公开(公告)号：CN110058488B

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN201910062252.X

申请日：2014-08-20

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 剑持大介

IPC: G03F1/84

Abstract: 提供光掩模的制造方法、检查方法和检查装置，能够提高形成在被转印体上的图案的坐标精度。光掩模的制造方法具有以下工序：准备图案设计数据(A)；获得表示由于将光掩模保持到曝光装置而引起的主表面的变形量、且是除了自重挠曲成分以外的变形量的转印面修正数据(D)；获得表示在将光掩模坯体载置到了描绘装置的工作台上的状态下的、主表面的高度分布的描绘时高度分布数据(E)；通过描绘时高度分布数据(E)与转印面修正数据(D)的差分获得描绘差分数据(F)；计算与描绘差分数据(F)对应的坐标偏差量，求出描绘用坐标偏差量数据(G)；以及采用描绘用坐标偏差量数据(G)和图案设计数据(A)，在光掩模坯体进行描绘的描绘工序。

公开(公告)号：CN105911813B

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201610084055.4

申请日：2016-02-06

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 剑持大介

IPC: G03F1/68 ,  G03F1/84

Abstract: 本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显示装置制造方法，能够提高在被转印体上形成的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有：准备图案设计数据A的工序；准备表示基板的厚度分布的厚度分布数据T的工序；准备表示在曝光装置上保持光掩模时的主表面的形状的转印面形状数据C的工序；采用厚度分布数据T和转印面形状数据C来获得描绘差值数据F的工序；估算与描绘差值数据F对应的主表面上的多个点处的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。

公开(公告)号：CN110058488A

公开(公告)日：2019-07-26

申请号：CN201910062252.X

申请日：2014-08-20

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 剑持大介

IPC: G03F1/84

Abstract: 提供光掩模的制造方法、检查方法和检查装置，能够提高形成在被转印体上的图案的坐标精度。光掩模的制造方法具有以下工序：准备图案设计数据(A)；获得表示由于将光掩模保持到曝光装置而引起的主表面的变形量、且是除了自重挠曲成分以外的变形量的转印面修正数据(D)；获得表示在将光掩模坯体载置到了描绘装置的工作台上的状态下的、主表面的高度分布的描绘时高度分布数据(E)；通过描绘时高度分布数据(E)与转印面修正数据(D)的差分获得描绘差分数据(F)；计算与描绘差分数据(F)对应的坐标偏差量，求出描绘用坐标偏差量数据(G)；以及采用描绘用坐标偏差量数据(G)和图案设计数据(A)，在光掩模坯体进行描绘的描绘工序。

公开(公告)号：CN105892227A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201610083100.4

申请日：2016-02-06

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 剑持大介

IPC: G03F1/84 ,  G03F1/68 ,  G03F1/72 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显示装置制造方法，可提高形成于被转印体的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有以下的工序：准备图案设计数据A的工序；获得表示由光掩模保持在曝光装置中引起的主表面的变形量的转印面形状数据C的工序；获得表示在描绘装置的工作台上载置光掩模坯体的状态下的主表面的高度分布的描绘时高度分布数据E的工序；算出描绘时高度分布数据E与转印面形状数据C的差值来获得描绘差值数据F的工序；估算与描绘差值数据F对应的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；以及采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。