것이며, 이를 위하여 웨이퍼의 플랫존을 감지하는 감광장치를 복수개 설치하여 중앙의 감광장치로 웨이퍼의 플랫존을 감지한 후 외곽의 감광장치들로 웨이퍼의 플랫존이 정확한 위치에 정렬되었음을 확인할 수 있는 구조를 이용함으로써 종래 부정확한 위치로 플랫존이 정렬된 채 후속 공정으로 진행되어 웨이퍼에 손상을 일으키거나 작업의 수율을 낮추던 요인을 제거하며 또한 외곽 감광장치에 경보장치를 연결하여 부정확한 플랫존을 인식한 경우에 경보장치를 작동시키고 작업을 중단하여 작업자로 하여금 신속한 처리를 할 수 있� �록 한다.
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公开(公告)号：KR1019980014668A
公开(公告)日：1998-05-25
申请号：KR1019960033753
申请日：1996-08-14
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박동수
IPC: F04C18/00
Abstract: 본 발명의 모터펌프형 로터리 압축기는, 케이스내에 모터의 동력을 전달받아 오일이나 또는 공기 및 가스를 흡입하여 압축 및 토출시키도록 펌프를 구비한 모터펌프형 로터리 압축기에 있어서, 상기 펌프는, 원통형 실린더와, 상기 동력을 전달받아 회전되도록 상기 실린더내에 편심고정된 편심축과, 상기 실린더의 내주면에 항상 선접촉된 상태에서 상기 편심축의 회전에 따라 상하편심스윙되도록 편심축에 편심설치된 롤러와, 상기 실린더에 고정된 베인과, 상기 베인에 직선방향으로 전후슬라이딩가능케 결합된 상태에서 상기 롤러의 편심스윙시 베인과 롤러가 서로 어긋나는 각도에 따라 편심스윙되도록 롤러의 일측에 설치된 회동부쉬로 이루어진 것을 특징으로 되어 있으므로, 편심축과 회동부쉬와의 간격을 넓게 할 수 있을 뿐만 아니라 압축용� ��을 확대시킬 수 있음은 물론 제품에 대한 신뢰성을 한층 더 높일 수 있는 것이다.
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公开(公告)号：KR1019970030406A
公开(公告)日：1997-06-26
申请号：KR1019950042864
申请日：1995-11-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: 본 발명은 반도체 제조 장치의 웨이퍼 가공을 위한 드라이 에칭공정에 있어서, 상기 공정을 진행하기 위하여 필수적으로 마련되는 기초 설비의 하나의 칠러(CHILLER)에 냉매를 공급하는 장치에 관한 것으로, 특히 N
2 레벨 센서의 N
2 압력 차이에 의하여 칠러내의 냉매 수위를 항상 일정하게 유지토록 하는 개선된 반도체 제조 방치의 자동 냉매 공급장치에 관한 것으로 반도체 웨이퍼의 드라이 에칭용 칠러에 있어서, 상기 칠러의 냉매수위를 검출하도록 설치된 검출 수단과, 상기 검출 수단에 의해 온/오프 작동될 수 있는 스위치 수단 및 상기 스위치 수단에 의해 냉매 공급용 밸브를 개/폐하는 솔레노이드 밸브를 구비하여 칠러에 냉매가 자동으로 공급되게 함을 특징으로 하는 반도체 제조 장치의 자동 냉매 공급 장치.-
公开(公告)号：KR2019960031891U
公开(公告)日：1996-10-24
申请号：KR2019950005222
申请日：1995-03-23
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박동수
Abstract: 본고안은로터리압축기의토출장치에관한것으로서, 특히밀폐용기내부에설치된모터로구동되는베인에의해상, 하부프레임으로고정된실린더내부에서압축된냉매가스가토출되는장치에있어서, 상기상부프레임에압축된냉매가스가토출되도록형성된한쌍의토출공, 상기각 토출공에설치되어토출되는방향으로열리는한쌍의밸브판, 그리고각 밸브판을상기상부프레임에고정하는한편열림정도를제한하는한쌍의스토퍼를구비하여서된 특징적인구성에의해, 실린더에형성된한쌍의토출공으로인하여냉매가스의토출압력이분산된상태로머플러내부로토출되므로토출소음이감소된다. 또한토출되는냉매가스나머플러에분산되어충돌되므로충돌소음이감소되고, 토출이신속하게진행되어압축효율이향상되는효과가있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020080001958A
公开(公告)日：2008-01-04
申请号：KR1020060060451
申请日：2006-06-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박동수
IPC: H01L21/304
Abstract: A wafer cleaning apparatus is provided to increase the yield by removing the foreign substances attached to the back side of a wafer while preventing the foreign substances from being transferred to the front side of the wafer. A load port for supporting a receptacle for receiving a plurality of wafers(W) is installed at one side of a chamber(110) including a door opener for opening and closing a door of the receptacle. A rotation chuck(130) grasps and rotates the wafer, and is installed in the chamber. A brushing part(140) contacts with the back side of the wafer while the wafer is rotated and removes the foreign substances attached to the back side of the wafer, and is installed at one side of the rotation chuck. A transfer unit(160) transfers the wafer between the receptacle and the rotation chuck. A fan filter unit(116) supplies clean air to the upper portion of the chamber to form an air current in the lower portion of the chamber. The residual gas in the chamber and the foreign substances removed from the wafer are exhausted to the outside of the chamber by an exhaust unit(180).
Abstract translation: 提供了一种晶片清洁装置，通过去除附着在晶片背面的异物，同时防止异物转移到晶片的正面来提高产量。 用于支撑用于容纳多个晶片（W）的插座的装载端口安装在包括用于打开和关闭插座的门的开门器的室（110）的一侧。 旋转卡盘（130）抓住并旋转晶片，并安装在腔室中。 刷子部分（140）在晶片旋转的同时与晶片的背面接触，除去附着在晶片背面的异物，并安装在旋转卡盘的一侧。 传送单元（160）将晶片在容器和旋转卡盘之间传送。 风扇过滤器单元（116）将空气供应到室的上部，以在室的下部形成气流。 室内的残留气体和从晶片去除的异物通过排气单元（180）排出到室的外部。
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公开(公告)号：KR1020060052561A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050107063
申请日：2005-11-09
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 무선 네트워크에서 음성 및 단문 서비스를 제공하기 위한 망연동 시스템 및 방법에 관한 것으로, 특히 음성 서비스 및 단문 서비스가 연속적으로 제공될 수 있도록 망연동 시스템 및 방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시예에 따라 VoIP(Voice over Internet Protocol) 서비스를 제공하는 무선 패킷망내 발신 단말로부터 회선 기반의 음성 서비스를 제공하는 이동통신망내 착신 단말로 음성 호를 연결하는 망연동 시스템에 있어서, 단말의 위치 정보와 가입자 프로파일이 등록된 홈 위치 등록기와, 상기 이동통신망과의 접속을 위한 게이트웨이를 포함하고, 착신 단말의 단말 식별자가 포함된 발신 메시지를 수신한 경우 상기 게이트웨이를 이용하여 이동통신망과 무선 패킷망 사이의 데이터를 변환하여 상기 착신 단말로의 호 연결을 요구하는 억세스 포인트 제어기와, 상기 억세스 포인트 제어기로부터 상기 착신 단말에 대한 호 연결 요구를 수신한 경우 홈 위치 등록기를 통해 착신 단말의 위치를 확인하고, 확인된 착신 단말의 위치로 호출 메시지를 전송하는 이동 교환기와, 상기 이동통신망에서 상기 이동 교환기의 호출 메시지를 상기 착신 단말로 전송하는 기지국을 포함함을 특징으로 한다.
이동통신망, 무선 패킷망, 게이트웨이, 단문 메시지-
公开(公告)号：KR100438443B1
公开(公告)日：2004-07-03
申请号：KR1020010078685
申请日：2001-12-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04B7/26
Abstract: A base station controller (BSC) performs a handoff of a mobile terminal (MT) moving between cells of base transceiver stations (BTSs) in a mobile communication system. If a target BTS is selected as a handoff candidate for the MT as the MT moves from a cell of a source BTS in service toward a cell of the target BTS, the BSC transmits to the target BTS a first message for requesting the target BTS to buffer packets, and transmits packets to be transmitted to the MT to both the source BTS and the target BTS. If the target BTS is determined as a serving BTS for the MT, the BSC transmits to the target BTS a second message including a last sequence number in order to request the target BTS to transmit, to the MT, packets with sequence numbers following the last sequence number of a last packet transmitted from the source BTS to the MT, among the buffered packets.
Abstract translation: 基站控制器（BSC）执行在移动通信系统中在基收发机站（BTS）的小区之间移动的移动终端（MT）的切换。 如果当MT从服务中的源BTS的小区移向目标BTS的小区时，选择目标BTS作为MT的越区切换候选者，则BSC向目标BTS发送用于请求目标BTS到的第一消息 缓存分组，并将要发送到MT的分组发送到源BTS和目标BTS。 如果目标BTS被确定为MT的服务BTS，则BSC向目标BTS发送包括最后序列号的第二消息，以便请求目标BTS向MT发送具有紧随最后一个序列号的序列号的分组 在缓存的分组中，从源BTS发送到MT的最后一个分组的序列号。 ＆lt;图像＆GT;
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公开(公告)号：KR1020010048175A
公开(公告)日：2001-06-15
申请号：KR1019990052749
申请日：1999-11-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306
Abstract: PURPOSE: A load lock chamber of dry etching equipment for manufacturing a semiconductor device is provided to prevent a periphery of an outer door of an etching chamber from being corroded by being exposed to reaction by-product such as hume generated in the etching chamber. CONSTITUTION: An outer inlet/outlet(16) is connected to a dry etching chamber(10) where a dry etching process is performed by using reaction gas. A wafer put into the dry etching chamber is taken out to the exterior through the outer inlet/outlet. An outer door(18) switches the outer inlet/outlet. A cover(30) is installed in the outer portion of the outer door.
Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体器件的干法蚀刻设备的装载锁定室，以防止蚀刻室的外门的周边被暴露于诸如在蚀刻室中产生的休眠之类的反应副产物而被腐蚀。 构成：外部入口/出口（16）连接到干蚀刻室（10），其中通过使用反应气体进行干法蚀刻工艺。 放入干蚀刻室的晶片通过外部入口/出口被取出到外部。 外门（18）切换外部入口/出口。 盖子（30）安装在外门的外部。
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公开(公告)号：KR1020010002860A
公开(公告)日：2001-01-15
申请号：KR1019990022894
申请日：1999-06-18
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박동수
IPC: F04C18/00
Abstract: PURPOSE: An axis support structure is provided to reduce a frictional heat and minimize loss caused by load of compressor. CONSTITUTION: A compressor comprises a rotational axis(3) compressively inserted into a rotor(4) and which rotates within the rotor, a cylinder(6) for accommodating an eccentric portion consisting of a cam(3a) arranged beneath the rotational axis and a roller(5) arranged at the outer periphery of the cam, and upper and lower flanges(7,8) coupled to the top and bottom of the cylinder through coupling members(98,99) and which support the rotational axis. The lower flange is arranged in such a manner that the upper surface of the lower flange is prevented from contacting the surface of the rotational axis. The rotational axis has a bottom surface which is supported by the lower flange in such a manner that the bottom surface of the rotational axis is prevented from moving in axial direction. The lower flange has a groove(8a) formed at the upper surface of the lower flange, so that the lower flange is spaced apart from the eccentric portion of the rotational axis.
Abstract translation: 目的：提供一个轴支撑结构，以减少摩擦热，并最大限度减少由压缩机负载引起的损失。 构成：压缩机包括压缩地插入到转子（4）中并在转子内旋转的旋转轴线（3），用于容纳由布置在旋转轴线下方的凸轮（3a）组成的偏心部分的气缸（6） 布置在凸轮的外周的滚子（5）以及通过联接构件（98,99）联接到气缸的顶部和底部并且支撑旋转轴线的上凸缘和下凸缘（7,8）。 下凸缘被布置成使得防止下凸缘的上表面接触旋转轴线的表面。 旋转轴具有底面，该底面由下凸缘支承，从而防止旋转轴的底面沿轴向移动。 下凸缘具有形成在下凸缘的上表面处的凹槽（8a），使得下凸缘与旋转轴线的偏心部分间隔开。
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