다공성 탄소 입자, 및 이의 제조 방법
    13.
    发明申请
    다공성 탄소 입자, 및 이의 제조 방법 审中-公开
    多孔碳颗粒及其制备方法

    公开(公告)号:WO2013129845A1

    公开(公告)日:2013-09-06

    申请号:PCT/KR2013/001596

    申请日:2013-02-27

    Inventor: 문준혁 유해민

    CPC classification number: C01B32/05

    Abstract: 본원은 다공성 탄소 입자 및 상기 다공성 탄소 입자의 제조 방법에 관한 것으로서, 상기 다공성 탄소 입자의 제조 방법은, 방향족 단량체를 중합시켜 중합체 입자를 형성하고; 상기 중합체 입자를 가교시키고; 상기 가교된 중합체 입자의 표면에 실리카를 코팅하고: 및, 상기 실리카에 의하여 코팅된 중합체 입자를 탄화시키는 것을 포함하는, 다공성 탄소 입자의 제조 방법을 포함한다.

    Abstract translation: 本发明涉及多孔碳颗粒和多孔碳颗粒的制备方法。 制备多孔碳颗粒的方法包括以下步骤:使芳族单体聚合形成聚合物颗粒; 交联聚合物颗粒; 在交联聚合物颗粒的表面上涂覆二氧化硅; 并将涂覆有二氧化硅的聚合物颗粒碳化。

    광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법 및 이에 의한 다공성 탄소 구조체
    14.
    发明申请
    광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법 및 이에 의한 다공성 탄소 구조체 审中-公开
    使用光学干涉光刻制造多孔碳结构的方法和由其制成的多孔碳结构

    公开(公告)号:WO2011090233A1

    公开(公告)日:2011-07-28

    申请号:PCT/KR2010/002359

    申请日:2010-04-15

    Abstract: 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법 및 이에 의한 다공성 탄소 구조체가 제공되며, 상기 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법은 기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 형성된 포토레지스트층에 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 3차원 광간섭 패턴을 조사함으로써 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 형성된 3차원 다공성 포토레지스트 패턴에 무기물을 코팅하는 단계; 상기 무기물이 코팅된 포토레지스트 패턴을 가열하여 탄화시키는 단계; 및 상기 코팅된 무기물을 제거하는 단계:를 포함한다.

    Abstract translation: 提供了使用光学干涉光刻制造多孔碳结构的方法,以及使用光学干涉光刻制造多孔碳结构的方法,其中使用光学干涉光刻制造多孔碳结构的方法包括:在基板上形成光致抗蚀剂层; 将三维光学干涉图案照射到使用三维光学干涉光刻形成的光致抗蚀剂上以形成三维多孔光致抗蚀剂图案; 用无机材料涂覆所形成的三维多孔光致抗蚀剂图案; 加热其上涂覆有无机材料的光致抗蚀剂图案以使图案碳化; 并除去涂覆的无机材料。

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