公开(公告)号：KR1020010055529A

公开(公告)日：2001-07-04

申请号：KR1019990056745

申请日：1999-12-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백인학

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A substrate holding chuck is provided to prevent the defect and spot of a substrate by removing a water remaining on the surface thereof from a cleaning process to a drying process of deionized water. CONSTITUTION: A chuck arms(10) holds the side end of a substrate(30). A nitrogen nozzle(40) has a plurality of spraying hole formed in order directing to the surface of the substrate(30). A nitrogen supplying unit is a mobile route supplying a nitrogen to the inside of the nitrogen nozzle(40). The farther spraying hole goes on from the entrance to the exit thereof the larger the diemeter of the hole become. A plurality of chuck loads(20) contacting the side of the substrate(30) is installed on the inner side of the chuck arm(10).

Abstract translation: 目的：提供一种基板保持卡盘，用于通过将残留在其表面上的水从清洁过程去除去离子水的干燥过程来防止基板的缺陷和斑点。 构成：夹持臂（10）保持基板（30）的侧端。 氮气喷嘴（40）具有多个喷射孔，其顺序指向基板（30）的表面。 氮供给单元是向氮气喷嘴（40）的内部供给氮的移动路径。 更远的喷孔从入口到出口进入，孔的二进制数变大。 在卡盘臂（10）的内侧安装有与基板（30）侧接触的多个卡盘负载（20）。

公开(公告)号：KR1019970067674A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960009202

申请日：1996-03-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백인학

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 슬로우 드레인(SLOW DRAIN) 방식의 웨이퍼 세정 장치에 관한 것으로서, 본 발명은 탈 이온수의 공급량 및 배출량을 정확히 감지하여 공정 불량을 사전에 방지할 수 있는 슬로우 드레인(SLOW DRAIN)방식의 웨이퍼 세정 장치를 제공하는데 그 목적을 두고 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 슬로우(SLOW DRAIN) 방식의 웨이퍼 세정장치는 탈 이온수의 공급량을 조절할 수 있도록 세정조에 탈 이온수를 공급하는 공급관에 장착되어 있는 조절 밸브; 상기 탈 이온수의 공급량을 체크할 수 있도록 조절 밸브와 세정조사이에 장착되어 있는 제1 센서; 상기 탈 이온수의 배출량을 조절하는 배출 밸브; 상기 탈 이온수의 수위를 체크할 수 있도록 세정조내에 설치되어 있는 제2 센서; 및 상기 제, 2 센서에서 출력되는 데이터에 따라 조절 밸브와 배출 밸브의 작동을 제어하는 중앙 처리 장치를 포함하고 있는 것을 특징으로 한다

公开(公告)号：KR1019970023947A

公开(公告)日：1997-05-30

申请号：KR1019950037816

申请日：1995-10-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백인학

IPC: H01L21/66

Abstract: 케미칼 및 가스를 공급하는 배관의 분기되는 지점에 센서를 설치하여 케미칼 및 가스가 누설됨을 감지하여 경보를 발생시키는 반도체 제조 시스템의 케미칼 및 가스 누설 감지장치가 개시되어 있다.
본 발명에 따른 감지장치는, 케미칼 및 가스가 공급원으로부터 공급배관을 통하여 다단분기되어 복수의 제조 설비로 공급토록 구성된 반도체 제조 장치에서 상기 공급라인의 다단 분기되는 각 위치에 설치되어 상기 케미칼 및 가스의 누설을 감지할 수 있는 센싱수단 및 상기 센싱수단과 전기적으로 접속되어 상기 센싱수단의 전기적 상태에 따라 누설 경보를 발생시키는 모니터링 수단을 포함하여 구성된다.
따라서, 케미칼 및 가스 공급라인에서 누설이 발생시 누설지점을 정확히 알고 대응함으로써 누설에의한 피해를 최소화 할 수 있다는 효과가 있다.