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公开(公告)号：CN106980225A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201710012067.0
申请日：2017-01-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
Abstract: 本发明提供基板保持装置、描绘装置、光掩模检查装置、光掩模制造方法，能够提高被转印体上形成的图案的坐标精度且适合于光掩模基板。保持显示装置制造用的光掩模基板水平的基板保持装置具有：由低膨胀材料构成的载台(11)和设在该载台(11)上的多个支撑件(12)。各支撑件(12)构成为：在前端具备具有凸曲面的接触部(14)，该接触部(14)与光掩模基板(1)的背面(3)实质性地点接触，由此保持光掩模基板(1)水平。
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公开(公告)号：CN110609436A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910879805.0
申请日：2016-02-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
Abstract: 本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显示装置制造方法，能够提高在被转印体上形成的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有：准备图案设计数据A的工序；准备表示基板的厚度分布的厚度分布数据T的工序；准备表示在曝光装置上保持光掩模时的主表面的形状的转印面形状数据C的工序；采用厚度分布数据T和转印面形状数据C来获得描绘差值数据F的工序；估算与描绘差值数据F对应的主表面上的多个点处的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。
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公开(公告)号：CN109307980A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201810841256.3
申请日：2018-07-27
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
Abstract: 光掩模检查方法、光掩模制造方法及光掩模检查装置，能够简单且直接地测量在光掩模的转印用图案中包含的相移部的相移量。光掩模检查方法测量在光掩模的转印用图案中包含的相移部的相位特性，包括：在具备投影光学系统的检查装置中设置光掩模的工序；光学像数据取得工序，通过将所设置的光掩模曝光且将相移部的光学像投影到摄像面上，从而取得光学像数据；运算工序，利用所取得的光学像数据而求出相移部所具备的相移量，在光学像数据取得工序中，使光掩模、投影光学系统及摄像面中的至少一部分在光轴方向上移动而取得多个聚焦状态的各个状态下的光学像数据，在运算工序中，利用所取得的多个聚焦状态的光学像数据而求出相移量。
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公开(公告)号：CN105892227B
公开(公告)日：2020-01-31
申请号：CN201610083100.4
申请日：2016-02-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
Abstract: 本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显示装置制造方法，可提高形成于被转印体的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有以下的工序：准备图案设计数据A的工序；获得表示由光掩模保持在曝光装置中引起的主表面的变形量的转印面形状数据C的工序；获得表示在描绘装置的工作台上载置光掩模坯体的状态下的主表面的高度分布的描绘时高度分布数据E的工序；算出描绘时高度分布数据E与转印面形状数据C的差值来获得描绘差值数据F的工序；估算与描绘差值数据F对应的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；以及采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。
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公开(公告)号：CN104423140B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201410411893.9
申请日：2014-08-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
Abstract: 提供光掩模的制造方法、显示装置的制造方法以及描绘装置，能够提高形成在被转印体上的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有以下工序：准备图案设计数据(A)；获得表示由于将光掩模保持到曝光装置而引起的主表面的变形量、且是除了自重挠曲成分以外的变形量的转印面修正数据(D)；获得表示在将光掩模坯体载置到了描绘装置的工作台上的状态下的、主表面的高度分布的描绘时高度分布数据(E)；通过描绘时高度分布数据(E)与转印面修正数据(D)的差分获得描绘差分数据(F)；以及计算与描绘差分数据(F)对应的坐标偏差量，求出描绘用坐标偏差量数据(G)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110297388B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201910211305.X
申请日：2019-03-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
IPC: G03F1/42
Abstract: 本发明提供光掩模、其制造方法、光掩模坯体、电子器件的制造方法，防止静电破坏的产生。光掩模(10)具有：转印用图案(35)，其在透明基板(21)的主表面上对光学膜进行图案化而形成；以及透光环状部(33)，其包围所述转印用图案(35)的外周；以及外周区域(31)，其包围所述透光环状部(33)的外周。在所述外周区域(31)中，在所述透明基板(21)上形成有透明导电膜(25)，并且，在所述透明导电膜(25)上形成有对所述光学膜进行图案化而成的标记图案。
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公开(公告)号：CN110297388A
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201910211305.X
申请日：2019-03-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
IPC: G03F1/42
Abstract: 本发明提供光掩模、其制造方法、光掩模坯体、电子器件的制造方法，防止静电破坏的产生。光掩模(10)具有：转印用图案(35)，其在透明基板(21)的主表面上对光学膜进行图案化而形成；以及透光环状部(33)，其包围所述转印用图案(35)的外周；以及外周区域(31)，其包围所述透光环状部(33)的外周。在所述外周区域(31)中，在所述透明基板(21)上形成有透明导电膜(25)，并且，在所述透明导电膜(25)上形成有对所述光学膜进行图案化而成的标记图案。
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公开(公告)号：CN105911813A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610084055.4
申请日：2016-02-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
Abstract: 本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显示装置制造方法，能够提高在被转印体上形成的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有：准备图案设计数据A的工序；准备表示基板的厚度分布的厚度分布数据T的工序；准备表示在曝光装置上保持光掩模时的主表面的形状的转印面形状数据C的工序；采用厚度分布数据T和转印面形状数据C来获得描绘差值数据F的工序；估算与描绘差值数据F对应的主表面上的多个点处的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。
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公开(公告)号：CN104423140A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410411893.9
申请日：2014-08-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
Abstract: 本发明提供光掩模的制造方法、检查方法和检查装置、以及描绘装置，能够提高形成在被转印体上的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有以下工序：准备图案设计数据(A)；获得表示由于将光掩模保持到曝光装置而引起的主表面的变形量、且是除了自重挠曲成分以外的变形量的转印面修正数据(D)；获得表示在将光掩模坯体载置到了描绘装置的工作台上的状态下的、主表面的高度分布的描绘时高度分布数据(E)；通过描绘时高度分布数据(E)与转印面修正数据(D)的差分获得描绘差分数据(F)；计算与描绘差分数据(F)对应的坐标偏差量，求出描绘用坐标偏差量数据(G)；以及采用描绘用坐标偏差量数据(G)和图案设计数据(A)，在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。
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公开(公告)号：CN110609436B
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN201910879805.0
申请日：2016-02-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 剑持大介
Abstract: 本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置、描绘装置，能够提高在被转印体上形成的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有：准备图案设计数据A的工序；准备表示基板的厚度分布的厚度分布数据T的工序；准备表示在曝光装置上保持光掩模时的主表面的形状的转印面形状数据C的工序；采用厚度分布数据T和转印面形状数据C来获得描绘差值数据F的工序；估算与描绘差值数据F对应的主表面上的多个点处的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。
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