公开(公告)号：KR101287135B1

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：KR1020120048895

申请日：2012-05-09

Applicant: 포항공과대학교 산학협력단

Inventor： 하태균 ,  한승진 ,  홍만수 ,  권혁채 ,  박종도 ,  정석민

IPC: B21C23/00 ,  B21C25/00

Abstract: PURPOSE: An extrusion device and an extrusion method of a metal material are provided to maintain an excellent luster and an excellent appearance by blocking from being contacted with oxygen and moisture. CONSTITUTION: An extrusion device of a metal material comprises an extruding mold, an exit cover, an entrance cover, a gas injection unit, and a second gas injection tube. The first gas injection tube is formed in the extrusion mold. The extrusion method of using the extruding device comprises the following steps: an ambient gas is injected through the first gas injection tube; a material is extruded in a fixed length; the exit cover is installed at a leading end of a product; an extrusion is progressed while the ambient gas is injected through the first or the second gas injection tube; while the ambient gas is injected through the second gas injection tube after the extrusion is completed, the entrance cover is installed in a rear end of the product; and in the gas, moisture is removed, and oxygen content is less than 20%. [Reference numerals] (AA) Extruded product

Abstract translation: 目的：提供一种金属材料的挤出装置和挤出方法，以通过阻止与氧气和水分接触来保持优异的光泽和优异的外观。 构成：金属材料的挤出装置包括挤出模具，出口盖，入口盖，气体注入单元和第二气体注入管。 第一气体注射管形成在挤出模具中。 使用挤出装置的挤出方法包括以下步骤：通过第一气体注入管注入环境气体; 材料以固定长度挤出; 出口盖安装在产品的前端; 当环境气体通过第一或第二气体注入管注入时，进行挤压; 而在挤出完成之后环境气体通过第二气体注射管注入，入口盖安装在产品的后端; 在气体中除去水分，氧含量低于20％。 （标号）（AA）挤压制品

公开(公告)号：KR100674204B1

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：KR1020050021750

申请日：2005-03-16

Applicant: 학교법인 포항공과대학교 ,  주식회사 브이엠티 ,  포항공과대학교 산학협력단

Inventor： 정석민 ,  하태균 ,  김진곤 ,  이득진

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/56

Abstract: 본 발명은 스퍼터 이온펌프에서 두 개의 티타늄 음극판과 그 사이에 위치하는 원통형 양극 셀 튜브들간에 PIC 시뮬레이션을 이용하여 간격을 도출하여 배기 성능을 극대화하기 위한 것으로, 이를 위한 구조는 고전압에 의해 생성된 양이온이 두 개의 음극판에 충돌하여 티타늄 원자들이 스퍼터링되어 원통형 양극 셀 튜브들 내부 표면에 티타늄 층으로 형성되는 스퍼터 이온 펌프의 구조에 있어서, 두 개의 음극판과 그 사이에 위치하는 원통형 양극 셀 튜브들간의 갭을 PIC 시뮬레이션을 통해 7㎜의 간격으로 도출하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 따라서, 기체의 이온화 확률 및 음극판에서 스퍼터링된 티타늄 원자가 양극으로 증착되는 양을 최적화하여 배기 성능을 극대화 할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020060100095A

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：KR1020050021750

申请日：2005-03-16

Applicant: 학교법인 포항공과대학교 ,  주식회사 브이엠티 ,  포항공과대학교 산학협력단

Inventor： 정석민 ,  하태균 ,  김진곤 ,  이득진

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/56

Abstract: 본 발명은 스퍼터 이온펌프에서 두 개의 티타늄 음극판과 그 사이에 위치하는 원통형 양극 셀 튜브들간에 PIC 시뮬레이션을 이용하여 최적화된 간격을 도출하여 배기 성능을 극대화하기 위한 것으로, 이를 위한 구조는 고전압에 의해 생성된 양이온이 두 개의 음극판에 충돌하여 티타늄 원자들이 스퍼터링되어 원통형 양극 셀 튜브들 내부 표면에 티타늄 층으로 형성되는 스퍼터 이온 펌프의 구조에 있어서, 두 개의 음극판과 그 사이에 위치하는 원통형 양극 셀 튜브들간의 갭을 PIC 시뮬레이션을 통해 7㎜의 간격으로 도출하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 따라서, 기체의 이온화 확률 및 음극판에서 스퍼터링된 티타늄 원자가 양극으로 증착되는 양을 최적화하여 배기 성능을 극대화 할 수 있는 효과가 있다.