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11.发明公开
公开(公告)号：KR1020110087166A
公开(公告)日：2011-08-02
申请号：KR1020100006675
申请日：2010-01-25
Applicant: 서강대학교산학협력단
IPC: H01L31/04 , H01L31/0224
CPC classification number: H01G9/209 , H01G9/2031 , H01G9/2059 , H01G9/2068 , Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing photoelectrode and a dye-sensitized solar cell including photoelectrode thereof are provided to improve the photo conversion efficiency of a dye-sensitized solar cell by reducing process time, which is required to form a porous transition metal oxide layer for forming a photoelectrode, and improving the pore structure for dye sorption. CONSTITUTION: A photoresist layer is formed on the top of a conductive transparent substrate(10). A 3D porous photoresist pattern is formed by irradiating a 3D optical interference pattern on the photoresist layer using 3D optical interference lithography. A transition metal oxide precursor solution is injected into the 3D porous photoresist pattern. A porous transition metal oxide layer is formed by eliminating the photoresist pattern with a plasticity process. A photosensitive dye is adsorbed in the porous transition metal oxide layer.
Abstract translation: 目的：提供一种制造光电极的方法和包括其光电极的染料敏化太阳能电池，以通过减少形成用于形成的多孔过渡金属氧化物层所需的处理时间来改善染料敏化太阳能电池的光转换效率 光电极，改善染料吸附孔结构。 构成：在导电透明基板（10）的顶部上形成光致抗蚀剂层。 通过使用3D光学干涉光刻法在光致抗蚀剂层上照射3D光学干涉图案来形成3D多孔光致抗蚀剂图案。 将过渡金属氧化物前体溶液注入到3D多孔光致抗蚀剂图案中。 通过用可塑性过程消除光致抗蚀剂图案来形成多孔过渡金属氧化物层。 光敏染料吸附在多孔过渡金属氧化物层中。
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公开(公告)号：KR101665637B1
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：KR1020120070939
申请日：2012-06-29
Applicant: 서강대학교산학협력단
IPC: H01G9/20 , H01L31/0224 , H01L31/18
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: 자기조립을통해콜로이드용액을제조하고, 전도성투명기판상에콜로이드결정층을형성하여전이금속산화물전구체용액을주입한후 열처리등을통해다공성전이금속산화물층을형성하며, 전이금속산화물을포함하는전구체수용액으로후처리함으로써전이금속산화물구조체를형성하고감광성염료를흡착시키는단계를포함하는, 염료감응태양전지용광전극의제조방법및 이에의하여제조되는광전극을포함하는염료감응태양전지가제공된다. 본원에따르면, 광전극의기공크기와두께제어가가능하고, 특히, 후처리를통해비표면적을향상시키고또한두께를증가시켜전자의이동을용이하게할 수있어, 상기광전극을이용한염료감응태양전지의효율을향상시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR1020120029752A
公开(公告)日：2012-03-27
申请号：KR1020100091782
申请日：2010-09-17
Applicant: 서강대학교산학협력단
CPC classification number: H01M4/8657 , C01B32/05 , H01M4/625 , H01M4/9083 , H01M4/926 , Y10T428/2982 , C01B32/158 , Y02E60/12
Abstract: PURPOSE: A spherical porous carbon structure and a method for manufacturing the same are provided to apply micrometer sizes to the spherical porous carbon structure by using spherical nanoparticle-carbon precursor aggregate as a template. CONSTITUTION: Spherical nanoparticle-carbon precursor aggregate(100) is used as a template. In the spherical nanoparticle-carbon precursor aggregate, a carbon precursor(30) is arranged on the surface of a plurality of nanoparticles(10). The spherical nanoparticle-carbon precursor aggregate is formed by eliminating a solvent(20) from droplets(40) containing the carbon particles and carbon precursor. A method for manufacturing a spherical porous carbon structure includes the following: the spherical nanoparticle-carbon precursor aggregate is calcinated under a reducing atmosphere to form spherical nanoparticle-carbon aggregate; and a plurality of nanoparticles is eliminated from the spherical nanoparticle-carbon aggregate.
Abstract translation: 目的：提供球形多孔碳结构及其制造方法，通过使用球形纳米颗粒 - 碳前体骨料作为模板，将微米尺寸施加到球形多孔碳结构。 构成：使用球形纳米颗粒 - 碳前体骨料（100）作为模板。 在球状纳米粒子 - 碳前体骨料中，在多个纳米粒子（10）的表面配置有碳前体（30）。 通过从含有碳颗粒和碳前体的液滴（40）除去溶剂（20）形成球形纳米颗粒 - 碳前体骨料。 球形多孔碳结构体的制造方法包括以下步骤：将球形纳米颗粒 - 碳前体骨料在还原气氛下煅烧，形成球状纳米粒子 - 碳骨料; 并且从球形纳米颗粒 - 碳聚集体中去除多个纳米颗粒。
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公开(公告)号：KR1020110087163A
公开(公告)日：2011-08-02
申请号：KR1020100006672
申请日：2010-01-25
Applicant: 서강대학교산학협력단
CPC classification number: G03F7/70408 , G03F7/405 , G03F7/70383 , G03H2001/0441 , Y10T428/249967
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a porous carbon structure using optical interference lithography and the porous carbon structure are provided to form a photo-resist pattern with three dimensional pore structures and carbonize the photo-resist pattern. CONSTITUTION: A photo-resist layer(20) is formed on a substrate(10). A three dimensional porous photo-resist pattern is formed on the photo-resist layer based on a three-dimensional optical interference lithography. Inorganic materials(30) are coated on the three dimensional porous photo-resist pattern. The inorganic materials are carbonized by heating the photo-resist pattern. A porous carbon structure(40) is obtained by eliminating the coated inorganic materials.
Abstract translation: 目的：提供使用光学干涉光刻和多孔碳结构制造多孔碳结构的方法，以形成具有三维孔结构的光致抗蚀剂图案并使光致抗蚀剂图案碳化。 构成：在基板（10）上形成光刻胶层（20）。 基于三维光学干涉光刻在光致抗蚀剂层上形成三维多孔光刻胶图案。 无机材料（30）涂覆在三维多孔光刻胶图案上。 无机材料通过加热光致抗蚀剂图案而被碳化。 通过去除涂覆的无机材料获得多孔碳结构（40）。
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公开(公告)号：KR101207020B1
公开(公告)日：2012-11-30
申请号：KR1020100006672
申请日：2010-01-25
Applicant: 서강대학교산학협력단
CPC classification number: G03F7/70408 , G03F7/405 , G03F7/70383 , G03H2001/0441 , Y10T428/249967
Abstract: 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법 및 이에 의한 다공성 탄소 구조체가 제공되며, 상기 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법은 기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 형성된 포토레지스트층에 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 3차원 광간섭 패턴을 조사하여 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 3차원 다공성 포토레지스트 패턴에 무기물을 코팅하는 단계; 상기 무기물이 코팅된 포토레지스트 패턴을 가열하여 탄화시키는 단계; 및 상기 코팅된 무기물을 제거하는 단계를 포함한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101195912B1
公开(公告)日：2012-10-30
申请号：KR1020100091782
申请日：2010-09-17
Applicant: 서강대학교산학협력단
CPC classification number: H01M4/8657 , C01B32/05 , H01M4/625 , H01M4/9083 , H01M4/926 , Y10T428/2982
Abstract: 본원은 구형의 나노입자 응집체를 주형으로서 이용하여 형성되는 구형의 다공성 구조체 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본원의 일 측면에 따른 상기 구형의 다공성 구조체의 제조 방법은, 복수개의 나노입자 및 탄소전구체를 포함하는 액적으로부터 용매를 제거하여 형성되어, 상기 복수개의 나노입자의 표면에 탄소전구체를 포함하는 구형의 나노입자-탄소전구체 응집체를 주형으로 사용하는 것:을 포함한다. 본원에 의하여, 구형의 다공성 탄소 구조체를 용이하게 제조할 수 있으며, 원하는 크기의 기공 사이즈를 가지면서 원하는 크기의 구형의 다공성 탄소 구조체를 제조할 수 있기 때문에, 사용되어질 목적에 맞게 구형의 다공성 탄소 구조체를 제조할 수 있고, 본원에 따른 상기 구형의 다공성 탄소 구조체는, 나노미터 크기의 기공을 가지면서 상기 기공이 서로 연결되어 3 차원의 네트워크 구조를 가지는 구형의 다공성 구조체를 제공하여 광촉매 반응 및 광전기 화학 전환 특성을 통해 공기 및 수질 오염의 자기 정화, 수소연료전지를 위한 물 분해를 통한 수소 생산 등 폭넓은 범위에서 다양한 응용이 가능하다.
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17.发明授权
公开(公告)号：KR101160929B1
公开(公告)日：2012-07-02
申请号：KR1020100056150
申请日：2010-06-14
Applicant: 서강대학교산학협력단
IPC: H01L31/04
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: 화학용액증착법을 이용하여 금속 산화물층을 형성하는 것을 포함하는 광전극의 제조 방법, 및 이에 의하여 제조된 광전극 및 상기 광전극을 포함하는 염료감응형 태양전지에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR101105378B1
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：KR1020100005613
申请日：2010-01-21
Applicant: 서강대학교산학협력단
IPC: H01L21/027
Abstract: 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법으로서, 서로 상이한 차원 또는 주기의 광간섭 패턴을 가지는 두 개 이상의 간섭광을 형성하는 단계; 및 상기 두 개 이상의 간섭광을 기판 상에 형성된 포토레지스트층에 중첩하여 조사함으로써 상기 포토레지스트층에 멀티스케일 격자 패턴을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
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公开(公告)号：KR101093100B1
公开(公告)日：2011-12-13
申请号：KR1020090061231
申请日：2009-07-06
Applicant: 서강대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 초임계 유체 분위기 하에서 역 오팔 구조체를 제조하는 방법 및 그에 의해 제조된 역 오팔 구조체에 관한 것이다. 본 발명에서 이용하는 초임계 유체는 기체에 비해 낮은 점성과 액체에 비해 높은 확산성을 가지므로 세라믹 물질을 이용한 역오팔 구조체를 제작하는데 유용하게 적용될 수 있으며, 보다 신속하고 지속 가능한 제조 방법으로 역 오팔 구조체를 제작할 수 있다. 또한, 본 발명의 방법은 많은 양의 에너지를 소모하지 않는 환경 친화적인 방법으로 초임계 유체 하에서 시간, 온도, 압력 등의 변수를 사용한 제어를 통하여 주형에 원하는 두께로 균일하게 코팅된 역 오팔 구조체를 합성할 수 있다.
역 오팔, 초임계 유체, 라텍스, 세라믹 물질, 폴리스티렌, 가교-
公开(公告)号：KR101058081B1
公开(公告)日：2011-08-19
申请号：KR1020100006675
申请日：2010-01-25
Applicant: 서강대학교산학협력단
IPC: H01L31/04 , H01L31/0224
CPC classification number: H01G9/209 , H01G9/2031 , H01G9/2059 , H01G9/2068 , Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: 광전극의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 광전극을 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것으로서, 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 형성된 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 주형으로서 이용하여 다공성 전이금속 산화물층을 형성하는 것을 포함하는, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법, 및 이에 의하여 제조된 광전극을 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것이다.
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