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公开(公告)号：KR1020110061523A
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：KR1020110037377
申请日：2011-04-21
Applicant: 실트로닉 아게
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/02052 , B08B3/10 , H01L21/02057
Abstract: PURPOSE: A method for wet-chemically processing a semiconductor wafer is provided to couple cleaning chemicals and micro bubbles which etch a silicon surface, thereby increasing the rate of cleaning particles. CONSTITUTION: A semiconductor wafer rotates. Cleaning liquid including gas bubbles whose diameters are smaller than 100 micro meters is applied onto the semiconductor wafer so that a liquefied film is formed on the semiconductor wafer. The liquefied film is removed.
Abstract translation: 目的：提供一种用于湿式化学处理半导体晶片的方法，以连接蚀刻硅表面的清洁化学品和微气泡，从而提高清洁颗粒的速率。 构成：半导体晶片旋转。 将包括直径小于100微米的气泡的清洗液施加到半导体晶片上，使得在半导体晶片上形成液化膜。 液化膜被去除。
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公开(公告)号：KR1020130132277A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：KR1020130055537
申请日：2013-05-16
Applicant: 실트로닉 아게
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/02052 , B08B3/12
Abstract: Provided are an ultrasonic cleaning method and a device thereof capable of stably obtaining a high particle removal ratio. The ultrasonic cleaning method for cleaning a cleaned object of liquids by irradiating ultrasonic waves to the liquids which gas is dissolved comprises a step for preparing the liquids which the gas is dissolved (S10) and a step for irradiating the ultrasonic waves to the liquids and cleaning the cleaned object in order that an area in which a space change ratio of the refractive index of the liquids is high is showed according to the direction of the ultrasonic waves in comparison to a case which the ultrasonic waves are not irradiated (S40). [Reference numerals] (S10) Liquid preparation process;(S20) Space change ratio of the refractive index measurement process;(S30) Liquid adjustment process;(S40) Washing process
Abstract translation: 提供能够稳定地获得高颗粒去除率的超声波清洗方法及其装置。 用于通过向溶解的液体照射超声波来清洁被清洁物体的超声波清洗方法包括制备气体溶解的液体的步骤（S10）和用于将超声波照射到液体和清洁的步骤 与超声波未被照射的情况相比，根据超声波的方向，显示清洁对象，以使得液体的折射率的空间变化率高的区域（S40）。 （S10）液体制备处理（S20）折射率测定处理的空间变化率;（S30）液体调节处理;（S40）洗涤处理
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公开(公告)号：KR1020130049731A
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020120122903
申请日：2012-11-01
Applicant: 실트로닉 아게
IPC: H01L21/302 , H01L21/66
CPC classification number: G01N21/274 , G01N21/70 , G01N21/71 , G01N29/2418 , G01N2021/8416
Abstract: PURPOSE: A cleaning device, a measuring method, and a calibrating method are provided to facilitate a calibrating operation by using sonoluminescence in a gas concentration measuring device. CONSTITUTION: The concentration of a gas is dissolved in liquid. The concentration of the gas is previously determined as a reference concentration(S10). The concentration of the gas is changed. The measurement value of the concentration is determined by using a measuring device(S20). The measurement value is calibrated based on the reference concentration(S30). [Reference numerals] (S10) Step of determining a dissolved nitrogen concentration reference value(C_0) at the beginning of luminescence; (S20) Step of determining a dissolved nitrogen concentration(C_A) at the beginning of luminescence with dissolved nitrogen concentration meter to be calibrated; (S30) Step of calibrating the dissolved nitrogen concentration meter
Abstract translation: 目的：提供清洁装置，测量方法和校准方法，以便通过在气体浓度测量装置中使用声发光来促进校准操作。 构成：气体的浓度溶于液体。 预先确定气体的浓度作为参考浓度（S10）。 气体的浓度发生变化。 通过使用测量装置确定浓度的测量值（S20）。 测量值根据参考浓度进行校准（S30）。 （附图标记）（S10）在发光开始时测定溶解的氮浓度参照值（C_0）的步骤; （S20）用待校准的溶解氮浓度计测定开始发光时的溶解氮浓度（C_A）的步骤; （S30）校准溶解氮浓度计的步骤
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公开(公告)号：KR101516905B1
公开(公告)日：2015-05-04
申请号：KR1020137018767
申请日：2011-12-13
Applicant: 실트로닉 아게
Abstract: 복잡한 동작 없이 세정액의 용존 질소 농도를 실시간으로 정확하게 모니터링할 수 있고 비용을 낮출 수 있는 용존 질소 농도 모니터링 방법이 제공된다. 초음파 조사 중에 용존 산소 농도(D
O2 )가 용존 산소 농도계(43)에 의해 측정된다. 용존 산소 농도의 증가량(ΔD
O2 )은 측정된 용존 산소 농도(D
02 )에서 초기 용존 산소 농도(D
0 )를 뺀 것에 의해 계산된다. 이어서, 특유의 오브플로우 비율 또는 초음파 출력 레벨에 대응하는 근사식이 기억부(46)로부터 판독되고, 기억부(46)로부터 판독된 근사식을 이용하여 용존 산소 농도의 증가량(ΔD
O2 )로부터 혼합 초순수의 용존 질소 농도(D
N2 )를 계산한다.Abstract translation: 提供了一种溶解氮浓度监测方法，该方法能够实时准确地监测清洗液的溶解氮浓度，而无需复杂的操作和降低成本。 在超声辐照期间，溶解氧浓度（D
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公开(公告)号：KR101434775B1
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：KR1020130005329
申请日：2013-01-17
Applicant: 실트로닉 아게
IPC: H01L21/302
Abstract: 본 발명은 피세정물에 초음파가 직접적으로 조사되지 않는 영역의 발생을 방지하는 것이 가능한 세정 방법, 세정 장치 및 세정 설비를 제공하는 것을 목적으로 한다. 세정 장치(1)는 세정조(2)와, 간접조(3)와, 초음파 발생부(6)와, 변경부(7)를 구비한다. 세정조(2)는, 피세정물로서의 기판(10)을 세정하기 위한 세정액(4)을 유지한다. 간접조(3)는, 중간 매체(5)를 유지하고, 세정조(2)의 일부가 중간 매체(5)에 접촉된 상태로 배치된다. 초음파 발생부(6)는, 간접조(3)에 설치되고, 중간 매체(5)를 통해 세정액(4)에 초음파 진동을 조사한다. 변경부(7)는, 세정액(4)의 음속과 중간 매체(5)의 음속과의 차를 변화시킨다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130132296A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：KR1020130057648
申请日：2013-05-22
Applicant: 실트로닉 아게
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/12
Abstract: Subject: provided is an ultrasonic cleaning method capable of obtaining a high particle removal rate and an ultrasonic cleaning apparatus. Solution: the ultrasonic cleaning method for cleaning an object in a liquid by supplying ultrasonic wave to the liquid including oxygen gas includes a step (S10) for preparing the liquid including oxygen gas and a step for cleansing the object by supplying the ultrasonic wave to the liquid to increase the rate of the vibration intensity of the liquid in the reference frequency of the ultrasonic wave to the vibration intensity of the liquid in the forth reference frequency. Therefore, the rate is greater than 0.8/1000. [Reference numerals] (S10) Liquid preparation step;(S20) Liquid vibration intensity measuring step;(S30) Liquid adjusting step;(S40) Washing step
Abstract translation: 主题：提供能够获得高颗粒去除率的超声波清洗方法和超声波清洗装置。 解决方案：用于通过向包括氧气的液体提供超声波来清洗液体中的物体的超声波清洗方法包括用于制备包括氧气的液体的步骤（S10）和通过向超声波提供超声波来清洁物体的步骤 液体以将超声波的参考频率中的液体的振动强度的速率提高到第四参考频率中的液体的振动强度。 因此，这个比率大于0.8 / 1000。 （S10）液体制备工序;（S20）液体振动强度测定工序;（S30）液体调节工序;（S40）洗涤工序
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公开(公告)号：KR1020130106423A
公开(公告)日：2013-09-27
申请号：KR1020137018767
申请日：2011-12-13
Applicant: 실트로닉 아게
CPC classification number: G01N29/02 , B08B3/12 , H01L21/02052 , H01L21/67057 , H01L21/67253 , Y10T436/17 , Y10T436/176152 , Y10T436/20 , Y10T436/207497 , Y10T436/209163
Abstract: There is provided a dissolved nitrogen concentration monitoring method that enables real-time accurate monitoring of the dissolved nitrogen concentration of a cleaning liquid without complicated operations as well as cost reduction. A dissolved oxygen concentration DO2 during ultrasonic wave irradiation is measured by a dissolved oxygen concentration meter 43. An increase amount of dissolved oxygen concentration ?DO2 is calculated by subtracting an initial dissolved oxygen concentration D0 from the measured dissolved oxygen concentration DO2. Subsequently, an approximation equation corresponding to a specific overflow rate or ultrasonic output power level is read out from a storage section 46, and the approximation equation read out from the storage section 46 is used to calculate a dissolved nitrogen concentration DN2 of mixed ultrapure water from the increase amount of dissolved oxygen concentration ?DO2.
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公开(公告)号：KR1020150075070A
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：KR1020150083382
申请日：2015-06-12
Applicant: 실트로닉 아게
IPC: H01L21/02 , H01L21/463
CPC classification number: H01L21/67057 , B08B3/12
Abstract: 안정적으로높은파티클제거율을얻을수 있는초음파세정방법및 초음파세정장치를제공한다. 초음파세정방법은, 기체(2)가용존된액체(1)에초음파를조사함으로써액체(1) 중의세정대상물을세정하기위한초음파세정방법으로서이하의공정을갖고있다. 기체(2)가용존된액체가준비된다. 액체(1)에초음파를조사하면서액체(1)를교반하여, 액체(1)에용존된기체(2)를포함하는기포가계속발생하는상태가실현된다. 기체(2)를포함하는기포가계속발생하는상태에있어서세정대상물이세정된다.
Abstract translation: 提供了一种稳定地获得高颗粒去除率的超声波清洗方法和超声波清洗装置。 用于通过在具有溶解气体（2）的液体（1）上照射超声波来清洁清洁目标物的超声波清洗方法包括以下步骤：制备溶解有气体（2）的液体; 并且通过搅拌液体（1）而连续产生的溶解在液体（2）中的气体（2）的气泡的状态，同时在液体（1）上辐射超声波。 在产生包括气体（2）的气泡的同时清洁清洁目标。
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公开(公告)号：KR101473562B1
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：KR1020130057648
申请日：2013-05-22
Applicant: 실트로닉 아게
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/12
Abstract: 주제: 안정적으로높은파티클제거율을얻을수 있는초음파세정방법및 초음파세정장치를제공한다. 문제를해결하는수단: 초음파세정방법은, 기체가용존된액체에초음파를조사함으로써액체중의세정대상물을세정하기위한초음파세정방법으로서이하의단계를포함한다. 기체가용존된액체가준비된다(S10). 초음파의 4차주파수에서의액체의진동강도를초음파의기본주파수에서의액체의진동강도로나눈비율이 0.8/1000보다커지도록, 액체에초음파를조사하면서세정대상물이세정된다.
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公开(公告)号：KR101412829B1
公开(公告)日：2014-06-27
申请号：KR1020120122903
申请日：2012-11-01
Applicant: 실트로닉 아게
IPC: H01L21/302 , H01L21/66
CPC classification number: G01N21/274 , G01N21/70 , G01N21/71 , G01N29/2418 , G01N2021/8416
Abstract: 기판을 효과적이면서 안정되게 세정할 수 있는 세정 장치, 이 세정 장치에 이용되는 용존 기체의 농도를 측정하는 측정 장치를 교정하는 교정 방법, 및 용존 기체의 농도를 측정하는 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 교정 방법은, 액체 내에 용해된 기체의 농도를 측정하는 측정 장치를 교정하는 교정 방법이다. 이 교정 방법에서, 액체 내에 용해된 기체의 농도를 변화시키면서, 그 액체에 초음파를 조사할 때에 생성되는 발광의 강도가 피크치를 보이게 되는 기체의 농도를 기준 농도로서 사전에 결정하는 단계(S10)를 수행한다. 이어서, 액체 내의 기체의 농도를 변화시키면서 초음파를 액체에 조사함으로써 발광의 강도가 피크치를 보일 때의 액체 내의 기체 농도를 교정될 측정 장치를 이용하여 측정하여, 기체 농도의 측정값을 결정하는 단계(S20)를 수행한다. 교정될 측정 장치를 그 측정값 및 기준 농도에 기초하여 교정하는 단계(S30)를 수행한다.
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