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公开(公告)号：CN1809790A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200480017438.5
申请日：2004-05-19
Applicant: 陶氏康宁公司
CPC classification number: H01L24/32 , G03F7/0757 , G03F7/201 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L23/3128 , H01L24/29 , H01L24/73 , H01L24/83 , H01L25/0657 , H01L25/50 , H01L2224/29 , H01L2224/29101 , H01L2224/2919 , H01L2224/29198 , H01L2224/2929 , H01L2224/29339 , H01L2224/29344 , H01L2224/29347 , H01L2224/29355 , H01L2224/29386 , H01L2224/29393 , H01L2224/32014 , H01L2224/32145 , H01L2224/32225 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/73265 , H01L2224/8301 , H01L2224/83192 , H01L2224/83194 , H01L2224/8385 , H01L2225/0651 , H01L2225/06575 , H01L2924/00013 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/0101 , H01L2924/01011 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01015 , H01L2924/01018 , H01L2924/01019 , H01L2924/01024 , H01L2924/01027 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/0104 , H01L2924/01041 , H01L2924/01043 , H01L2924/01044 , H01L2924/01045 , H01L2924/01046 , H01L2924/01047 , H01L2924/0105 , H01L2924/01054 , H01L2924/01056 , H01L2924/01058 , H01L2924/01068 , H01L2924/01074 , H01L2924/01076 , H01L2924/01077 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/0665 , H01L2924/07802 , H01L2924/10253 , H01L2924/10329 , H01L2924/14 , H01L2924/1461 , H01L2924/15311 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/00012 , H01L2924/04642 , H01L2924/04563 , H01L2924/0542 , H01L2924/05432 , H01L2924/05032 , H01L2924/0532 , H01L2924/0503 , H01L2224/29099 , H01L2224/29199 , H01L2224/29299
Abstract: 使用灰度级光刻蚀法粘合基底的方法，包括：(a)将可光构图的组合物施涂到基底表面上，形成膜，(b)经灰度级光掩膜将一部分膜暴露于波长为150－800纳米的辐射线下，产生具有覆盖至少一部分该表面的未曝光区域的曝光膜；(c)加热该曝光膜，其时间足以使曝光区域基本上不溶于显影溶剂和未曝光区域可溶于显影溶剂；(d)用显影溶剂除去加热膜的未曝光区域，形成构图膜；(e)加热该构图膜，其时间足以形成具有表面的固化的构图膜；(f)活化该固化的构图膜的表面和被粘物的表面；(g)使固化的构图膜的活化表面与被粘物的活化表面接触。该可光构图组合物包括：(A)每一分子平均含有至少两个与硅键合的不饱和有机基团的有机聚硅氧烷，(B)浓度足以固化该组合物的每一分子平均含有至少两个与硅键合的氢原子的有机硅化合物，和(C)催化量的光活化的氢化硅烷化催化剂。
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公开(公告)号：CN1685286A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN03823110.7
申请日：2003-09-26
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： A·J·M·内里斯森
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F1/00 , G03F7/201 , G03F7/703 , G03F7/7035 , Y10T428/24802
Abstract: 在用于对衬底的端侧面或内侧面进行布线的光刻接近式方法中，利用掩模(70)来对限定了布线图案的条(76)进行所需的曝光，该掩模(70)包括衍射结构(74)以便将曝光射线(b)反射至侧面。使用垂直入射于掩模上的曝光光束以便提高贴近间隙宽度变动的公差。这种方法容许制造准确、精细的布线。
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公开(公告)号：CN1506762A
公开(公告)日：2004-06-23
申请号：CN200310117002.0
申请日：2003-11-27
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
Inventor： 今井洋之
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/7035 , G03F7/707
Abstract: 面向板(50)安装刻画有电路图案的膜掩模3，且压力膜1安装在膜掩模(3)之上。通过上移压印盘4，使膜掩模3与压力膜1接触并将其推靠在板(50)上。膜掩模(3)和压印盘(4)安装在减压室(2)中，减压室(2)的上表面是压力膜(1)。压力膜(1)是由树脂等制成的膜，具有传播曝光波长的特性。压力膜(1)环周连接减压室(2)的壁以构成减压室的一个壁，其中通过在减压室Y侧形成负压，使压力膜(1)呈由其中心至周边的隆起形状膨胀，将膜掩模(3)推靠在板(50)上。
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公开(公告)号：CN107153326A
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201611178550.8
申请日：2016-12-19
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/11
CPC classification number: G03F7/70341 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D3/061 , B05D3/068 , G03F7/0042 , G03F7/038 , G03F7/11 , G03F7/167 , G03F7/2004 , G03F7/201 , G03F7/2037 , G03F7/2039 , G03F7/38 , G03F7/40 , G03F7/70325 , H01L21/02118 , H01L21/02277 , H01L21/0271 , H01L21/0274 , H01L21/0277 , H01L21/31111 , H01L21/31133 , H01L21/31144 , H01L21/687 , H01L21/68764
Abstract: 本发明的实施例公开了用于光刻图案化的方法。该方法包括提供衬底，在衬底上方形成沉积增强层(DEL)并且使有机气体在DEL的表面附近流动。在有机气体的流动期间，该方法还包括用图案化的辐射辐照DEL和有机气体。有机气体的元素通过图案化的辐射而聚合，从而在DEL上方形成光刻胶图案。该方法还包括用光刻胶图案作为蚀刻掩模蚀刻DEL，从而形成图案化的DEL。
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公开(公告)号：CN105759571A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201610325723.8
申请日：2016-05-13
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/2004 , G03F7/70008 , G03F7/7005 , G03F7/70216 , G03F7/7035
Abstract: 本发明公开了一种紫外光掩膜装置及其使用方法，在紫外光掩膜装置中采用至少一种发射单一中心波长的紫外发光二极管形成的光源阵列作为紫外发光光源。紫外发光二极管不含有臭氧和重金属水银等有害物质，不会对人体或环境产生有害影响。并且，紫外发光二极管可以发射单一中心波长，因此，可以针对掩膜工艺中所需的特定吸收波长设定紫外光发光二极管的发射中心波长，以实现预期的化学反应或工艺，这样可以降低光损失以及保证工艺的稳定性。此外，紫外发光二极管为冷光源，其发光过程中产生的热量较少，相对于水银灯和金属卤化物灯，可以移近紫外发光二极管和需要被光照射的部件之间的距离，从而提高光利用率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105700299A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610131271.X
申请日：2016-03-09
Applicant: 深圳盟星科技有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/20 , G03F7/201 , G03F7/7005 , G03F7/70733
Abstract: 本发明公开了一种双面曝光的装置，包括工作台面，所述工作台面上设置有一第一气浮板，所述第一气浮板的上方平行相向设置有第二气浮板，所述第一气浮板和第二气浮板相对的一面分别均匀布设有连通的排气孔；所述第一气浮板和第二气浮板上分别设置有加工通孔，二所述加工通孔的投影贯穿PCB板的处理部位，二所述加工通孔的上方或下方各设有一能沿加工通孔移动的显影曝光装置，二所述显影曝光装置的光线分别透过加工通孔射向PCB板的二面。本发明具有PCB板双面曝光定位精确、同时能避免划伤和变形的优点。
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公开(公告)号：CN105637419A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201480053766.4
申请日：2014-09-30
Applicant: 富林特集团德国有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: B41C1/055 , G03F7/201 , G03F7/202 , G03F7/2022 , G03F7/36
Abstract: 一种用于自动执行后面预曝光过程和主曝光过程，以及用于显影可数字成像的柔性版印刷元件的装置，以及一种用于使用该装置基于数字可成像柔性版印刷元件而生成柔性版印刷版的方法。
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公开(公告)号：CN102782445B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201180011111.7
申请日：2011-02-11
Applicant: 麦克德米德印刷方案股份有限公司
CPC classification number: B41N1/06 , B41C1/055 , B41M1/04 , B41N1/12 , G03F7/09 , G03F7/201 , G03F7/2012 , G03F7/202 , Y10T428/24521
Abstract: 本发明提供一种由感光印刷版坯料制造凸纹图像印刷元件的方法。通过激光对具有置于至少一层光可固化层上的激光可烧蚀层的感光印刷版坯料进行烧蚀，以产生原位光掩模。接着透过此原位光掩模将印刷版坯料曝露于至少一种光化辐射源下，以有选择地使部分光可固化层交联并固化。在曝光步骤期间，对扩散进入到至少一层该光可固化层内的空气进行限制；并且在曝光步骤期间，优选来自至少一种光化辐射源的照明的类型、功率和入射角中的至少一个条件发生改变。所得的凸纹图像包含多个圆点，并且多个圆点的圆点形状可在各种不同基材(包括瓦楞纸板)上提供最适的印刷性能。
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公开(公告)号：CN104802400A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201410698306.9
申请日：2014-11-27
Applicant: 上海普利生机电科技有限公司 , 上海普利生信息科技有限公司
Inventor： 侯锋
CPC classification number: G03F7/702 , B29C64/129 , B29C64/20 , B33Y30/00 , G03F7/0037 , G03F7/201 , G03F7/70416
Abstract: 本发明涉及一种3D打印设备的图像曝光系统，包括：空间光调制器，具有多个微镜，用于根据控制信号调节照射到其上的光的反射方向，其中每一微镜为凹面镜，将照射到其上的光会聚成尺寸小于微镜所对应的像素尺寸的微光斑；光源，产生一照射到空间光调制器上的光束；投影镜头，对准空间光调制器的第一方向，使光源通过各微镜所成的微光斑阵列投射到光敏材料表面；微位移驱动机构，连接空间光调制器，能够驱动空间光调制器在相互垂直的第三方向和第四方向移动，以微调微光斑阵列投影到光敏材料表面的位置；以及控制器，命令光源进行多次曝光，在每次曝光时命令微位移驱动机构进行移动，以将各次曝光的微光斑阵列投影到光敏材料表面的不同位置。
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公开(公告)号：CN104395829A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201380032102.5
申请日：2013-04-17
Applicant: 萨苏维奥诺德工程公司
Inventor： 里卡尔多·德卡里亚
IPC: G03F7/20
CPC classification number: B41F35/00 , G03F7/2004 , G03F7/201 , G03F7/2032 , G03F7/3064 , G03F7/3071 , G03F7/70558
Abstract: 本发明涉及用于在一系列用于柔版印刷的数字印刷板中进行光聚合作用和冲洗的方法和装置。根据本发明的方法，其特征在于，串联实现连续地移动的印刷板的曝光和冲洗步骤。本发明还涉及适于实现所述方法的装置。
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