-
公开(公告)号：KR101255433B1
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：KR1020117002155
申请日：2009-07-23
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
Inventor： 야마자키히로시
IPC: H01B5/14 , G06F3/045 , G02F1/1343
CPC classification number: H05K1/0366 , G02F1/13439 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , H05K1/092 , H05K1/097 , Y10T29/49144 , Y10T29/49156 , Y10T29/4916
Abstract: 본 발명과 관련되는 감광성 도전 필름(10)은, 지지 필름(1)과, 그 지지 필름(1) 상에 설치되어 도전성 섬유를 함유하는 도전층(2)과, 그 도전층(2) 상에 설치된 감광성 수지층(3)을 구비한다.
-
公开(公告)号：KR1020120120372A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：KR1020127022338
申请日：2011-05-10
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/093 , H01B5/14 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/20 , G03F7/2002 , H01B13/0003
Abstract: 감광성 도전 필름(10)은, 필름 지지체(1), 유기 도전재료를 함유하는 도전층(2), 및 감광성 수지층(3)이 이 순서로 적층된 구조를 가진다. 감광성 도전 필름(10)에 있어서, 유기 도전재료는 티오펜 유도체의 폴리머이면 바람직하고, 감광성 수지층(3)은, 바인더 폴리머, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 광중합성 화합물, 및 광중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물로 이루어지는 것이면 바람직하다.
-
公开(公告)号：KR1020060041233A
公开(公告)日：2006-05-11
申请号：KR1020067000899
申请日：2004-07-16
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
CPC classification number: G03F7/027 , G02F1/133707 , G03F7/0007 , G03F7/028 , G03F7/032
Abstract: A negative photosensitive resin composition that can be formed into projections for control of liquid crystal alignment capable of realizing precision higher than that attained by the use of positive photosensitive resin compositions; and a photosensitive element produced from the above negative photosensitive resin composition, which can be employed in a transfer method (laminate system) and can be easily stored to thereby enable use without wasting, excelling in film thickness stability. In particular, a negative photosensitive resin composition comprising an alkali soluble resin (a), a reactive monomer (b) and a photoreaction initiator (c) characterized in that 50% or more of the total mass of mixed reactive monomer (b) is occupied by a monofunctional reactive monomer; and a negative photosensitive element comprising a support and, superimposed thereon, a negative photosensitive resin composition layer consisting of the above negative photosensitive resin composition.
Abstract translation: 可以形成为能够实现比通过使用正性感光性树脂组合物获得的精度更高的液晶取向用的突起的负型感光性树脂组合物; 和由上述负型感光性树脂组合物制成的感光性元件，其可以用于转印方法（层压体系）中，并且可以容易地储存，从而能够在不浪费的情况下使用，并且膜厚稳定性优异。 特别地，包含碱溶性树脂（a），反应性单体（b）和光反应引发剂（c）的负型感光性树脂组合物，其特征在于，混合反应性单体（b）的总质量的50％以上被占据 通过单官能反应性单体; 以及包含载体并且叠加在其上的由上述负型感光性树脂组合物构成的负型感光性树脂组合物层的负型感光性元件。
-
公开(公告)号：KR101855056B1
公开(公告)日：2018-05-04
申请号：KR1020177024327
申请日：2009-07-23
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
Inventor： 야마자키히로시
IPC: H01B5/14 , H05K1/09 , G02F1/1343
CPC classification number: H05K1/0366 , G02F1/13439 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , H05K1/092 , H05K1/097 , Y10T29/49144 , Y10T29/49156 , Y10T29/4916
Abstract: 본발명과관련되는감광성도전필름(10)은, 지지필름(1)과, 그지지필름(1) 상에설치되어도전성섬유를함유하는도전층(2)과, 그도전층(2) 상에설치된감광성수지층(3)을구비한다.
-
15.发明公开수지 경화막 패턴의 형성 방법, 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 터치패널의 제조 방법 및 수지 경화막 审中-实审树脂固化膜图案的形成方法，感光性树脂组合物，感光元件，生产触控面板的方法和树脂固化膜
公开(公告)号：KR1020140101783A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：KR1020147016026
申请日：2012-12-04
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
CPC classification number: G03F7/032 , C08F220/18 , C08G18/00 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/322 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , Y10S430/106
Abstract: 본 발명의 수지 경화막 패턴의 형성 방법은, 기재 위에, 산가가 75mgKOH/g 이상인 카르복실기를 갖는 바인더 폴리머와, 광중합성 화합물과, 광중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물로 이루어지고, 두께가 10㎛ 이하인 감광층을 설치하는 제1 공정과, 감광층의 소정 부분을 활성 광선의 조사에 의해 경화시키는 제2 공정과, 상기 감광층의 소정 부분 이외를 제거하고, 상기 감광층의 소정 부분의 경화막 패턴을 형성하는 제3 공정을 구비하고, 상기 감광성 수지 조성물이 상기 광중합 개시제로서 옥심에스테르 화합물 및/또는 포스핀옥사이드 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.
-
Patent Agency Ranking16.发明公开수지 경화막 패턴의 형성 방법, 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 터치패널의 제조 방법 및 수지 경화막 审中-实审形成树脂固化膜图案的方法，光敏树脂组合物，光敏元件，触摸面板的制造方法和树脂固化膜
公开(公告)号：KR1020140097356A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：KR1020147016029
申请日：2012-12-04
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
CPC classification number: G03F7/032 , C08F220/18 , C08G18/00 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/322 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G03F7/029 , G03F7/033
Abstract: 본 발명의 수지 경화막 패턴의 형성 방법은, 기재 위에, 바인더 폴리머와, 광중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 티올 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물로 이루어지는 감광층을 설치하는 제1 공정과, 감광층의 소정 부분을 활성 광선의 조사에 의해 경화시키는 제2 공정과, 상기 감광층의 소정 부분 이외를 제거하고, 상기 감광층의 소정 부분의 경화막 패턴을 형성하는 제3 공정을 구비하고, 상기 감광성 수지 조성물이 상기 광중합 개시제로서 옥심에스테르 화합물 및/또는 포스핀옥사이드 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.
-
公开(公告)号：KR1020140058394A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：KR1020137010665
申请日：2012-10-01
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
CPC classification number: G06F3/041 , G03F7/0005 , G03F7/027 , G03F7/09 , G03F7/092 , G03F7/095 , G03F7/0952 , G03F7/0955 , G03F7/2022 , G06F3/044 , G06F2203/04112 , H05K1/0274 , H05K1/0313 , H05K1/036 , H05K1/09 , H05K3/06 , H05K2201/0275 , Y10T428/24802 , G02F1/13439 , G03F7/203
Abstract: 본 발명의 도전 패턴의 형성 방법은, 기판 상에 형성된 감광성 수지층과, 감광성 수지층의 기판과는 반대측의 면에 형성된 도전막을 포함하는 감광층에, 패턴상으로 활성 광선을 조사하는 제 1 노광 공정과, 산소 존재하에서, 감광층의 적어도 제 1 노광 공정에서의 미노광부의 일부 또는 전부에 활성 광선을 조사하는 제 2 노광 공정과, 제 2 노광 공정 후에 감광층을 현상함으로써 도전 패턴을 형성하는 현상 공정을 구비한다.
-
公开(公告)号：KR1020120089379A
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：KR1020127019642
申请日：2009-07-23
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
Inventor： 야마자키히로시
CPC classification number: H05K1/0366 , G02F1/13439 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , H05K1/092 , H05K1/097 , Y10T29/49144 , Y10T29/49156 , Y10T29/4916
Abstract: 본 발명과 관련되는 감광성 도전 필름(10)은, 지지 필름(1)과, 그 지지 필름(1) 상에 설치되어 도전성 섬유를 함유하는 도전층(2)과, 그 도전층(2) 상에 설치된 감광성 수지층(3)을 구비한다.
-
公开(公告)号：KR1020110025989A
公开(公告)日：2011-03-14
申请号：KR1020117002155
申请日：2009-07-23
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
Inventor： 야마자키히로시
IPC: H01B5/14 , G06F3/045 , G02F1/1343
CPC classification number: H05K1/0366 , G02F1/13439 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , H05K1/092 , H05K1/097 , Y10T29/49144 , Y10T29/49156 , Y10T29/4916
Abstract: 본 발명과 관련되는 감광성 도전 필름(10)은, 지지 필름(1)과, 그 지지 필름(1) 상에 설치되어 도전성 섬유를 함유하는 도전층(2)과, 그 도전층(2) 상에 설치된 감광성 수지층(3)을 구비한다.
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
36
records
(took 0.032 seconds)
