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公开(公告)号:TW201910552A
公开(公告)日:2019-03-16
申请号:TW107124727
申请日:2018-07-18
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor: 克爾甘諾凡 艾夫喬尼亞 , KURGANOVA, EVGENIA , 吉斯波爾思 艾利那斯 喬漢斯 瑪麗亞 , GIESBERS, ADRIANUS JOHANNES MARIA , 納莎里維奇 邁可辛 亞歷山德羅維奇 , NASALEVICH, MAXIM ALEKSANDROVICH , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 彼得 瑪莉亞 , PETER, MARIA , 凡 柔 彼德 珍 , VAN ZWOL, PIETER-JAN , 凡爾斯 大衛 凡迪奈德 , VLES, DAVID FERDINAND , 福爾特赫伊曾 威廉 彼德 , VOORTHUIJZEN, WILLEM-PIETER
Abstract: 本發明提供一種製造用於一微影設備之一表膜的方法,該方法包含:使用輻射加熱來局部加熱該表膜,且在該表膜之兩側上沈積塗佈材料,且本發明提供根據此方法製造之表膜。本發明亦揭示具有雙面六方氮化硼塗層之一多層石墨烯表膜在一微影設備中之用途。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种制造用于一微影设备之一表膜的方法,该方法包含:使用辐射加热来局部加热该表膜,且在该表膜之两侧上沉积涂布材料,且本发明提供根据此方法制造之表膜。本发明亦揭示具有双面六方氮化硼涂层之一多层石墨烯表膜在一微影设备中之用途。