公开(公告)号：CN105986252A

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201510555649.4

申请日：2015-09-02

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 三田浩史 ,  南云英一 ,  斋藤诚

IPC: C23C16/513

CPC classification number: B05B7/00 ,  B05B7/22 ,  C23C4/134

Abstract: 本发明的实施方式提供一种使成膜的再现性进一步提高的成膜装置以及成膜方法。根据实施方式，成膜装置具备等离子体枪、检测部及控制部。等离子体枪能够喷出等离子体气体，而在照射等离子体气体的加工对象物上形成膜。检测部检测等离子体气体喷出方向上的等离子体气体中的温度或发光强度。控制部根据从检测部取得的温度或发光强度，以使温度处于第1温度以上且第2温度以下的范围的等离子体气体、或发光强度处于第1发光强度以上且第2发光强度以下的范围的等离子体气体照射到加工对象物的方式，控制加工对象物与等离子体枪的距离。

公开(公告)号：CN104254401A

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201380020169.7

申请日：2013-04-16

Applicant: 韦罗妮卡·里吉尼

Inventor： 韦罗妮卡·里吉尼

IPC: B05B1/18 ,  B05B7/00 ,  A47K5/12 ,  E03C1/046 ,  B05B15/00

CPC classification number: B05B1/18 ,  B05B7/00 ,  B05B15/00 ,  E03C1/0465

Abstract: 一种淋浴喷头，该淋浴喷头包括至少一个水供给通道(4)和至少一个水配送表面(5)，该淋浴喷头包括用于液体产品的至少一个槽(7)以及液体产品的与槽(7)相关联的至少一个滚抹式分配器(8)。

公开(公告)号：CN101873895B

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN200880117704.X

申请日：2008-09-23

Applicant: 喜旺科技有限公司

Inventor： N·克鲁格 ,  M·艾斯莱布

IPC: B05B7/20 ,  F23C15/00

CPC classification number: B05B17/0692 ,  B05B7/00 ,  B05B7/0416 ,  F23C15/00

Abstract: 这类装置用于排出配有不同载体介质的有效成分。作为载体介质通常使用水。为了保证水与有效成分实现良好雾化，雾化管(10)具有至少三个另外的管子(3至6)，这些管子在形成环形室(31至33)的情况下彼此部分地重叠。利用这种雾化管(10)可以将滴度分布保持在窄小的限度内，即使用水作为载体介质亦可达到此目的。该雾化装置和雾化管(10)主要用在卫生领域、农业、种植园和温室，用于库存保护，以及用于人聚集区、动物饲养区和食品生产区的消毒措施。

公开(公告)号：CN103153816A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201180048024.9

申请日：2011-09-16

Applicant: 林达尔法国两合公司

Inventor： H·博代 ,  E·加亚尔

IPC: B65D83/68 ,  B05B1/16 ,  B65D83/20

CPC classification number: B05B7/00 ,  B05B1/1645 ,  B05B11/0029 ,  B05B12/1409 ,  B65D83/20 ,  B65D83/56 ,  B65D83/62 ,  B65D83/68 ,  B65D83/682 ,  Y10T137/86863

Abstract: 本发明涉及用于多通阀尤其是双通阀的喷射器，其具有端头（2），所述端头用于固定在阀杆的凸起在阀座之上的部分上。尽管配置多通阀，为了提取仅一种产品，端头具有截面为圆形的柱形部分，所述柱形部分中实施有数量与多通阀中存在的通道的数量一样多的输送导道（22a，22b），每个输送导道配有连接部件，当每个输送导道安装在所述阀上时，所述连接部件用于将每个输送导道密封地连接于阀的相应通道的出口，每个输送导道（22a，22b）在柱形部分的不同的径向平面中和不同的角扇形区中通到端头的柱形部分的外部。此外，喷射器配有枢转盖塞（3），所述枢转盖塞配有盲孔（31），所述盲孔具有与端头的柱形部分互补的形状，枢转盖塞配有数量与多通阀中存在的通道的数量一样多的排出导道（32a，32b）。

公开(公告)号：CN100415382C

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：CN200510092169.5

申请日：2005-08-22

Applicant: 德尔菲技术公司

Inventor： T·韩 ,  Z·赵 ,  B·A·吉利斯皮 ,  J·R·史密斯 ,  J·S·小罗森

IPC: B05B7/00 ,  B05B7/14 ,  B05B7/16

CPC classification number: C23C24/04 ,  B05B7/00

Abstract: 一种改进型动力喷射系统及其在高速制造环境中的使用方法。所述动力喷嘴系统包括：连接至沿纵向轴线长度等于或大于20毫米的调节腔第一端的气体/粉末交换腔；具有通过喉部与发散部分分开的收敛部分的缩放超声喷嘴，发散部分包括横截面积沿其长度增加的第一部分和横截面积沿其长度大体上恒定的第二部分；和连接至与所述第一端相对的调节腔第二端的收敛部分。所述方法包括：使用添加硬质颗粒的喷嘴系统，硬质颗粒允许最大限度地增高颗粒温度同时不阻塞喷嘴；使用受控颗粒供给速度以配合非常高的横移速度；且预加热基底以清洗基底从而增强颗粒结合性能。结合所披露的喷嘴系统与方法，可在超过200厘米/秒的横移速度和超过80%的沉积效率下进行动力喷涂。

公开(公告)号：CN1226960A

公开(公告)日：1999-08-25

申请号：CN97196149.2

申请日：1997-07-08

Applicant: 康宁股份有限公司

Inventor： P·R·斯基斯 ,  J·R·塞勒 ,  A·L·罗浮斯达特

IPC: F23D11/10

CPC classification number: F23D11/107 ,  B05B1/08 ,  B05B7/00 ,  B05B7/0433 ,  B05B7/0458 ,  B05B7/0884 ,  B05B15/40 ,  B05B17/0692 ,  C03B19/1423 ,  C03B2207/02 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/08 ,  C03B2207/34 ,  Y10T29/49432

Abstract: 一种气体助推式雾化装置(40)包括可释放液体的液体喷口(64),以及可释放气体的气体喷口(66)以将液体雾化成液滴。雾化装置(40)由至少一层第一层(42)和一第二层(44)构成。雾化装置(40)可包括一气体输送网和一液体输送网,从而将气体和液体分别输送到气体和液体喷口(64和66)。

公开(公告)号：CN107922635A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201580080969.7

申请日：2015-12-17

Applicant: 奥布里希有限责任公司

Inventor： 安德烈·乔斯滕 ,  迪尔克·罗贝琳 ,  弗雷德里克·温宁

IPC: C08J3/24 ,  B05B7/00 ,  C08J9/30

CPC classification number: B05B1/044 ,  B05B7/00 ,  C08J3/247 ,  C08J2343/04

Abstract: 本发明涉及一种用于处理粘合剂的工艺，其中工艺包括将粘合剂前体产物施加到粘合剂载体，并且通过在反应室中利用水蒸汽和热处理粘合剂前体产物来活化和交联粘合剂前体产物，并且其中工艺的特征在于，与在反应室中活化和交联期间形成的反应气体混合的空气被引导离开反应室并且作为循环空气被再循环到反应室中，其中作为循环空气再循环的空气的废空气的部分被新鲜空气替代。本发明进一步涉及一种用于处理压敏热熔粘合剂的相应装置。

公开(公告)号：CN107185741A

公开(公告)日：2017-09-22

申请号：CN201710497628.0

申请日：2017-06-27

Applicant: 南京常荣声学股份有限公司 ,  南京常荣环境科技有限公司 ,  江苏声振声学技术研究所有限公司

Inventor： 刘宇清 ,  张荣初 ,  舒忠平 ,  储昊

IPC: B05B7/00 ,  B05B1/34

CPC classification number: B05B7/00 ,  B05B1/34

Abstract: 本发明公开了一种高声强气液二相流雾化喷嘴，包括气路系统和水路系统，其中气路系统包括进气管、进气堵头和共振腔，水路系统包括进水管、水流导向管和水喷嘴；进气堵头设置于进气管的气体出口端并在该端形成气体高压发射口；共振腔为带有内陷腔体的结构，共振腔以内陷腔体与气体高压发射口相对的方式设置且与气体高压发射口之间形成间隙；进水管连接水流导向管，水流导向管的水流出口端连接水喷嘴，水喷嘴的喷水出口设置于气体高压发射口的相邻位置。本发明提供的高声强气液二相流雾化喷嘴通过结合二相流雾化喷嘴结构和高强声波发生结构的优化设计，通过高强声波二次协同雾化，改善普通二相流喷嘴的雾化效果，满足不同工程应用的需求。

公开(公告)号：CN106019848A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610196054.9

申请日：2016-03-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 安恩锡 ,  闵忠基 ,  李正悦 ,  朴珉贞

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/0273 ,  B05B1/16 ,  B05B7/00 ,  B05B13/0228 ,  B05B13/0242 ,  B05B13/0278 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/67

Abstract: 公开了用于向基板上供应液体的方法和装置。该方法用于处理基板，且包括：液体供应步骤，其在基板旋转的同时供应用于在基板上形成液体膜的处理液体；以及液体扩散步骤，其在液体供应步骤之后，通过使基板旋转来使被排出到基板上的处理液体扩散。所述液体扩散步骤包括：主扩散步骤，其使基板以第一扩散速度旋转；以及二次扩散步骤，其在主扩散步骤之后，使基板以第二扩散速度旋转。第二扩散速度高于第一扩散速度。因此，能够通过执行二次扩散步骤再次向基板涂覆处理液体，使得可以调整感光膜的厚度。

公开(公告)号：CN104290450A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201410343098.0

申请日：2014-07-18

Applicant: 惠普工业印刷有限公司

Inventor： A.维斯 ,  A.戴维森

IPC: B41J2/01

CPC classification number: B05D1/02 ,  B05B3/00 ,  B05B7/00 ,  B05B12/02 ,  B05B12/04 ,  B05B12/12 ,  B05D1/36 ,  B41F3/00 ,  B41J2/01 ,  B41J2/07 ,  B41J2/205 ,  B41J2/2114 ,  B41J2/2132 ,  B41J2/2135 ,  B41J2/2146 ,  B41J2/515 ,  B41J3/543 ,  B41J11/0015 ,  B41J11/008 ,  B41J29/393

Abstract: 本发明涉及将液体施加到基底。提供用于通过使用液体施加器的第一和第二阵列将液体施加到基底的系统。该系统包括：选择性可控制的液体施加器的第一阵列，其当基底在第一轴上相对于第一阵列移动时将液体施加到基底；液体施加器的第二阵列，其可控制成当基底在第一轴上相对于第二阵列移动时将液体施加到基底，第二阵列还在垂直于第一轴的第二轴上相对于基底可移动；控制器，其确定施加到基底的液体的图案，控制液体施加器的第一阵列将液体施加到基底以形成图案的第一部分，控制液体施加器的第二阵列将液体施加到基底以形成图案的第二部分。