COSMETIC COMPOSITION
    196.
    发明专利

    公开(公告)号:GB2177916A

    公开(公告)日:1987-02-04

    申请号:GB8616124

    申请日:1986-07-02

    Applicant: OREAL

    Abstract: A cosmetic composition for improving the suppleness of the skin or hair and for protecting the keratin of the skin or hair from degradation by atmospheric agents or light comprises in a cosmetic or dermatologic acceptable vehicle a saturated condensate resulting from the polyaddition of a bis-acrylamide and a sterically hindered primary diamine, the condensate being saturated by hydrogenation or by addition of a thiol or an amine on the double bonds of the acrylamide residue.

    VERNIS A ONGLES ANHYDRE A BASE D'UNE RESINE CONTENANT DES MOTIFS D'UN VINYLSULFONAMIDE OU D'UN AMIDE INSATURE ET DES MOTIFS D'UN ACRYLATE OU METHACRYLATE D'ALKYLE

    公开(公告)号:CA1213523A

    公开(公告)日:1986-11-04

    申请号:CA396480

    申请日:1982-02-17

    Applicant: OREAL

    Abstract: La présente invention a pour objet une composition cosmétique sous forme de vernis à ongles anhydre. Cette composition contient dans un système solvant pour vernis une résine essentiellement constituée par un copolymère comportant des motifs résultant de la copolymérisation: 1) d'au moins un monomère de formule générale: (I) dans laquelle: R1 représente un atome d'hydrogène ou un radical méthyle, et R2 représente un radical alkyle linéaire ou ramifié ayant de 1 à 18 atomes de carbone, un radical mono ou dihydroxyalkyle, le radical alkyle ayant de 2 à 4 atomes de carbone, un radical glycidyl ou le radical (CH2-CH2-O)?R',R représentant méthyle ou éthyle et ? est 3 ou 4, et 2) d'au moins un monomère pris dans le groupe constitué par: le N-vinylsulfonamide, le styrène-4 sulfonamide, l'acrylamide, le méthacrylamide et un aminoalkyl amide insaturé de formule générale: (II) dans laquelle: R3 représente un atome d'hydrogène ou un radical méthyle, L représente un radical alkylène de 2 à 6 atomes de carbone ou un radical alkylène substitué ayant de 2 à 4 atomes de carbone et notamment les radicaux de formule: ou et R4 et R5, identiques ou différents représentent un atome d'hydrogène, un radical méthyle ou éthyle, lesdits motifs de formule (II) pouvant se présenter sous forme quaternisée ou salifiée.

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