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公开(公告)号：CN102713991A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080037140.6
申请日：2010-09-01
Applicant: 宝洁公司
Inventor： 菲利普·阿萨·德雷克 , 彭如展 , 乔治·恩德尔·德克纳
IPC: G09B23/28
CPC classification number: G09B23/283 , A61K6/0017 , B05D1/185 , B05D2350/65 , G09B19/0084
Abstract: 不同口腔护理产品如牙粉对预防牙齿侵蚀的比较效果可使用仿釉质来演示。制备基底。通过在所述基底表面上生长的溶液来使仿牙釉质的矿物质层成核。作为另外一种选择，所述矿物质层可在包括自组装单层的模板上成核，所述自组装单层在沉积在所述基底表面上的金层上形成。所述矿物质层可包括羟基磷灰石的均质层或在无定形磷酸钙层上的羟基磷灰石的薄的贴面层。然后任选地用口腔护理产品处理所述仿釉质并经受酸挑战。在所述酸挑战后保留的矿物质层的量显著地示出了所述口腔护理产品在预防牙齿侵蚀方面的有效果或无效果。
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公开(公告)号：CN101495246A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200780028085.2
申请日：2007-07-31
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor： 熊泽和久
CPC classification number: B05D3/0254 , B01J10/02 , B05D1/185 , B05D3/0473 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明的课题在于提供耐热性、耐久性等膜物性更为优异的有机薄膜的制造方法。一种有机薄膜的制造方法，是至少具有工序(B)的、在基材表面形成有机薄膜的有机薄膜制造方法，所述工序(B)使基材与含有具有至少一个以上水解性基团或羟基的金属系表面活性剂、以及能与该金属系表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液接触，其特征在于，在所述工序(B)之后，还具有下列工序之一，工序(E1)，将与所述有机溶剂溶液接触后的基材在100～150℃的范围内进行加热；工序(E2)，将与所述有机溶剂溶液接触后的基材浸渍于40℃以上且小于沸点的温水中；工序(E3)，使与所述有机溶剂溶液接触后的基材与60～150℃范围内的水蒸汽接触。
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公开(公告)号：CN101010148A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580028063.7
申请日：2005-06-21
Applicant: 瓦赫宁根大学
Inventor： 约翰内斯·特尼斯·祖伊尔霍夫 , 凯瑟琳娜·杰拉尔达·彼得罗尼拉·亨里卡·施罗恩 , 艾哈迈德·阿拉法特·穆罕默德·哈米斯
CPC classification number: B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , Y10T428/261 , Y10T428/31667 , Y10T428/31971
Abstract: 本发明涉及功能化硅和/或锗的表面、制备该特制的功能化硅和/或锗的表面的方法、该特制的功能化硅和/或锗的表面用于制备表面结合的有机材料的用途和在工业设备中的用途。该硅和/或锗的表面包含氮化硅、碳化硅、氮化锗、碳化锗和硅锗的表面。
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公开(公告)号：CN101003355A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200610138990.0
申请日：2000-01-07
Applicant: 西北大学
CPC classification number: B82B3/00 , B05D1/007 , B05D1/185 , B05D1/26 , G01Q80/00 , G03F7/0002 , G03F7/165 , Y10S977/84 , Y10S977/857 , Y10S977/863 , Y10S977/877 , Y10T428/24917 , Y10T436/24
Abstract: 一种直写纳米蚀刻方法，其包括提供一个固体基质；提供一个涂覆有墨水的针尖；以及使墨水从针尖传送到基质上，从而在固体基质上得到一个稳定的纳米结构，其中传送步骤是通过毛细作用使墨水从针尖流到基质上，其中墨水对基质具有化学亲和性。
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公开(公告)号：CN1284719C
公开(公告)日：2006-11-15
申请号：CN00803987.9
申请日：2000-01-07
Applicant: 西北大学
IPC: B82B3/00
CPC classification number: B82B3/00 , B05D1/007 , B05D1/185 , B05D1/26 , G01Q80/00 , G03F7/0002 , G03F7/165 , Y10S977/84 , Y10S977/857 , Y10S977/863 , Y10S977/877 , Y10T428/24917 , Y10T436/24
Abstract: 一种具有涂复了疏水化合物的针尖的原子力显微镜(AFM)，其被称为“蘸水笔”纳米蚀刻(DPN)，用于将分子从原子力显微镜针尖(AFM)传送到金基质(AU)，以在该金基质(AU)上书写图形。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1283372C
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN02807886.1
申请日：2002-04-01
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: B05D7/24 , C09K3/18 , C09D5/16 , C09D185/00 , C09D183/08 , B05D5/00 , B41J2/135 , B32B27/00
CPC classification number: C09D183/14 , B05D1/185 , B05D5/083 , B32B27/08 , B41J2/14 , B41J2/1433 , B41J2/16 , B41J2/1606 , B41J2/162 , B41J2/164 , C09K3/18 , Y10T428/31663
Abstract: 一种在固体基材(2)上形成的疏水膜(1)，其含有在两末端有至少一个以上的硅氧烷键(-Si-O-)且在中间部含烃链的分子(A)、和在一个末端有氟化碳链且在另一个末端有至少一个以上的硅氧烷键(-Si-O-)的分子(B)，且由上述分子(A)和上述分子(B)形成聚合物膜。该聚合物膜与基材表面通过硅氧烷键(-Si-O-)共价键合，表面被疏水性高的氟化碳链覆盖，因此防止碱离子的侵入。据此，提供具有即使长时间接触碱性的墨也不被破坏的疏水膜的喷墨头和喷墨式记录装置。
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公开(公告)号：CN1202919C
公开(公告)日：2005-05-25
申请号：CN98811262.0
申请日：1998-11-16
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: B05D7/24 , B05D1/18 , G02F1/1337 , G02B5/30
CPC classification number: B82Y30/00 , B05D1/185 , B82Y40/00 , C11D3/162 , C11D11/0047 , G02F1/133719
Abstract: 本发明目的在于，提供一种均一性、分子取向性皆优良、也能用作液晶取向膜的单分子层状的化学吸附膜的高效率制造方法。可以采用至少具有以下工序的化学吸附膜的制造方法来达到该目的：使含有硅烷系表面活性剂和非水系有机溶剂的吸附质溶液在干燥气氛中与基材表面接触，在基材表面上形成由吸附质溶液构成的溶液层的工序；一边使上述溶液层中含有的有机溶剂蒸发，一边进行化学吸附反应的浓缩加速反应工序；有机溶剂蒸发结束后，直到经过一定时间，继续进行化学反应的熟化反应工序；上述熟化反应工序之后，用非水系有机溶剂洗涤基板表面上残存的未吸附的表面活性剂的洗涤工序。
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公开(公告)号：CN1201871C
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN99815358.3
申请日：1999-01-29
Applicant: 戴蒙-富森国际有限公司
Inventor： D·海登
CPC classification number: B82Y30/00 , B05D1/185 , B82Y40/00 , C03C17/30 , C09D4/00 , Y10T428/31663 , C08G77/04
Abstract: 通过化学键合将硅氧烷膜附着到表面上。硅酮膜由硅氧烷基团链组成，每个链都以端分子封端，端分子可以是酯类、醚类或卤素。使端分子与水反应，生成OH基团。然后使表面与封端剂接触，封端剂与OH基团反应，生成新的端基团，新的端基团能改善膜的性质。
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公开(公告)号：CN1496287A
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN00808900.0
申请日：2000-05-10
Applicant: 马萨诸塞州大学
Inventor： 托马斯·J·麦卡锡 , 亚历山大·Y·法捷耶夫
IPC: B05D1/18
CPC classification number: B82Y30/00 , B05D1/185 , B82Y40/00 , C09D183/04 , Y10S977/89 , Y10T428/31663
Abstract: 公开了一种表面改性的方法。该方法包括在足以使氢化硅氧烷的硅原子与在表面上的羟基基团的氧原子之间生成共价键的条件与时间下，让金属表面与氢化硅烷接触。氢化硅烷具有下式(I)，其中Ra、Rb、Rc和Rd中至少一个是H，并且Ra、Rb、Rc和Rd中至少一个不是H。
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公开(公告)号：CN86107568A
公开(公告)日：1987-04-29
申请号：CN86107568
申请日：1986-10-31
Applicant: 孟山都公司
Inventor： 杰伊·迈尔斯·斯图尔特·赫尼斯 , 玛丽·凯思林·特里波迪 , 唐纳德·欧文·斯延普森
IPC: C08J7/04
CPC classification number: B01D67/0088 , B01D67/0093 , B01D2323/30 , B01J20/28033 , B01J20/321 , B01J20/3212 , B01J20/3272 , B01J20/328 , B01J20/3282 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08J5/2243 , C08J5/2256 , C08J2381/06 , D06M15/227 , D06M15/256 , D06M15/63 , D06M16/00 , D06M23/005 , Y10S424/07 , Y10S530/81 , Y10S530/814 , Y10S530/815
Abstract: 本发明阐明了一种为各种聚合物支撑表面进行改性的方法。预先选定的改性用聚合物，不可逆地被吸附在对于改性用聚合物有附着性质的，支撑聚合物的几乎整个表面。被选用的改性用聚合物可以赋予被改性聚合物表面所希望的特性。
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