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公开(公告)号:CN101263564A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200680033309.4
申请日:2006-08-30
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G06F3/047 , G06F3/045 , G06F2203/04809 , Y10T428/24364
Abstract: 本发明提供一种透明导电性膜,是在透明的膜基材的一个面上经由具有微细凹凸形状的树脂层而层叠透明导电性薄膜的透明导电性膜,透明导电性薄膜的表面的中心线平均粗糙度(Ra)为0.11~0.18μm,最大高度(Ry)为0.9~1.6μm,并且局部顶峰的平均间隔(S)为0.05~0.11mm。该透明导电性膜是在透明的膜基材的一方的面上,经由具有微细凹凸形状的树脂层而层叠透明导电性薄膜的透明导电性膜,可以抑制牛顿环的产生,并且可以满足耐久性,特别是可以满足笔输入耐久性以及耀眼等显示特性。
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公开(公告)号:CN101226450A
公开(公告)日:2008-07-23
申请号:CN200810004067.7
申请日:2008-01-18
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G06F3/044 , G06F3/04886 , H01H2201/028 , H01H2209/082 , H01H2219/012 , H01H2229/016 , H01H2239/006 , Y10T428/24612 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种透明导电体层已被图案化而且外观良好的透明导电性薄膜及其制造方法。该透明导电性薄膜是一种在透明的薄膜基材的单面或两面经由至少一层底涂层具有透明导电体层的透明导电性薄膜,其特征在于,所述透明导电体层已被图案化,而且在不具有所述透明导电体层的非图案部具有所述至少一层底涂层。
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公开(公告)号:CN1324447C
公开(公告)日:2007-07-04
申请号:CN200510075909.4
申请日:2005-06-01
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G06F3/033 , G02F1/1333
Abstract: 一种接触面板,该接触面板包括:第一面板板体,该第一面板板体具有第一基层和设置在该第一基层的一个侧面上的第一导电性薄膜;以及第二面板板体,该第二面板板体具有第二基层和设置在该第二基层的一个侧面上的第二导电性薄膜;其中,该第一面板板体和该第二面板板体借助间隔件布置成便于使得该第一导电性薄膜和该第二导电性薄膜彼此面对,该第一导电性薄膜和该第二导电性薄膜之间的距离在20-100μm之间,该接触面板在距离设置于该第一面板板体的端部处的电极1.5毫米的位置处具有3.9°或更小的推挤角度。
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公开(公告)号:CN118027485A
公开(公告)日:2024-05-14
申请号:CN202311491078.3
申请日:2023-11-10
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 适于使防污层实现良好透明外观性的带防污层的光学薄膜及其制造方法。该制法包括在透明基材薄膜(11)一面侧形成防污层(15)的工序;将剥离薄膜(16)的粘合面(16a)贴合于防污层(15)的工序;从防污层(15)将剥离薄膜(16)剥离的工序;将保护薄膜(17)的粘合面(17a)贴合于防污层(15)的工序。剥离薄膜(16)对防污层(15)的粘合力为0.008N/50mm以上。薄膜(Z)依次具备透明基材薄膜(11)、防污层(15)和保护薄膜(17)。保护薄膜(17)利用粘合面(17a)贴接于防污层(15)。去除保护薄膜后的防污层的厚度相对于具备保护薄膜状态下的防污层的厚度的比率为0.9以上1.0以下。
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公开(公告)号:CN115916528B
公开(公告)日:2024-03-12
申请号:CN202180046973.7
申请日:2021-07-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B27/00 , B32B7/023 , B32B7/02 , C23C14/34 , C23C14/06 , G02B1/18 , G02B1/14 , G02B1/115 , G02B1/113 , B32B9/00
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)朝着厚度方向(T)依次具备透明基材(10)和防污层(30)。防污层(30)的与透明基材(10)相反的表面(31)侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。
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公开(公告)号:CN115279585A
公开(公告)日:2022-11-01
申请号:CN202180021545.9
申请日:2021-03-01
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明涉及一种电磁波透过性金属光泽构件,其具备:基体、以连续状态设置于前述基体上的含有氧化铟的层、和在前述含有氧化铟的层上形成的金属层,前述金属层包含多个部分,所述多个部分中,至少一部分处于彼此不连续的状态,作为前述金属层与前述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/□以上。
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公开(公告)号:CN114761834A
公开(公告)日:2022-07-15
申请号:CN202080082356.8
申请日:2020-11-20
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B1/115 , B32B7/023 , B32B9/00 , B32B27/18 , G02B1/14 , G02F1/1335 , G09F9/00 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/02
Abstract: 防反射薄膜(100)具备:在薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)的硬涂薄膜;在硬涂层上接触设置的底漆层(3);以及,在底漆层上接触设置的防反射层(5)。防反射层是折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层是包含In、Sn等金属的氧化物的金属氧化物层,其中,优选为氧化铟锡等铟系氧化物层。
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