公开(公告)号：KR1020070051451A

公开(公告)日：2007-05-18

申请号：KR1020050109036

申请日：2005-11-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김보혜 ,  한학승 ,  최성운 ,  김도영

IPC: H01L21/027

Abstract: 블랭크 마스크의 가용성을 향상시킬 수 있는 블랭크 마스크 검사 장치, 이를 이용한 블랭크 마스크의 키 패턴 형성 방법, 그리고 이들을 이용한 마스크 패턴 형성 방법에 관하여 개시한다. 블랭크 마스크 검사 장치를 이용하여 블랭크 마스크의 결점을 검사하고 그 위치를 파악하여 형성하고자 하는 마스크 패턴의 위치와 비교한 다음 블랭크 마스크의 결점들이 마스크 패턴 위치를 벗어나는 경우에 블랭크 마스크에 노광하여 마스크 패턴을 구현함으로써 블랭크 마스크의 가용성을 높인다. 블랭크 마스크의 결점을 검사하기 전에 블랭크 마스크 검사 장치 내에서 블랭크 마스크 상에 키 패턴을 형성한다.
블랭크 마스크, 결점, 키 패턴, 가용성, 고조파 발생기

公开(公告)号：KR1020060053065A

公开(公告)日：2006-05-19

申请号：KR1020040092848

申请日：2004-11-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한학승 ,  문세건 ,  최성운 ,  문성용 ,  김병국 ,  이동근 ,  장일용

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F1/70 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0338

Abstract: 광 조사를 통한 보정을 사용하여 미세 패턴들을 형성하는 방법들이 제공된다. 이 방법들은 기판 상에 레지스트막을 형성하는 것을 구비한다. 상기 레지스트막을 패터닝하여 초기 레지스트 패턴을 형성한다. 상기 초기 레지스트 패턴 상에 소정의 파장을 갖는 빛을 조사하여 상기 초기 레지스트 패턴을 원하는 크기만큼 축소시키는 보정을 수행한다.