VERFAHREN ZUR VERKAPSELUNG EINES ELEKTRISCHEN BAUELEMENTES UND DAMIT VERKAPSELTES OBERFLÄCHENWELLENBAUELEMENT
    13.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR VERKAPSELUNG EINES ELEKTRISCHEN BAUELEMENTES UND DAMIT VERKAPSELTES OBERFLÄCHENWELLENBAUELEMENT 审中-公开
    方法用于封装电气元件,因此封装面波成分

    公开(公告)号:WO2003032484A1

    公开(公告)日:2003-04-17

    申请号:PCT/DE2002/002886

    申请日:2002-08-06

    Abstract: Es wird ein Verkapselungsverfahren für empfindliche Bauelemente vorgeschlagen, bei welchem über eine Anordnung mit einem in Flip-Chip-Bauweise auf einem Träger montierten Bauelement ganzflächig eine Folie, insbesondere eine Kunststofffolie auflaminiert wird. Zur weiteren Abdichtung und mechanischen Stabilisierung wird anschließend den Chip umschließend eine Kunststoffmasse flüssiger Form aufgebracht und gehärtet. Wahlweise kann vor dem Aufbringen der Kunststoffmasse die Folie im Bereich von Strukturierungslinien so entfernt werden, daß die Kunststoffmasse in Kontakt sowohl mit dem Träger als auch mit der Chipoberfläche treten kann.

    Abstract translation: 它提出了一种用于敏感部件的封装,其中与安装在倒装芯片结构在整个区域上的薄膜的承载元件上的布置,尤其是塑料薄膜层压。 为了进一步密封和机械稳定的芯片然后被施加到包围塑料组合物液体形式并固化。 可选地,在构图线的区域中的膜可因此前的塑料质量的应用程序中删除时,塑料的质量能够接触到既与载体和与芯片表面接触。

    MEMS-BAUELEMENT UND VERFAHREN ZUR VERKAPSELUNG VON MEMS-BAUELEMENTEN
    15.
    发明申请
    MEMS-BAUELEMENT UND VERFAHREN ZUR VERKAPSELUNG VON MEMS-BAUELEMENTEN 审中-公开
    MEMS组件和方法封装MEMS元件

    公开(公告)号:WO2014090438A1

    公开(公告)日:2014-06-19

    申请号:PCT/EP2013/071396

    申请日:2013-10-14

    Applicant: EPCOS AG

    Abstract: Es wird ein MEMS-Bauelement vorgeschlagen, welches auf einem Substrat Bauelementstrukturen, mit den Bauelementstrukturen verbundene Kontaktflächen, metallische Säulenstrukturen, die auf den Kontaktflächen aufsitzen und metallische Rahmenstrukturen, die die Bauelementstrukturen umgeben, aufweist. Eine gehärtete Resistschicht sitzt so auf Rahmenstruktur und Säulenstrukturen auf, dass ein Hohlraum zwischen Substrat, Rahmenstruktur und Resistschicht eingeschlossen ist. Direkt auf der Resistschicht oder auf einer auf der Resistschicht aufsitzenden Trägerschicht ist eine strukturierte Metallisierung vorgesehen, die zumindest Außenkontakte des Bauelements umfasst und sowohl mit metallischen Strukturen als auch den Kontaktflächen der Bauelementstrukturen elektrisch leitend verbunden ist.

    Abstract translation: 本发明提供一种MEMS器件,其被连接到所述部件的结构相关联的接触的表面,金属柱结构产生围绕部件结构的接触表面和金属框架结构上,其具有在衬底部件的结构。 的固化抗蚀层位于等在框架结构上和柱结构,即基板,框架结构和抗蚀剂层之间的空腔被包含。 直接在抗蚀层上,或在上顶部设置一个结构化的金属化的支承层,其包括至少该部件的外部接触,并连接到两个金属结构,以及作为成分结构导电的接触表面上的抗蚀剂层的。

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