公开(公告)号：KR101232611B1

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：KR1020100077257

申请日：2010-08-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안성민 ,  장상돈 ,  손태규

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F9/7011 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/7088

Abstract: 정렬계를 이용하여 기판(또는 반도체 웨이퍼) 등 작업 대상물의 위치와 자세를 계측하기 위한 시스템 및 그 방법을 제안한다.
이동 테이블에 새겨진 기준 마크를 이용하여 정렬계의 위치를 구하고, 작업 대상물에 새겨진 정렬 마크가 정렬계의 화상 영상 내에 위치하도록 이동 테이블을 이송시켜 정렬 마크의 위치를 계측한다. 이후 정렬계의 위치와 정렬계에서 계측한 정렬 마크의 위치에 따라 작업 대상물의 위치 및 자세를 정확히 계측함으로써 작업 대상물의 가공/제조/검사 등을 수행하는 분야에서 다양하게 활용될 수 있다.

公开(公告)号：KR101202320B1

公开(公告)日：2012-11-16

申请号：KR1020100077255

申请日：2010-08-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안성민 ,  양승원 ,  손태규

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/66

CPC classification number: B23Q15/22

Abstract: 정렬계를 이용하여 기판(또는 반도체 웨이퍼) 등 작업 대상물의 위치와 자세를 계측하는 시스템에서 정렬계의 시스템 변수를 결정하는 방법을 제안한다.
기판(또는 반도체 웨이퍼) 등 작업 대상물의 위치와 자세를 계측하기 위해 사용되는 정렬계의 조립 및 장착 시 설치 오차를 구하고, 구한 설치 오차에 따라 정렬계의 실제 시스템 변수의 값을 구하여 작업 대상물의 위치와 자세 정보를 정확히 계측할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020120015936A

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：KR1020100078481

申请日：2010-08-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안성민 ,  장상돈 ,  양승원

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01B11/00 ,  G01B11/03 ,  G01B11/27 ,  G03F9/70

Abstract: PURPOSE: An exposure apparatus and an alignment error correcting method using the same are provided to improve overlay performance by estimating the slip amount of a mask a substrate in case of planar rotation and compensating the slip amount of the mask and the substrate. CONSTITUTION: An alignment error correcting method based on a stage and a rotor(120) includes the following: the position of a reference mark is measured when the rotor rotates for aligning a mask and a substrate; the rotary center of the rotor is recognized using the position of the reference mark; the relative position of the rotary center and the position to estimate the slip amount of the rotor; and the alignment of the mask and the substrate is implemented by correcting the slip amount.

Abstract translation: 目的：提供一种曝光装置和使用其的对准误差校正方法，通过在平面旋转的情况下估计基板的掩模的滑移量并补偿掩模和基板的滑移量来提高覆盖性能。 构成：基于级和转子（120）的对准误差校正方法包括以下步骤：当转子旋转以对准掩模和基板时，测量参考标记的位置; 使用参考标记的位置识别转子的旋转中心; 旋转中心的相对位置和估计转子滑移量的位置; 并且通过校正滑移量来实现掩模和基板的对准。

公开(公告)号：KR1020120015044A

公开(公告)日：2012-02-21

申请号：KR1020100077257

申请日：2010-08-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안성민 ,  장상돈 ,  손태규

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F9/7011 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/7088

Abstract: PURPOSE: An instrumentation system using an alignment system and a method for measuring a location and posture of a working object are provided to efficiently process, manufacture, inspect a working object by accurately measuring a location and posture of the working object. CONSTITUTION: A location of a reference mark, which is inscribed on a transfer table(100), is measured. The transfer table is transferred and a location of an alignment system(140) is obtained. The image information of the working object is obtained by using the alignment system. The location of the alignment mark inscribed on the working object is obtained. A location and posture of the working object are measured.

Abstract translation: 目的：提供使用对准系统的仪器系统和测量工作对象的位置和姿势的方法，以通过精确测量工作对象的位置和姿势来有效地处理，制造和检查工作对象。 构成：测量转印台（100）上刻有参考标记的位置。 传送传送台并获得对准系统（140）的位置。 通过使用对准系统获得工作对象的图像信息。 获得刻在工作对象上的对准标记的位置。 测量工作对象的位置和姿势。

公开(公告)号：KR200063988Y1

公开(公告)日：1992-03-30

申请号：KR2019880020969

申请日：1988-12-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문양춘 ,  안성민

IPC: H04N5/63

公开(公告)号：KR2019910007206Y1

公开(公告)日：1991-09-24

申请号：KR2019880020969

申请日：1988-12-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문양춘 ,  안성민

IPC: H04N5/63

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR2019900013872U

公开(公告)日：1990-07-06

申请号：KR2019880022657

申请日：1988-12-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이순일 ,  안성민

IPC: H04N5/68

公开(公告)号：KR2019900013613U

公开(公告)日：1990-07-05

申请号：KR2019880020696

申请日：1988-12-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문양춘 ,  안성민

IPC: H03G3/10

公开(公告)号：KR2019890023881U

公开(公告)日：1989-12-04

申请号：KR2019880007677

申请日：1988-05-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안성민

IPC: H03G3/10

公开(公告)号：KR101059811B1

公开(公告)日：2011-08-26

申请号：KR1020100042384

申请日：2010-05-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안성민 ,  최호석 ,  장상돈

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70375 ,  G03F9/7003 ,  G03F7/70633 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0337

Abstract: PURPOSE: A maskless exposure apparatus and an alignment method for an overlay in a maskless exposure process are provided to perform a stack and exposure process in the maskless exposure process by using a virtual mask and a virtual target mark. CONSTITUTION: A stage transfers a substrate. A layer is laminated on the substrate. A photoelectric conversion device(131) generates a virtual mask by transferring an exposure beam with a beam spot array shape to expose a pattern in the layer. An alignment unit(140) measures the position of an alignment mark on the layer. A control unit(160) calculates the position of the target mark on the virtual mask by using the measured alignment mark. The control unit aligns the virtual mask and the substrate by using the position of the calculated target mark.

Abstract translation: 目的：提供无掩模曝光装置和无掩模曝光处理中的覆盖的对准方法，以通过使用虚拟掩模和虚拟目标标记在无掩模曝光处理中执行堆叠和曝光处理。 构成：舞台转移衬底。 层叠在基板上。 光电转换装置（131）通过用束斑阵列形状传送曝光光束来产生虚拟掩模，以暴露层中的图案。 对准单元（140）测量层上的对准标记的位置。 控制单元（160）通过使用测量的对准标记来计算虚拟掩模上的目标标记的位置。 控制单元通过使用计算出的目标标记的位置对准虚拟掩模和基板。