Abstract:
광전극, 상기 광전극의 제조 방법, 및 상기 광전극을 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것으로서, 나노미터 내지 마이크로미터 범위의 기공이 연결된 3차원 다공성 광전극, 광간섭 리소그래피 및 콜로이드 입자의 자기조립법을 이용하여 상기 광전극을 제조하는 방법, 및 상기 광전극을 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것이다.
Abstract:
본원은 구형의 나노입자 응집체를 주형으로서 이용하여 형성되는 구형의 다공성 구조체 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본원의 일 측면에 따른 상기 구형의 다공성 구조체의 제조 방법은, 복수개의 나노입자 및 탄소전구체를 포함하는 액적으로부터 용매를 제거하여 형성되어, 상기 복수개의 나노입자의 표면에 탄소전구체를 포함하는 구형의 나노입자-탄소전구체 응집체를 주형으로 사용하는 것:을 포함한다.
Abstract:
광전극의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 광전극을 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것으로서, 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 형성된 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 주형으로서 이용하여 다공성 전이금속 산화물층을 형성하는 것을 포함하는, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법, 및 이에 의하여 제조된 광전극을 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것이다.
Abstract:
광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법 및 이에 의한 다공성 탄소 구조체가 제공되며, 상기 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법은 기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 형성된 포토레지스트층에 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 3차원 광간섭 패턴을 조사함으로써 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 형성된 3차원 다공성 포토레지스트 패턴에 무기물을 코팅하는 단계; 상기 무기물이 코팅된 포토레지스트 패턴을 가열하여 탄화시키는 단계; 및 상기 코팅된 무기물을 제거하는 단계:를 포함한다.
Abstract:
PURPOSE: A photo electrode manufacturing method which uses a chemical bath deposition, a photo electrode manufactured by the same, and a dye sensitized solar cell are provided to directly arrange the photo electrode on a seed layer arranged on a substrate using the chemical bath deposition, thereby reducing process time. CONSTITUTION: A photo electrode(100) comprises a conductive transparent substrate(10) and a metal oxide layer(20). The conductive transparent substrate arranges a conductive transparent electrode on a transparent substrate. A seed layer is arranged by coating a metal oxide on the conductive transparent substrate with a fixed thickness. A counter electrode(200) comprises a conductive layer(40) arranged on a conductive transparent substrate(50). An electrolyte(30) is placed between the photo electrode and counter electrode.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing an optical electrode and a dye-sensitized solar battery with an optical electrode are provided to use a polymer colloid magnetic assembly crystalline layer, thereby easily manufacturing a porous transition metal oxide layer. CONSTITUTION: A polymer colloidal solution is applied onto a conductive transparent substrate to form a polymer colloid magnetic assembly crystalline layer(S200). A transition metal oxide precursor solution is injected into the polymer colloid magnetic assembly crystalline layer to form a porous transition metal oxide layer(S300). The porous transition metal oxide layer absorbs a photosensitive dye(S400).
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a multi-scale lattice pattern by optical interference lithography is provided to effectively form a multi-scale lattice pattern which has various lattice constants. CONSTITUTION: At least two interference lights have an optical interference pattern with a different cycle. A photo resist layer is formed on a substrate. A multi-scale lattice pattern is formed on the photo resist layer by overlappingly irradiating at least two interference lights on the photo resist layer. At least two interference lights are formed by interfering parallel lights with different optical routes.
Abstract:
PURPOSE: A photoelectrode for a dye sensitive solar cell, a manufacturing method thereof, and the dye sensitive solar cell including the same are provided to control the thickness of the photoelectrode of the dye sensitive solar cell by applying a casting method and a spin coating speed. CONSTITUTION: A colloidal crystal layer is formed on a conductive transparent substrate(S100). A porous first transition metal oxide layer is formed by selectively removing the colloidal crystal layer(S200). A second transition metal oxide layer is formed on the porous surface of the first transition metal oxide layer by post-processing the porous first transition metal oxide layer with a second transition metal oxide containg-precursor solutions(S300). A photosensitive dye is absorbed in the first transition metal oxide layer with the second transition metal oxide layer on the porous surface thereof(S400).