ABSORBENTE PARA LA REMOCION SELECTIVA DE SULFURO DE HIDROGENO.

    公开(公告)号:MX2018004010A

    公开(公告)日:2018-05-23

    申请号:MX2018004010

    申请日:2016-09-28

    Applicant: BASF SE

    Abstract: La invención se refiere a un absorbente para la remoción selectiva de sulfuro de hidrógeno de una corriente de fluido, que contiene una solución acuosa que comprende a) una amina terciaria; b) un promotor amínico del pH seleccionado de los compuestos mencionados en la descripción; en donde la relación molar de b) a a) está en el intervalo de 0,05 a 1,0; y c) un ácido que tiene un PKA de menos de 6 en tal cantidad que el pH de la solución acuosa a 120 °C sea de 7,9 a menos de 8,8 cuando se mide a 120 °C. Además, la invención se refiere a un método para remover gases ácidos de una corriente de fluido, en donde la corriente de fluido se pone en contacto con el absorbente. El absorbente se caracteriza por una baja energía de regeneración.

    MÉTODOS PARA PRODUCIR POLIETEROLES.

    公开(公告)号:MX344909B

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:MX2012013177

    申请日:2011-05-11

    Applicant: BASF SE

    Abstract: La presente invención se refiere a procedimientos para producir polieteroles, en particular a estructuras de bloque de polieterol, a catalizadores novedosos para usarse en dichos procedimientos, y a los polieteroles que pueden ser producidos mediante el procedimiento de la invención. La presente invención además se refiere al uso, para producir poliuretanos, de los polieteroles que pueden ser producidos en la invención.

    SISTEMA PIRORRETARDANTE.
    8.
    发明专利

    公开(公告)号:MX346033B

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:MX2013007564

    申请日:2011-12-23

    Applicant: BASF SE

    Abstract: La invención se refiere a un sistema pirorretardante que consiste en: a) al menos un compuesto de azufre de la fórmula (1), donde las definiciones de los símbolos e índice son como sigue: R, siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es arilo de C6-C12, un grupo heteroarilo de 5-10 miembros el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, alquilo de C1-C18 alquenilo de C2-C18, alquinilo de C3-C18 o cicloalquilo de C3-C10 X, siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es OR2, SR2, NR2R3, COOR2, CONR2, S02R2, F, CI, Br, R, H, o un grupo Y1-P(Y2)PR'R"; y1 es o S, o NR'''; Y2 es O o S; p es 0 o 1; R' and R'', siendo idénticos o diferentes, preferentemente idénticos, son alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, arilo de C6-C12, cicloalquilo de C3-C10, aril de C6-C12-aiquiio de C1-C18, un grupo heteroarilo o grupo heteroariloxi el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, O- alquilo- (de C1-C18)-, 0-alquenilo- (de C2-C18) -, O- alquinilo- (de C2-C10)-, O-arilo- (de C6-C12) -, O-cicloalquiio-(de C3-C10)- o aril(de C6-C12)-alquil-(de C1-C18)-O; R''' es H, alquilo de C1-C18, o (P(Y2)pR'R'') ; siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, C6-C12-aril, C3-C10-cicloalquil, aril de C6-C12-alquilo de C1-C18, un grupo heteroarilo el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, O-alquilo (de C1-C18), 0-alquenilo- (C2-018) -, O-alquinilo de (C3-C18) -, O-arilo de (C6-C12) -, 0-cicloalquilo- (C3-C10) -, aril (de C6-C12) - alquilo (de C1-C18) -O, S-alquilo- (C1-C18) -, S-alquenilo (de C1-C18), S-alquinilo (de C2-C18) -, S-arilo (de C6-C12) -, S- cicloalquilo (de 03-do) -, aril (de C6-C12) -alquilo (de C1-C18)-S, OH, F, Cl, Br o H; R2 y R3, siendo idénticos o diferentes, preferentemente idénticos, son H, alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, arilo de C6-C12, cicloalquilo de C3-C10, arilo de C6-C12-alquilo deC1-C18, o un grupo heteroarilo el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S; n es un entero de 1 a 8, y m es un número de 1 a 1000; b) al menos un compuesto organofosforoso libre de halógeno con un contenido de fósforo en el intervalo desde 0.5 hasta 40% en peso, con base en el compuesto de fósforo.

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