-
公开(公告)号:BR112020005633A2
公开(公告)日:2020-10-13
申请号:BR112020005633
申请日:2018-09-20
Applicant: BASF SE
Inventor: GIJSBRECHT JACOBUS MARIA HABRAKEN , PATRICK SPIES
Abstract: uma composição de poliamida resistente ao calor inclui uma copoliamida e um polímero com função anidrido. a copoliamida inclui o produto da reação de pelo menos uma lactama e uma mistura de monômeros. a mistura de monômeros inclui pelo menos um ácido dimérico c32-c40 e pelo menos uma diamina c4-c12.
-
12.
公开(公告)号:BR112014015248A8
公开(公告)日:2017-07-04
申请号:BR112014015248
申请日:2012-12-17
Applicant: BASF SE
Inventor: BERNHARD SCMIED , FRANKBRAUN , GREGOR HAVERKEMPER , JAN HOLOCH , KLAUS HAHN , LIBOR SEDA , PASCAL HESSE , PATRICK SPIES , RAINER OSTERMANN , UWE-JOHANNES LEHNEN
-
公开(公告)号:BR112014015258A2
公开(公告)日:2017-06-13
申请号:BR112014015258
申请日:2012-12-17
Applicant: BASF SE
Inventor: BERNHARD SCHMIED , FRANK BRAUN , GREGOR HAVERKEMPER , JAN HOLOCH , KLAUS HAHN , LIBOR SEDA , PASCAL HESSE , PATRICK SPIES , RAINER OSTERMANN , UWE - JOHANNES LEHNEN
-
公开(公告)号:MX346033B
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:MX2013007564
申请日:2011-12-23
Applicant: BASF SE
Inventor: KLAUS HAHN , KLEMENS MASSONNE , MANFRED DÖRING , SABINE FUCHS , GEERT JANSSENS , MAXIMILIAN HOFMANN , INGO BELLIN , PATRICK SPIES , PETER DEGLMANN , HARTMUT DENECKE , CHRISTOPH FLECKENSTEIN , JOCHEN WAGNER , RAINER OSTERMANN , MICHAEL CIESIELSKI
Abstract: La invención se refiere a un sistema pirorretardante que consiste en: a) al menos un compuesto de azufre de la fórmula (1), donde las definiciones de los símbolos e índice son como sigue: R, siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es arilo de C6-C12, un grupo heteroarilo de 5-10 miembros el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, alquilo de C1-C18 alquenilo de C2-C18, alquinilo de C3-C18 o cicloalquilo de C3-C10 X, siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es OR2, SR2, NR2R3, COOR2, CONR2, S02R2, F, CI, Br, R, H, o un grupo Y1-P(Y2)PR'R"; y1 es o S, o NR'''; Y2 es O o S; p es 0 o 1; R' and R'', siendo idénticos o diferentes, preferentemente idénticos, son alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, arilo de C6-C12, cicloalquilo de C3-C10, aril de C6-C12-aiquiio de C1-C18, un grupo heteroarilo o grupo heteroariloxi el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, O- alquilo- (de C1-C18)-, 0-alquenilo- (de C2-C18) -, O- alquinilo- (de C2-C10)-, O-arilo- (de C6-C12) -, O-cicloalquiio-(de C3-C10)- o aril(de C6-C12)-alquil-(de C1-C18)-O; R''' es H, alquilo de C1-C18, o (P(Y2)pR'R'') ; siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, C6-C12-aril, C3-C10-cicloalquil, aril de C6-C12-alquilo de C1-C18, un grupo heteroarilo el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, O-alquilo (de C1-C18), 0-alquenilo- (C2-018) -, O-alquinilo de (C3-C18) -, O-arilo de (C6-C12) -, 0-cicloalquilo- (C3-C10) -, aril (de C6-C12) - alquilo (de C1-C18) -O, S-alquilo- (C1-C18) -, S-alquenilo (de C1-C18), S-alquinilo (de C2-C18) -, S-arilo (de C6-C12) -, S- cicloalquilo (de 03-do) -, aril (de C6-C12) -alquilo (de C1-C18)-S, OH, F, Cl, Br o H; R2 y R3, siendo idénticos o diferentes, preferentemente idénticos, son H, alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, arilo de C6-C12, cicloalquilo de C3-C10, arilo de C6-C12-alquilo deC1-C18, o un grupo heteroarilo el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S; n es un entero de 1 a 8, y m es un número de 1 a 1000; b) al menos un compuesto organofosforoso libre de halógeno con un contenido de fósforo en el intervalo desde 0.5 hasta 40% en peso, con base en el compuesto de fósforo.
-
-
-