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公开(公告)号:CN104884704A
公开(公告)日:2015-09-02
申请号:CN201380055488.1
申请日:2013-08-23
Applicant: 绿色主题科技有限责任公司
Inventor: 加里·S·塞尔温
IPC: D06M23/00 , D06M23/02 , D06P5/24 , D06M10/00 , D06M10/02 , D06Q1/12 , B05C1/00 , B05D1/08 , B05C11/10 , D06M15/263
CPC classification number: B05D1/283 , B05C1/14 , B05C3/12 , B05C9/08 , B05D3/067 , B05D3/068 , B05D3/147 , D06M10/001 , D06M10/003 , D06M10/02 , D06M10/025 , D06M13/144 , D06M13/513 , D06M15/263 , D06M15/277 , D06M16/00 , D06M23/00 , D06M23/02 , D06M23/16 , D06M2200/10 , D06M2200/11 , D06M2200/12 , D06P5/007 , D06P5/2005 , D06P5/2011 , D06Q1/12
Abstract: 在一种装置中处理基材,例如织物,所述装置包括化学转移装置和传导基材经过化学转移装置的输送设备。在输送基材经过化学转移装置时,化学转移装置将固体化学处理混合物连续施加到基材。化学处理混合物包含由自由基聚合固化的单体。然后,通过自由基聚合使施加的化学处理混合物在基材上固化。本发明提供常规湿涂方法的干燥替代方法,并避免与湿涂方法相关的很多问题。
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公开(公告)号:CN101124050B
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN200680003296.6
申请日:2006-01-05
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor: A·阿夫扎利-阿尔达卡尼 , J·B·汉农
Abstract: 本发明提供了一种在特定表面上选择性设置碳纳米管的方法。更具体地说,本发明提供了一种方法,其中使用在未构图或构图金属氧化物表面上形成的自组装单层从包括碳纳米管的分散体吸引或排斥碳纳米管。根据本发明,碳纳米管可以被吸引到自组装单层以附着到金属氧化物表面上,或它们可以被自组装单层排斥而接合到与包括自组装单层的金属氧化物表面不同的预定表面。
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公开(公告)号:CN101971093A
公开(公告)日:2011-02-09
申请号:CN200980104066.2
申请日:2009-01-30
Applicant: 美光科技公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: B41N1/08 , B05D1/283 , B41N3/036 , B81C99/009 , B81C2201/0149 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0017 , Y02C20/30 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供用于制造用于对衬底进行图案化的印模和系统的方法,和由所述方法产生的装置。
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公开(公告)号:CN1863853A
公开(公告)日:2006-11-15
申请号:CN200480028997.6
申请日:2004-09-30
Applicant: 陶氏康宁公司
IPC: C08J7/04 , B05D1/28 , B05D3/14 , G02F1/1337 , C09D4/00
CPC classification number: B82Y30/00 , B05D1/283 , B05D3/141 , B05D5/08 , B82Y40/00 , C09D4/00 , G02F1/133719 , G02F1/133753 , C08G8/04
Abstract: 施加构图的薄膜到基片上的方法,该方法包括下述步骤:等离子体处理基片;通过软平版印刷技术,优选微接触印刷技术,施加液体涂布材料到基片表面上,在其上形成构图膜,其中所述涂布材料包括选自有机聚硅氧烷聚合物、有机聚硅氧烷低聚物、有机硅树脂和聚硅烷中的一种或多种化合物。视需要,可从基片表面上除去任何残留的液体涂布材料。该方法不要求液体涂布材料经历固化步骤,而这是在Decal转印微平版印刷技术中要求的。可在印刷之前,使用任何合适的等离子体处理形式来活化基片。
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公开(公告)号:CN1196281A
公开(公告)日:1998-10-21
申请号:CN98104343.7
申请日:1998-01-19
Applicant: 康宁股份有限公司
CPC classification number: B82Y30/00 , B05D1/185 , B05D1/283 , B41M3/003 , B82Y40/00 , G03F7/161 , G03F7/165
Abstract: 本发明特别涉及改进含暴露区域和凹陷区域的三维基材的羟基化表面的性质的方法,按该方法,使用用所述化合物浸过的平的压印垫将诸如含(a)反应基团(多种反应基团)的硅烷之类化合物有选择性地干转移到所述表面的暴露区域上。基材可由玻璃制成,而化合物则可为硫醇或烷基-或芳基-三(氯代或烷氧基)硅烷。本发明特别涉及用于制造生物培养的微孔板和印刷板的应用。
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公开(公告)号:CN1863853B
公开(公告)日:2010-06-16
申请号:CN200480028997.6
申请日:2004-09-30
Applicant: 陶氏康宁公司
IPC: C08J7/04 , B05D1/28 , B05D3/14 , G02F1/1337 , C09D4/00
CPC classification number: B82Y30/00 , B05D1/283 , B05D3/141 , B05D5/08 , B82Y40/00 , C09D4/00 , G02F1/133719 , G02F1/133753 , C08G8/04
Abstract: 施加构图的薄膜到基片上的方法,该方法包括下述步骤:等离子体处理基片;通过软平版印刷技术,优选微接触印刷技术,施加液体涂布材料到基片表面上,在其上形成构图膜,其中所述涂布材料包括选自有机聚硅氧烷聚合物、有机聚硅氧烷低聚物、有机硅树脂和聚硅烷中的一种或多种化合物。视需要,可从基片表面上除去任何残留的液体涂布材料。该方法不要求液体涂布材料经历固化步骤,而这是在Decal转印微平版印刷技术中要求的。可在印刷之前,使用任何合适的等离子体处理形式来活化基片。
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公开(公告)号:CN1863729B
公开(公告)日:2010-06-16
申请号:CN200480029578.4
申请日:2004-10-07
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: B82Y30/00 , B05D1/283 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 提供一种具有体表面(12)的弹性印记(10),从该体表面上延伸出凸出部件)(14,14’)。阻挡层(20)覆盖体表面(12)和凸出部件(14,14’)。将墨水溶液涂覆到弹性印记(10)并干燥该弹性印记(10)之后,弹性印记(10)开始与第一衬底(40)的表面(42)接触。第一衬底(40)的表面(42)对墨水分子(32)具有高亲合力,使用它从凸出部件(14,14’)的接触表面(16,16’)有效地除去墨水分子(32)。随后,使弹性印记(10)与第二衬底(50)的表面(52)接触。从凸出部件(14,14’)的边缘(18,18’)将墨水分子(32)传输到第二衬底(50)的表面(52),由此在这个表面(52)上以自组织单层的形式形成墨水图案。本发明的构图方法可使用多种墨水在衬底(50)上形成高清晰度的墨水图案。
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公开(公告)号:CN100537676C
公开(公告)日:2009-09-09
申请号:CN200480033909.1
申请日:2004-11-16
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: D·布尔丁斯基
CPC classification number: G03F7/0002 , B05D1/283 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C07D339/06 , G01N33/54353 , G01N33/544 , G01N2610/00 , H01L51/0014 , H01L51/0021 , H01L51/0075 , H05K3/061
Abstract: 在基材的至少一个表面上形成SAM的方法,通过将2-单,或2,2-二取代的1,3-二硫杂环戊烷施加到所述表面上从而在所述表面上形成由此制备的SAM。
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公开(公告)号:CN101124050A
公开(公告)日:2008-02-13
申请号:CN200680003296.6
申请日:2006-01-05
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor: A·阿夫扎利-阿尔达卡尼 , J·B·汉农
Abstract: 本发明提供了一种在特定表面上选择性设置碳纳米管的方法。更具体地说,本发明提供了一种方法,其中使用在未构图或构图金属氧化物表面上形成的自组装单层从包括碳纳米管的分散体吸引或排斥碳纳米管。根据本发明,碳纳米管可以被吸引到自组装单层以附着到金属氧化物表面上,或它们可以被自组装单层排斥而接合到与包括自组装单层的金属氧化物表面不同的预定表面。
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公开(公告)号:CN101084456A
公开(公告)日:2007-12-05
申请号:CN200580044152.0
申请日:2005-12-19
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
Inventor: W·G·奥布里恩
CPC classification number: B41M1/30 , B05D1/28 , B05D1/283 , B05D7/04 , B41M1/02 , B41M1/04 , B41M1/34 , B41M3/003 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G02B1/11 , G02B1/111 , G02F1/133502
Abstract: 本发明公开了一种用于在基材上形成图案化氟聚合物膜的方法,其由图案化凸版印刷板在基材上凸版印刷氟聚合物溶液,并从所述溶液干燥溶剂,以形成图案化氟聚合物膜。这样的氟聚合物膜可用于在光学显示器中使用的基材之上的防反射或疏水层。
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