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公开(公告)号：KR1019990076006A
公开(公告)日：1999-10-15
申请号：KR1019980010597
申请日：1998-03-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065
Abstract: 본 발명은 다수개로 구비되는 배플부를 정확하게 체결시킬 수 있는 반도체소자 제조용 식각장치에 관한 것이다.
본 발명은, 식각챔버에 균일하게 식각가스를 분사시킬 수 있는 배플부가 캐소우드의 상방에 다수개 구비되는 반도체소자 제조용 식각장치에 있어서, 상기 다수개로 구비되는 배플부는 각각의 배플부가 설정된 순서 및 설정된 방향으로 체결이 이루어지도록 상기 설정된 순서 및 설정된 방향을 확인할 수 있는 확인수단을 상기 각각의 배플부가 면접하는 소정의 영역에 서로 대응할 수 있도록 구비시켜 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 배플부를 정확하게 체결하여 이에 따른 불량을 방지함으로써 반도체소자의 신뢰도 및 생산성 향상되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019990076003A
公开(公告)日：1999-10-15
申请号：KR1019980010594
申请日：1998-03-26
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박정혁
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 반도체 제조공정중 이온주입설비에서 고속회전하는 배치 디스크상에 설치된 웨이퍼를 지지하는 패드로부터 웨이퍼의 상방으로의 이탈을 방지하도록 하는 웨이퍼 고정장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 웨이퍼 고정장치는 상기 패드의 가장자리의 소정위치에 형성되어 상기 웨이퍼를 소정범위에 대해 움직이지 않도록 고정하는 굴곡부를 가지는 패드펜스를 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 이온주입설비의 웨이퍼 고정장치이다.
따라서, 패드와 웨이퍼를 효과적으로 고정하게 되므로 이온주입공정중에 발생하게 되는 웨이퍼의 이탈에 따른 이온주입의 불량, 웨이퍼의 파손에의한 파티클 발생 및 웨이퍼의 깨짐을 억제할 수 있어 반도체 이온주입설비의 설비가동률을 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.-
公开(公告)号：KR1019990069086A
公开(公告)日：1999-09-06
申请号：KR1019980003112
申请日：1998-02-04
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박정혁
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 상면에 수평계를 설치하여 수평유지관리를 용이하게 하는 반도체 제조설비의 웨이퍼 이송암에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼 이송암은, 상면에 웨이퍼를 수평으로 안착시키는 수평막대와, 상기 수평막대를 고정시키고, 이송장치와 연결되어 상기 수평막대를 요구되는 장소로 이송시키는 막대지지대를 구비하고, 상기 수평막대의 수평상태를 확인할 수 있도록 상기 막대지지대에 수평감지수단을 설치하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 웨이퍼 이송암의 수평유지관리를 용이하게 함으로써 웨이퍼 이송시 웨이퍼의 이탈현상을 방지하여 웨이퍼 수율을 향상시키고, 설비의 오동작을 방지하게 하는 효과를 갖는다.-
公开(公告)号：KR102233812B1
公开(公告)日：2021-03-31
申请号：KR1020140097532
申请日：2014-07-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G05B19/418 , H01L21/00
Abstract: 본발명의실시예에따른복수의설비들로부터의설비정보를처리하는방법은: 상기복수의설비들로부터수집된상기설비정보를실제정보및 연관정보를갖도록표준화하는단계; 네트워크를통하여, 단위시간당예상되는상기설비정보의생산량에기초하여상기표준화된설비정보를수집하는단계; 상기수집된설비정보를객체화하여분석정보를생성하는단계; 그리고상기분석정보를정보분류표에따라단위스케줄로재구성하는역 스케줄링을실행하는단계를포함할수 있다. 본발명에의하면, 제품의생산성을향상시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR100265288B1
公开(公告)日：2000-10-02
申请号：KR1019980014379
申请日：1998-04-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32834 , H01J37/3244 , H01L21/31116
Abstract: PURPOSE: A baffle of etching equipment for manufacturing a semiconductor is provided to improve the productivity by minimizing a change of vacuum in a process chamber due to a polymer. CONSTITUTION: A baffle(50) has slits(52), which is formed according to a predetermined interval. The number of slot may be decided according to a diameter of the baffle(50), an area of a plate(51), and an etching process. A chuck is located on a predetermined portion of the baffle(50). A fixing portion(54) and the plate(51) are formed around the portion on which a chuck is located. The diameter of the baffle(50) including the plate(51) is about 365 to 366mm in case of a semiconductor substrate.
Abstract translation: 目的：提供用于制造半导体的蚀刻设备的挡板，以通过最小化由于聚合物引起的处理室中真空的变化来提高生产率。 构成：挡板（50）具有按照预定间隔形成的狭缝（52）。 槽的数量可以根据挡板（50）的直径，板（51）的面积和蚀刻处理来确定。 卡盘位于挡板（50）的预定部分上。 固定部分（54）和板（51）围绕卡盘所在的部分形成。 在半导体衬底的情况下，包括板（51）的挡板（50）的直径为约365至366mm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160015505A
公开(公告)日：2016-02-15
申请号：KR1020140097532
申请日：2014-07-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G05B19/418 , H01L21/00
CPC classification number: G06Q10/06314 , G06Q50/04 , Y02P90/30
Abstract: 본발명의실시예에따른복수의설비들로부터의설비정보를처리하는방법은: 상기복수의설비들로부터수집된상기설비정보를실제정보및 연관정보를갖도록표준화하는단계; 네트워크를통하여, 단위시간당예상되는상기설비정보의생산량에기초하여상기표준화된설비정보를수집하는단계; 상기수집된설비정보를객체화하여분석정보를생성하는단계; 그리고상기분석정보를정보분류표에따라단위스케줄로재구성하는역 스케줄링을실행하는단계를포함할수 있다. 본발명에의하면, 제품의생산성을향상시킬수 있다.
Abstract translation: 根据本发明实施例的用于处理来自多个设施的设施信息的方法包括以下步骤：将从设施收集的设施信息标准化以具有实际信息和相关信息; 基于每单位时间通过网络的预期设施信息的输出来收集标准化设施信息; 通过对收集到的设施信息进行客观化生成分析信息; 并且执行反向调度以根据信息分类表将分析信息重构为单元调度。 根据本发明，可以提高生产率。
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公开(公告)号：KR200223570Y1
公开(公告)日：2001-05-15
申请号：KR2019990009822
申请日：1999-06-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 고안은 반도체 로드락챔버의 외부 도어와 연결된 제 1 축이 회전하는 것을 방지하는 반도체 로드락챔버의 외부 도어에 관한 것이다.
본 고안에 따른 반도체 로드락챔버의 외부 도어는, 로드락챔버의 웨이퍼 출입구를 폐쇄시킬 수 있으며, 소정부에 가로방향 홈이 형성된 도어와, 상기 홈에 삽입 고정된 제 1 축과, 상기 제 1 축이 삽입 연결되는 제 1 관통홀이 전단부에 형성되어 있고, 고정축으로 작용하는 제 2 축이 삽입 연결되는 제 2 관통홀이 중간부에 형성되어 있고, 제 3 관통홀이 후단부에 형성된 실린더 플레이트와, 상기 제 3 관통홀을 이용하여 연결되어 피스톤동작을 수행하여 상기 도어가 제 2 축을 중심으로 회전할 수 있도록 하는 피스톤을 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 로드락챔버의 외부 도어에 있어서, 상기 제 1 축은 상기 홈 내부에서 회전되는 것이 방지되도록 소정부가 각이진 봉형상으로 이루어지거나 고정나사에 의해서 고정되어 있는 것을 특징으� � 한다.
따라서, 제 1 축의 회전에 의해서 로르락챔버에서 리크가 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019990065342A
公开(公告)日：1999-08-05
申请号：KR1019980000587
申请日：1998-01-12
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박정혁
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 반도체장치 제조공정이 진행될 웨이퍼가 위치되는 반도체장치 제조용 웨이퍼 안착기구에 관한 것이다.
본 발명은, 반도체장치 제조공정이 진행될 웨이퍼가 위치되는 포지션 블록 및 상기 포지션 블록을 지지하는 플랫폼으로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 안착기구에 있어서, 상기 안착기구에 수평확인수단이 구비됨을 특징으로 한다.
따라서, 포지션 블록 상에 위치된 웨이퍼를 이송기구 등이 로딩할 때, 포지션 블록 및 플랫폼의 수평이상에 의해서 웨이퍼가 스크래치되거나 깨지는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100497612B1
公开(公告)日：2005-09-20
申请号：KR1019980010597
申请日：1998-03-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065
Abstract: 본 발명은 다수개로 구비되는 배플부를 정확하게 체결시킬 수 있는 반도체소자 제조용 식각장치에 관한 것이다.
본 발명은, 식각챔버에 균일하게 식각가스를 분사시킬 수 있는 배플부가 캐소우드의 상방에 다수개 구비되는 반도체소자 제조용 식각장치에 있어서, 상기 다수개로 구비되는 배플부는 각각의 배플부가 설정된 순서 및 설정된 방향으로 체결이 이루어지도록 상기 설정된 순서 및 설정된 방향을 확인할 수 있는 확인수단을 상기 각각의 배플부가 면접하는 소정의 영역에 서로 대응할 수 있도록 구비시켜 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 배플부를 정확하게 체결하여 이에 따른 불량을 방지함으로써 반도체소자의 신뢰도 및 생산성 향상되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020010058665A
公开(公告)日：2001-07-06
申请号：KR1019990066019
申请日：1999-12-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065
Abstract: PURPOSE: A dry-etching apparatus is to remove particles generated during etching, thereby obtaining a smooth etching. CONSTITUTION: A processing chamber(20) is maintained in a state of vacuum. The processing chamber comprises a window plate(10a) and a turbo plate(10b). The window plate is to monitor an interior of the processing chamber. A liner(24) is fitted to a hole of the window plate. A reaction chamber(28) is positioned on the processing chamber. The reaction chamber comprises a gas distributor, an upper electrode and a heater. The gas distributor is to supply plasma for the etching. The liner comprises protrusion to be inserted into a hole formed on a plate of a dry-etching apparatus. By the bottom portion of the liner, an excessive insertion of the liner into the hole is prevented. The liner is made of an elastic PTFE(polytetrafluoroethylene). Thickness of the liner is preferably 1 millimeter.
Abstract translation: 目的：干蚀刻设备是去除蚀刻时产生的微粒，从而获得平滑的蚀刻。 构成：处理室（20）保持在真空状态。 处理室包括窗板（10a）和涡轮板（10b）。 窗板用于监视处理室的内部。 衬垫（24）安装在窗板的孔中。 反应室（28）位于处理室上。 反应室包括气体分配器，上电极和加热器。 气体分配器为蚀刻提供等离子体。 衬套包括插入到形成在干式蚀刻装置的板上的孔中的突起。 通过衬套的底部，防止衬套过度地插入到孔中。 内衬由弹性PTFE（聚四氟乙烯）制成。 衬垫的厚度优选为1毫米。
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