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11.发明授权오산화바나듐(Ｖ２Ｏ５)이 코팅된 이산화티타늄(ＴＩＯ２)분말의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 오산화바나듐이 코팅된 이산화티타늄 분말 有权使用热等离子体制备五氧化二钒包覆的氧化钛粉末，并由此得到五氧化二钒包覆的氧化钛粉末
公开(公告)号：KR101276240B1
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：KR1020110103009
申请日：2011-10-10
Applicant: 인하대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 오산화바나듐이 코팅된 이산화티타늄분말의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 오산화바나듐이 코팅된 이산화티타늄 분말에 관한 것으로, 상세하게는 액상의 사염화티타늄(TiCl
4 ) 및 옥시염화바나듐(VOCl
3 )을 기화시킨 후, 열플라즈마 제트를 이용하여 티타늄(Ti) 및 바나듐(V)으로 분해하는 단계(단계 1); 상기 단계 1의 열플라즈마 제트 장치 내부로 반응가스를 주입하여 이산화티타늄(TiO
2 ) 및 오산화바나듐(V
2 O
5 )을 합성하는 단계(단계 2); 및 상기 단계 2에서 합성된 이산화티타늄 및 오산화바나듐을 급냉시켜 오산화바나듐이 코팅된 이산화티타늄 분말을 포집하는 단계(단계 3)를 포함하는 오산화바나듐(V
2 O
5 )이 코팅된 이산화티타늄(TiO
2 )분말의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 오산화바나듐(V
2 O
5 )이 코팅된 이산화티타늄(TiO
2 )분말의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 오산화바나듐이 코팅된 이산화티타늄분말은 열플라즈마 제트를 이용하여 나노 사이즈의 오산화바나듐(V
2 O
5 )이 코팅된 이산화티타늄(TiO
2 ) 분말을 단시간 내에 합성할 수 있으며, 고온의 플라즈마를 이용함으로써 원료물질의 기화 및 분해가 용이하고, 공정효율이 좋으며, 공정조건의 제어가 쉬운 장점이 있다.-
公开(公告)号：KR101276238B1
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：KR1020110069399
申请日：2011-07-13
Applicant: 인하대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 열플라즈마 제트를 이용한 중공의 구형 알루미나 분말의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 열플라즈마 제트 발생가스를 공급하여 열플라즈마 제트를 발생시키는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 발생된 열플라즈마 제트에 알루미나 분말을 공급하여 용해시키는 단계(단계 2); 및 상기 단계 2에서 용해된 알루미나 분말을 냉각시키고 포집하는 단계(단계 3)를 열플라즈마 제트를 이용한 중공의 구형 알루미나 분말의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 열플라즈마 제트를 이용함으로써 짧은 시간 동안에 알루미나 분말에 열을 가하고 냉각시켜 중공의 구형 알루미나를 제조할 수 있고, 공정 시간이 상대적으로 짧으며, 공정 조건의 제어가 쉽다는 장점이 있다.
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公开(公告)号：KR1020120089073A
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：KR1020110010201
申请日：2011-02-01
Applicant: 인하대학교 산학협력단
IPC: C01B33/113 , H01M4/48 , B01J19/08
CPC classification number: C01B33/113 , B01J19/087 , B01J2219/0894 , C01P2004/64 , H01M4/48
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing silicon oxide powder based on thermal plasma and the silicon oxide powder manufactured by the same are provided to improve the efficiency of operational processes by using plasma of high temperatures. CONSTITUTION: A method for manufacturing silicon oxide powder using thermal plasma includes the following: pellet based on the mixed powder of silicon and silicon dioxide or silicon dioxide powder is molten and vaporized; reaction gas is injected into a thermal plasma device to reduce silicon dioxide from the vaporized gas into silicon oxide(SiO_x). In silicon oxide, x is between 0.5 and 1.5. The reduced silicon oxide is collected into silicon oxide powder. The thermal plasma generating gas is one selected from argon, nitrogen, and the mixed gas of argon and nitrogen.
Abstract translation: 目的：提供一种基于热等离子体制造氧化硅粉末的方法和由其制造的氧化硅粉末，以通过使用高温等离子体来提高操作过程的效率。 构成：使用热等离子体制造氧化硅粉末的方法包括以下：基于硅和二氧化硅或二氧化硅粉末的混合粉末的颗粒被熔化和蒸发; 将反应气体注入热等离子体装置以将二氧化硅从蒸发的气体中减少为氧化硅（SiO_x）。 在氧化硅中，x在0.5和1.5之间。 还原的氧化硅被收集到氧化硅粉末中。 热等离子体产生气体选自氩，氮，氩和氮的混合气体。
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公开(公告)号：KR1020100021870A
公开(公告)日：2010-02-26
申请号：KR1020080080513
申请日：2008-08-18
Applicant: 인하대학교 산학협력단
CPC classification number: C01G23/07 , B01J21/18 , B01J35/0013 , B01J35/002 , B01J35/004 , B01J37/342 , B01J37/349 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01P2002/54 , C01P2002/72 , C01P2002/85 , C01P2004/03 , C01P2004/32 , C01P2004/64
Abstract: PURPOSE: A method for preparing nano-sized anatase phase TIO2 powder is provided to decompose carbon dioxide in a short time using high temperature and high activity thermal plasma. CONSTITUTION: A method for preparing nano-sized anatase phase TIO2 powder using thermal plasma comprises the steps of: (i) injecting carbon dioxide and vaporized TiSl4 as reaction gas into a reaction tube(2) of a thermal plasma jet device; (ii) decomposing the injected carbon dioxide with the thermal plasma jet and reacting with carbon tetrachloride carried by the carrier gas; and (iii) cooling the titanium dioxide to produce the nano-sized anatase phase TIO2 powder.
Abstract translation: 目的：提供一种制备纳米尺寸锐钛矿相TIO2粉末的方法，可在短时间内使用高温高活性热等离子体分解二氧化碳。 构成：使用热等离子体制备纳米尺寸锐钛矿相TIO2粉末的方法包括以下步骤：（i）将二氧化碳和蒸发的TiSl 4作为反应气体注入到等离子体喷射装置的反应管（2）中; （ii）用热等离子体射流分解注入的二氧化碳并与载气携带的四氯化碳反应; 和（iii）冷却二氧化钛以产生纳米尺寸锐钛矿相TIO 2粉末。
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15.发明授权열플라즈마 제트를 이용한 아나타제 상과 루타일 상 이산화티탄 나노 분말의 선택적 제조방법 및 이에 따라 제조되는 이산화티탄 나노 분말 有权一种使用热等离子体射流和二氧化钛纳米粉末选择性地制备锐钛矿相和金红石相二氧化钛纳米粉末的方法
公开(公告)号：KR101753665B1
公开(公告)日：2017-07-19
申请号：KR1020160045221
申请日：2016-04-13
Applicant: 인하대학교 산학협력단
IPC: C01G23/047 , B01J19/08 , B82B3/00
CPC classification number: C01G23/047 , B01J19/088 , B82B3/0038 , C01P2004/64
Abstract: 본발명은열플라즈마를이용한아나타제상과루타일상 이산화티탄나노분말의선택적제조방법및 이에따라제조되는이산화티탄나노분말에관한것이다. 본발명의열플라즈마제트를이용한나노분말제조방법은고온, 고활성등의특징을갖는열플라즈마를사용함으로써후처리과정을고려할필요가없을뿐 아니라 2차오염물질의생성우려가없으며, 제조조건을조절하여아나타제상 또는루타일상의이산화티탄을선택적으로제조할수 있다는장점이있다. 또한, 본발명에따른제조방법으로제조된이산화티탄나노분말은제조조건을조절하여아나타제상 또는루타일상으로제조될수 있으며, 특히루타일상의이산화티탄의경우종래의아나타제상이고온에서상변화되어제조된루타일상의이산화티탄나노분말보다작고균일한크기의나노분말로제조되어, 루타일상의이산화티탄이사용되는안료및 화장품분야에매우유용하게사용될수 있다는장점이있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用热等离子体选择性生产锐钛矿相和金红石二氧化钛纳米粉末的方法，以及由此生产的二氧化钛纳米粉末。 使用本发明的热等离子体射流产生纳米 - 粉末，以及没有必要使用热具有等离子体的功能，如高温后考虑的处理的方法，高活性的消除二次污染的产生风险，生产条件 有可能选择性地生产锐钛矿或金红石二氧化钛。 此外，根据本发明的一个控制的制造条件下，锐钛矿和相位或金红石在常规制备由生产过程产生的氧化钛纳米粉末，尤其是金红石型是常规的锐钛矿相变化相在高温下在一天到一天制造的二氧化钛 碱具有的优点是生产小，大小均匀超过常规的二氧化钛纳米粉末纳米粉末的，在化妆品的颜料和金红石型的二氧化钛的日常使用的字段是非常有用的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160104136A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：KR1020150026360
申请日：2015-02-25
Applicant: 인하대학교 산학협력단
IPC: C01G15/00
CPC classification number: C01G15/00 , C01P2004/51 , C01P2004/64
Abstract: 본발명은열플라즈마제트발생가스를공급하여열플라즈마제트를발생시키는단계(단계 1); 상기단계 1에서발생된열플라즈마제트를이용하여갈륨원료분말을용융및 기화시키는단계(단계 2); 상기단계 2에서기화된갈륨원료분말에반응가스를주입하는단계(단계 3); 및상기기화된분말을냉각시키는단계(단계 4);를포함하는것을특징으로하는질화갈륨나노분말의제조방법을제공한다. 본발명에따른질화갈륨나노분말의제조방법은열플라즈마제트를이용하여질화갈륨나노분말을제조하는것으로써, 고순도, 고결정성의질화갈륨나노분말을빠른시간내에대량으로생산해낼수 있는효과가있다. 또한, 질화갈륨나노분말을제조하기위한갈륨원료분말로서갈륨분말뿐만아니라, 갈륨화합물분말, 특히경제적인원료물질인갈륨나이트레이트수화물을이용하여질화갈륨을제조할수 있다.
Abstract translation: 本发明提供了一种氮化镓纳米粉末的制备方法，包括：提供热等离子体发生气体以产生热等离子体射流（步骤1）; 使用在步骤1中产生的热等离子体射流来熔化和汽化镓材料粉末（步骤2）; 将反应气体注入步骤2（步骤3）中蒸发的镓材料粉末中; 并冷却蒸发的粉末（步骤4）。 根据本发明的氮化镓纳米粉末的制备方法使用热等离子体射流来制造氮化镓纳米粉末，并且具有在短时间内大量生产高纯度和高结晶氮化镓纳米粉末的效果。 根据本发明，不仅镓材料粉末，而且镓化合物粉末，特别廉价的硝酸镓水合物也可用于制造氮化镓。
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公开(公告)号：KR101621235B1
公开(公告)日：2016-05-17
申请号：KR1020140144966
申请日：2014-10-24
Applicant: 인하대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은열플라즈마제트발생가스를공급하여열플라즈마제트를발생시키는단계(단계 1); 상기단계 1에서발생된열플라즈마제트에산화붕소(Boron oxide) 및멜라민(Melamine)을혼합한분말을토치(torch) 내부의양극노즐을통해공급하여기화시키는단계(단계 2); 상기열플라즈마제트의반응관(reactor)으로반응가스를주입하는단계(단계 3); 및상기단계 2에서기화된분말을냉각시키는단계(단계 4);를포함하는열플라즈마제트를이용한입방질화붕소나노분말의제조방법을제공한다. 또한본 발명은산화붕소(Boron oxide) 및멜라민(Melamine)을혼합한분말을열플라즈마처리함으로써입방질화붕소나노분말을빠르게제조할수 있는장점이있다.
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公开(公告)号：KR101605087B1
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：KR1020140129978
申请日：2014-09-29
Applicant: 인하대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은유전체장벽플라즈마발생장치에관한것으로더욱상세하게는플라즈마발생가스를주입하지않고대기상태에서안정적으로장시간방전할수 있으며, 유연성을동시에가지는유전체장벽플라즈마발생장치에관한것이다. 본발명에따르면, 플라즈마발생가스를주입하지않고대기상태에서안정적으로장시간방전가능하며, 유연성있게형성되어다양한형태로구성할수 있으며, 전극의간극변화만으로선형방전과균일방전을조절할수 있어더욱안정적이고효율이증대될수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及电介质阻挡层的等离子体发生装置。 更具体地说，本发明涉及一种电介质阻挡层的等离子体产生装置，其能够在等待状态下长时间稳定地放电而不喷射等离子体产生气体，并且同时是柔性的。 根据本发明，等离子体发生装置可以在待机状态下长期稳定地放电而不喷射等离子体产生气体，形成为柔性形成各种形状，并且可以仅通过以下方式控制线性放电和均匀放电 改变电极之间的空间，从而更加稳定和提高效率。 柔性电介质阻挡层的等离子体产生装置包括：导线; 形成在所述导线的外壁中的绝缘管; 绝缘管外部形成特氟隆管; 以及在绝缘管和特氟龙管之间注入的冷却水。
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公开(公告)号：KR101600045B1
公开(公告)日：2016-03-07
申请号：KR1020140084375
申请日：2014-07-07
Applicant: 인하대학교 산학협력단
IPC: C01B21/064 , C01B35/08 , B01J19/08
Abstract: 본발명은열플라즈마제트를이용한질화붕소나노분말의제조방법및 이에따라제조되는질화붕소나노분말에관한것으로, 상세하게는열플라즈마제트발생가스를공급하여열플라즈마제트를발생시키는단계(단계 1); 상기단계 1에서발생된열플라즈마제트에마이크로스케일의질화붕소분말을공급하여기화시키는단계(단계 2); 및상기단계 2에서기화된질화붕소를냉각시켜질화붕소나노분말을제조하는단계(단계 3)를포함하는열플라즈마제트를이용한질화붕소나노분말의제조방법을제공한다. 본발명에따른상기질화붕소나노분말의제조방법은열플라즈마제트를이용하여질화붕소나노분말을제조하는것으로써, 고순도의질화붕소나노분말을빠른시간내에대량으로생산해낼수 있는효과가있다.
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20.发明公开
公开(公告)号：KR1020160005820A
公开(公告)日：2016-01-18
申请号：KR1020140084375
申请日：2014-07-07
Applicant: 인하대학교 산학협력단
IPC: C01B21/064 , C01B35/08 , B01J19/08
CPC classification number: C01B21/064 , B01J19/08 , C01B35/08
Abstract: 본발명은열플라즈마제트를이용한질화붕소나노분말의제조방법및 이에따라제조되는질화붕소나노분말에관한것으로, 상세하게는열플라즈마제트발생가스를공급하여열플라즈마제트를발생시키는단계(단계 1); 상기단계 1에서발생된열플라즈마제트에마이크로스케일의질화붕소분말을공급하여기화시키는단계(단계 2); 및상기단계 2에서기화된질화붕소를냉각시켜질화붕소나노분말을제조하는단계(단계 3)를포함하는열플라즈마제트를이용한질화붕소나노분말의제조방법을제공한다. 본발명에따른상기질화붕소나노분말의제조방법은열플라즈마제트를이용하여질화붕소나노분말을제조하는것으로써, 고순도의질화붕소나노분말을빠른시간내에대량으로생산해낼수 있는효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及使用由此制造的热等离子体射流和氮化硼纳米粉末的氮化硼纳米粉末的制造方法。 更具体地说，在本发明中，提供了使用热等离子体射流的氮化硼纳米粉末的制造方法，其包括以下步骤：（步骤1）通过供给热等离子体产生气体产生热等离子体射流; （步骤2）向步骤1产生的热等离子体射流提供微量氮化硼粉末并蒸发粉末; 和（步骤3）通过从步骤2中蒸发的氮化硼粉末冷却来制造氮化硼纳米粉末。氮化硼纳米粉末的制造方法可以在短时间内使用热量制造大量的高纯度的氮化硼纳米粉末 等离子体射流
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