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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150077045A
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：KR1020130165871
申请日：2013-12-27
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은파이프형태로구비되는연마대상물의내측면을화학연마처리할수 있는화학연마장치및 화학연마방법을제공하기위하여, 파이프형태의연마대상물의내측에연결되는공급로및 상기공급로를통해상기연마대상물의내측으로연마액을공급하여상기연마대상물의내부면이연마되도록하는연마액공급부및 상기연마대상물에연통되어상기연마대상물로부터의상기연마액의배출경로를형성하는배출로를포함한다. 이에, 본발명은파이프형태로구비되는연마대상물, 특히좁은틈을갖는연마대상물의내경에대한연마처리를수행할수 있어다양한분야의연마공정에서적용실시될수 있는효과가있다.
Abstract translation: 提供一种能够对被抛光管状物体的内表面进行化学抛光处理的化学抛光装置和化学抛光方法。 所述化学抛光装置包括：与要被抛光的管状物体的内部连接的入口; 抛光液体供给单元，通过供给通路将研磨液供给到被研磨物的内部，研磨被研磨物的内表面; 以及与被抛光物体连通的出口，以形成抛光液体从待抛光对象物的排出路径。 因此，本发明可以对要被研磨的管状物体，特别是对于具有窄间隙的待抛光物体的内径进行抛光处理，从而适用于各种领域的抛光工艺。
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公开(公告)号：KR101287135B1
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：KR1020120048895
申请日：2012-05-09
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: PURPOSE: An extrusion device and an extrusion method of a metal material are provided to maintain an excellent luster and an excellent appearance by blocking from being contacted with oxygen and moisture. CONSTITUTION: An extrusion device of a metal material comprises an extruding mold, an exit cover, an entrance cover, a gas injection unit, and a second gas injection tube. The first gas injection tube is formed in the extrusion mold. The extrusion method of using the extruding device comprises the following steps: an ambient gas is injected through the first gas injection tube; a material is extruded in a fixed length; the exit cover is installed at a leading end of a product; an extrusion is progressed while the ambient gas is injected through the first or the second gas injection tube; while the ambient gas is injected through the second gas injection tube after the extrusion is completed, the entrance cover is installed in a rear end of the product; and in the gas, moisture is removed, and oxygen content is less than 20%. [Reference numerals] (AA) Extruded product
Abstract translation: 目的：提供一种金属材料的挤出装置和挤出方法，以通过阻止与氧气和水分接触来保持优异的光泽和优异的外观。 构成：金属材料的挤出装置包括挤出模具，出口盖，入口盖，气体注入单元和第二气体注入管。 第一气体注射管形成在挤出模具中。 使用挤出装置的挤出方法包括以下步骤：通过第一气体注入管注入环境气体; 材料以固定长度挤出; 出口盖安装在产品的前端; 当环境气体通过第一或第二气体注入管注入时，进行挤压; 而在挤出完成之后环境气体通过第二气体注射管注入，入口盖安装在产品的后端; 在气体中除去水分，氧含量低于20％。 （标号）（AA）挤压制品
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13.发明公开
公开(公告)号：KR1020150093061A
公开(公告)日：2015-08-17
申请号：KR1020140013858
申请日：2014-02-06
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 유선의 한계 및 검사를 위한 장비의 제약을 극복하도록 구조와 방식이 개선된 누출 감지 시스템 및 누출 감지 시스템의 제어방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 누출 감지 시스템은 피검사체에 분사된 트레이스(trace) 가스를 감지하는 누출 감지기, 누출 감지기와 양방향 무선 통신되고 누출 감지기의 작동을 제어하는 제1모드와 누출 감지기의 작동 정보를 모니터링 하는 제2모드 중 적어도 어느 하나의 모드로 작동하는 프로그램이 저장된 저장매체를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 누출 감지기를 작동하는 제1모드와 누출 감지기의 정보를 모니터링 하는 제2모드로 작동할 수 있는 프로그램을 저장한 저장매체를 이용하여 피검사체의 누출 검사를 실행할 수 있으므로, 피검사체의 누출 검사를 위한 장비 제약과 누출 검사 소요 시간을 감소시킬 수 있다.
Abstract translation: 泄漏检测系统技术领域本发明涉及一种泄漏检测系统，其中改进了结构和方式，以克服用于检查和限制线材的设备的限制，以及泄漏检测系统的控制方法。 所述泄漏检测系统包括：铅检测单元，其检测注入到检查对象中的痕量气体; 以及存储介质，其以两种方式与泄漏检测单元进行通信，并且存储以控制泄漏检测单元的操作的第一模式的至少任一种模式操作的程序和检测泄漏检测单元的监视操作信息的第二模式 单元。 因此，由于可以通过使用存储以第一操作泄漏检测单元的操作模式的程序的存储介质和监视泄漏检测单元的信息的第二模式来对检查对象进行泄漏检查， 减少检查对象的泄漏检查所需的设备和泄漏检查的时间。
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公开(公告)号：KR101540046B1
公开(公告)日：2015-07-28
申请号：KR1020130165871
申请日：2013-12-27
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은파이프형태로구비되는연마대상물의내측면을화학연마처리할수 있는화학연마장치및 화학연마방법을제공하기위하여, 파이프형태의연마대상물의내측에연결되는공급로및 상기공급로를통해상기연마대상물의내측으로연마액을공급하여상기연마대상물의내부면이연마되도록하는연마액공급부및 상기연마대상물에연통되어상기연마대상물로부터의상기연마액의배출경로를형성하는배출로를포함한다. 이에, 본발명은파이프형태로구비되는연마대상물, 특히좁은틈을갖는연마대상물의내경에대한연마처리를수행할수 있어다양한분야의연마공정에서적용실시될수 있는효과가있다.
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公开(公告)号：KR1020150017248A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：KR1020130093268
申请日：2013-08-06
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은, 메디아제거장치및 방법에관한것으로, 본발명은혼합물챔버, 상기혼합물챔버에퍼지하기위한가스를공급하는가스공급부, 상기혼합물챔버에연결되고세정액을상기혼합물챔버에주입하는액체공급부, 상기혼합물챔버의하단에형성되어액체및 가스를배출하는배기부, 상기배기부와연결되고, 액체를분사하여입자유동가공처리된금속용기내면에잔류하는메디아를제거하는분사부를포함하는메디아제거장치및 이의방법을제공한다. 본발명에의할경우, 입자유동가공기로가공한경면에메디아제거시적절한압력으로세정액과질소를분사하여, 소용돌이현상에따른스크레치가발생하는종래의메디아제거방법의문제점을해결할수 있으며, 메디아제거과정에공기와수분을차단하여내부의경면연마한상태를유지할수 있고, 추가연마공정이필요하지않으며, 이에따른공정효율과제조비용의절감이기대된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种去除介质的装置及其方法。 该装置包括混合室; 气体供给单元，其供给用于净化混合室的气体; 液体供应单元，连接到混合室并在混合室中注入清洗溶液; 排气单元，其安装在混合室的下端并排出液体和气体; 以及连接到排气单元并且移除残留在金属容器内的介质的注射单元，其是通过注射流体进行的磨料流加工处理。 根据本发明，由于涡流现象而产生刮痕的传统的介质去除方法的问题可以通过在从磨料加工的镜面抛光表面上去除介质时，以适当的压力注入清洗溶液和氮气来解决 流动机，镜面抛光状态可以通过在介质移除过程中阻挡空气和水来维持，不需要额外的抛光工艺，提高了处理效率，并降低了制造成本。
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