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公开(公告)号：KR100862094B1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：KR1020060098779
申请日：2006-10-11
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 2진법식 비율증가에 의한 저항 비율교정 방법에 관한것으로서, 상세하게는 여러종류의 저항으로 비율저항을 측정하는 비율저항 측정장치를 이용한 비율측정 방법에 있어서, 일정한 저항값을 갖으며, 여러종류인 저항중 가장 낮고, 동일한 값을 가지는 저항 2개를 임의로 선택하며, 상기와 동일한 저항값을 갖는 최소표준저항과 저항값을 비교하는 최소표준저항 비교단계와; 상기 설정된 저항 2개를 직렬로 연결하여 2개의 값을 더한 저항과 동일한 상위의 저항을 비교하여 그 차이를 측정하며, 이를 수차례 반복하는 비교단계와; 상기 비교단계를 거친 저항중 최종값으로 설정한 하나의 저항과 임의로 설정한 최고치 표준저항과 동일한 값이 만들어지도록 최종값저항과 수치가 작은 저항을 직렬로 연결하여 임의로 설정한 최고표준저항과 비교하는 최고표준저항 비교단계와; 상기 저항 간에 비교하여 비율을 측정한 값과, 직류전류 비교기 브리지(Direct Current Comparator Bridge, 이하 직류전류 비교기 브리지)와 같은 비율측정기를 사용하여 직접 최소저항과 최대저항을 비교한 값과 비교하여 비율오차 값을 구하는 비율오차 측정단계;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 2진법식 비율증가에 의한 저항 비율교정 방법에 관한것이다.
저항비율, 표준저항, 비율오차, 요소저항, 비율교정, 이진법-
公开(公告)号：KR100666314B1
公开(公告)日：2007-01-09
申请号：KR1020040083521
申请日：2004-10-19
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: G01R27/02
Abstract: 종래 기술은 저항브리지의 비율을 정확하게 교정하기 위하여 정도가 훨씬 높고 비싼 장비인 저온 전류 비교기(cryogenic current comparator,CCC) 브릿지등을 사용하지만, 현재까지 10
-8 이하의 정확도로 저항비를 교정하려면 상기 저온 전류 비교기 브릿지를 사용하여야 하지만, 이 브리지는 저온에서 동작되고, 스퀴드(SQUID)를 사용하므로 잡음에 아주 민감하여 비경제적이고 다루기가 쉽지 않아 세계적으로 몇몇 표준기관(National Metrology Institute, NMI)에서만 사용하고 있는 문제점을 안고 있다.
본 발명에서는 삼각비교방법을 사용하여 단지 24시간이내의 단기간(short-term) 안정도가 좋은 저항 몇 개와 측정장비의 분해능만으로 임의의 저항비율오차를 정확하게 결정하여 그 저항비율을 교정할 수 있는 방법 및 이를 이용한 측정기를 제공하고자 하는 것이다.
저항, 비율오차, 삼각비교방법-
公开(公告)号：KR101584706B1
公开(公告)日：2016-01-15
申请号：KR1020140037553
申请日：2014-03-31
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: H01J37/317
Abstract: 본발명은패러데이컵어셈블리에관한것이다. 본발명의패러데이컵어셈블리는입사되는이온빔을수집하는패러데이컵, 및패러데이컵내부에제공되고, 뿔형태를갖는복수개의수집엘리먼트들을포함하고, 수집엘리먼트들각각은이온빔의입사방향에가까울수록단면적이감소되도록형성된다.
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公开(公告)号：KR1020110043067A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：KR1020090100007
申请日：2009-10-21
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: PURPOSE: A method for measuring the thickness of a thin film using a four-point probe method is provided to enable anyone to accurately and rapidly measure the thickness of a thin film using single and dual configuration technology of a four-point probe method. CONSTITUTION: A method for measuring the thickness of a thin film using a four-point probe method comprises a 4-point probe(24), a current application unit(18), a voltage measurement unit, a memory(16), and an operation unit. The 4-point probe is installed in a thin film material with contact. The current application unit applies current on the 4-point probe. The voltage measurement unit measures the voltage from the 4-point probe. The memory records specific resistance information of the thin film material. The operation unit computes the surface resistance of the thin film material. The operation unit computes the thickness of the thin film material.
Abstract translation: 目的：提供一种使用四点探针法测量薄膜厚度的方法，使得任何人能够使用四点探针法的单一和双重配置技术来精确和快速地测量薄膜的厚度。 构成：使用四点探针法测量薄膜厚度的方法包括4点探针（24），电流施加单元（18），电压测量单元，存储器（16）和 操作单元 4点探头安装在与薄膜接触的材料上。 当前应用单元在4点探头上施加电流。 电压测量单元测量4点探头的电压。 存储器记录薄膜材料的比电阻信息。 操作单元计算薄膜材料的表面电阻。 操作单元计算薄膜材料的厚度。
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公开(公告)号：KR101029026B1
公开(公告)日：2011-04-15
申请号：KR1020090099674
申请日：2009-10-20
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: PURPOSE: A copper bus bar transfer device of a high current transformer is provided to easily transfer and position a heavy copper bus bar at a desirable position. CONSTITUTION: A copper bus bar transfer device of a high current transformer includes a transferor and a main frame. The transferor is comprised of a loading unit and a transfer unit. The main frame is comprised of two bottom frames(11), a plurality of vertical frames(12), an upper frame(13), a support frame(14), a fixing unit(14b), and a fixing block. The main frame supports the weight of a transfer product(100) when the transfer product is separated from the transferor and helps the movement of the transfer product to a target position.
Abstract translation: 目的：提供大电流互感器的铜母线传输装置，以便将重铜母线轻松地传输和定位在理想的位置。 构成：大电流互感器的铜母线传输装置包括传送器和主机架。 转印机由装载单元和转印单元构成。 主框架由两个底架（11），多个垂直框架（12），上框架（13），支撑框架（14），固定单元（14b）和固定块组成。 当转印产品与转印器分离并且帮助转印产品移动到目标位置时，主框架支撑转印产品（100）的重量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101012769B1
公开(公告)日：2011-02-08
申请号：KR1020080110192
申请日：2008-11-07
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 측정하고자 하는 션트저항에서 발생되는 위상각 오차를 정확하게 측정하기 위한 펄스 계수를 이용한 션트저항의 위상각 오차 측정장치 및 이를 이용한 오차 측정방법을 제공하는데 있다. 이를 달성하기 위한 수단으로, 전류채널 및 전압채널이 구비되는 전력공급부; 전력공급부에 직렬로 연결되어 전류를 공급받는 표준션트저항; 전력공급부와 표준션트저항에 각각 직렬로 연결되어 전류를 공급받아 위상각 오차를 측정하기 위한 측정션트저항; 표준션트저항과 측정션트저항을 선택적으로 선택하는 제 1스위치; 선택된 션트저항에서 출력되는 전압 신호를 사각파로 변환시키는 제 1제로 크로싱 앰프; 전력공급부에 연결되어 공급되는 기준 위상신호를 사각파로 변환시키는 제 2제로 크로싱 앰프; 제 1, 2제로 크로싱 앰프로부터 각각 출력된 션트 사각파와 기준 사각파가 입력될 수 있도록 하는 제 2스위치; 각각 션트 사각파와 기준 사각파를 제공받아 위상각 오차를 계산하는 위상감지부; 고주파를 제공하는 고주파 발생부; 고주파에 위상감지부에서 출력된 위상각 오차를 비교하여 위상각 오차에 비례하는 고주파를 추출하는 위상 비교부; 및 위상차 오차 고주파의 펄스 수를 계수하는 펄스 계수부;를 포함하여 형성된 것이 특징이다.
션트저항, 위상각 오차, 표준션트저항, 펄스 계수-
公开(公告)号：KR1020090011811A
公开(公告)日：2009-02-02
申请号：KR1020070075768
申请日：2007-07-27
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01R27/02 , G01R15/125 , G01R35/005
Abstract: A method for calculating each parameter value from ratio values given through comparison between variables obtained by a direct measurement method is provided to remove a problem in a moving state and a cost for correction by obtaining a desired resistance at the field. A user selects a plurality of objects having stability and resolution equal to and more than accuracy a resistance of a measuring target(S10). A resistance parameter value is calculated by repeating a process for determining each final parameter value(S20). A first repetitive calculation process is performed by selecting numbers satisfying a condition alpha>alpha' or alpha beta' or beta
Abstract translation: 提供一种通过直接测量方法获得的变量比较给出的比值来计算每个参数值的方法，以通过在场中获得所需电阻来消除移动状态下的问题和校正成本。 用户选择具有等于并且大于测量目标的电阻精度的稳定性和分辨率的多个对象（S10）。 通过重复确定每个最终参数值的处理来计算电阻参数值（S20）。 通过选择满足条件α>α'或α<α'的数字来执行第一重复计算处理，直到剩下一个α数（S30）。 执行第二重复计算处理以满足β>β'或β<β'的条件（S40）。
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18.发明授权다수 저항의 변수를 비교하여 얻은 비율값으로부터 변수값을 구하는 방법과 다수 저항의 변수를 삼각법을 이용하여 변수값을 구하는 방법과 두 저항의 변수를 비교하여 변수값을 구하는 방법 失效通过比较其他几种电阻值和三重比较技术，并改变两种电阻器的电阻，确定电阻值的方法。
公开(公告)号：KR100820312B1
公开(公告)日：2008-04-07
申请号：KR1020060136399
申请日：2006-12-28
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: G01R27/02
CPC classification number: G01R27/02
Abstract: A method for calculating a variable value from a ratio value obtained by comparing variables of plural resistors, using trigonometry, or comparing variables of two resistors is provided to exclude the cost for movement and correction and to compute the desirable variable value directly in the site. A method for calculating a variable value from a ratio value obtained by comparing variables of plural resistors is composed of: an object selection step for choosing plural objects having stability and decomposition rate over accuracy of a variable value of the resistor to be measured(S10); a variable value calculating step for repeating a process for measuring the ratio value by choosing variable values X and S from plural objects and determining each final variable value by substituting the obtained ratio value for the ratio measuring formula(S20); a first repeated calculation step for designating a preceding number of the ratio values of two final places as alpha, a following number as beta, and the number of cases corresponding to alpha of plural measured ratio values, as [alpha/alpha'], selecting the number of cases satisfying the following inequality, alpha>alpha' or alpha beta' or beta
Abstract translation: 提供了从通过比较多个电阻器的变量，使用三角法或比较两个电阻器的变量获得的比值来计算变量值的方法，以排除运动和校正的成本，并直接在现场计算所需的变量值。 用于从通过比较多个电阻器的变量获得的比值中计算可变值的方法包括：对象选择步骤，用于选择具有稳定性和分解速率超过待测电阻器的可变值精度的多个对象（S10） ; 变量值计算步骤，用于通过从多个对象中选择可变值X和S来重复测量所述比值的处理，并通过将所获得的比值代入所述比率测量公式来确定每个最终变量值（S20）; 第一重复计算步骤，用于将两个最终位置的前一数量的比例值指定为α，以下数字为β，以及对应于多个测量的比值的α的情况的数量为αα，选择 满足以下不等式的情况的数量，α>α'或α<α'，并且重复计算，直到剩下的α个数之一为止（S30）; 以及第二重复计算步骤，通过相同的α计算方法（S40）计算以下数量β以满足以下不等式β>β'或β<β'。
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公开(公告)号：KR1020080017127A
公开(公告)日：2008-02-26
申请号：KR1020060078541
申请日：2006-08-21
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: G01R33/02
CPC classification number: G01R33/02 , G01R13/02 , G01R29/12 , G01R35/005
Abstract: An apparatus for correcting a high voltage generating device by using a plate electrode and a method for using the same are provided easily to measure a high voltage with a sensor detecting an electric field. An apparatus for correcting a high voltage generating device by using a plate electrode includes an upper metal plate electrode(40) formed with predetermined area and thickness. A lower metal plate electrode(30) is installed for the lower metal plate electrode to be in parallel to the metal plate electrode. The upper metal plate electrode and the lower metal plate electrode are fixed by a movable supporting plate. An electric field measuring sensor(10) is installed at an upper end of the lower metal plate electrode. An outer power source(20) is connected to the upper metal plate electrode and the lower metal plate electrode. The outer power source applies power source to the upper metal plate electrode and the lower metal plate electrode. A digital oscilloscope(60) is connected to the electric field sensor to measure an output voltage between the upper metal plate electrode and the lower metal plate electrode.
Abstract translation: 通过使用平板电极校正高电压产生装置的装置及其使用方法容易地利用检测电场的传感器来测量高电压。 通过使用平板电极校正高电压产生装置的装置包括形成有预定面积和厚度的上金属板电极（40）。 下金属板电极（30）安装成与金属板电极平行。 上金属板电极和下金属板电极由可动支撑板固定。 电场测量传感器（10）安装在下金属板电极的上端。 外部电源（20）连接到上部金属板电极和下部金属板电极。 外部电源将电源施加到上部金属板电极和下部金属板电极。 数字示波器（60）连接到电场传感器以测量上金属板电极和下金属板电极之间的输出电压。
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公开(公告)号：KR100749388B1
公开(公告)日：2007-08-14
申请号：KR1020060049407
申请日：2006-06-01
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: G01B7/06
Abstract: A thickness measurement apparatus of plate and circle type samples is provided to measure accurate thickness of samples having non-uniform thickness by allowing a sum indicated by two digital micrometers to be the accurate thickness of the samples, and respective measurement point to be automatically calculated by a computer. A thickness measurement apparatus of plate and circle type samples comprises a base(20), a support plate(10), a fixing table(30), a digital micrometer and a digital micrometer control tube(50). The base includes a support(21) orthogonally extended in up direction. The support plate is coupled to an upper end of the support. The fixing table is orthogonally coupled to an upper end of the base, and includes a digital micrometer pressing part(40). The digital micrometer is respectively located on an upper surface and a lower surface of a center hole formed on the support plate. The digital micrometer control tube has one side coupled to an outer circumferential surface of the respective digital micrometer, and the other side coupled to the digital micrometer control tube.
Abstract translation: 提供板和圆型样品的厚度测量装置，以通过允许由两个数字微米表示的总和为样品的精确厚度来测量具有不均匀厚度的样品的精确厚度，并且各自的测量点由 一台电脑。 板状和圆形样品的厚度测量设备包括基座（20），支撑板（10），固定台（30），数字测微计和数字测微计控制管（50）。 基座包括正向向上延伸的支撑件（21）。 支撑板连接到支撑件的上端。 固定台正交地连接到基座的上端，并且包括数字千分尺按压部（40）。 数字测微计分别位于形成在支撑板上的中心孔的上表面和下表面上。 数字千分尺控制管的一侧耦合到相应的数字千分尺的外圆周表面，而另一侧耦合到数字千分尺控制管。
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