公开(公告)号：WO2006084686A3

公开(公告)日：2006-12-21

申请号：PCT/EP2006001127

申请日：2006-02-09

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB RENE ,  TOMPKIN WAYNE ROBERT ,  SCHILLING ANDREAS

Inventor： STAUB RENE ,  TOMPKIN WAYNE ROBERT ,  SCHILLING ANDREAS

IPC: B42D15/10 ,  B44C1/14

CPC classification number: B32B27/08 ,  B42D25/324 ,  B42D25/328 ,  B42D25/41 ,  B42D25/42 ,  B42D2033/10 ,  B42D2033/24 ,  B44C1/14 ,  G03H1/02 ,  G03H1/0244 ,  G03H2001/0033 ,  G03H2001/188 ,  G03H2250/10

Abstract: The invention relates to a method for producing a multilayer body (100) having a partially molded first layer (3m) and to a multilayer body produced according to said method. The method is characterized in that a diffractive first relief structure (4) is molded into a first area of a replicating layer (3) of the multilayer body, the first layer (3m) is applied to the replicating layer (3) in the first area and in a second area in which the first relief structure is not molded into the replicating layer (3), a photosensitive layer (8) is applied to the first layer (3) or a photosensitive washing mask (8) is applied as the replicating layer, the photosensitive layer or the washing mask are irradiated through the first layer (3m), thereby irradiating the photosensitive layer or washing mask (8) differently in the first and in the second area depending on the first relief structure, and the first layer (3m) is removed, while using the irradiated photosensitive layer or the washing mask (8) as the mask layer, in the first area, but not in the second area, or is removed in the second area, but not in the first area.

Abstract translation: 描述了一种用于制造多层体（100），其具有部分成形的第一层（3M）和由此制造层叠体的方法。 它提供了一个衍射第一浮雕结构（4）在所述多层体的一个复制层（3）的第一区域的形状是，在所述第一区域，并且在第二区域中的第一层（3M）到复制层（3）， 被成形，其中第一浮雕结构是不是在复制层（3）被施加，使得感光层（8）被施加到第一层（3）或感光洗涤掩模（8）被施加作为复制层，感光 穿过所述第一层（3M）层或洗涤掩模暴露穿过其中，使得感光层或洗涤掩模（8）由引起在第一和第二区域改变第一浮雕结构露出，并且，所述第一层（3米） 使用暴露的光敏层或洗涤掩模（8），其在第一区域中的掩模层，但不是在第二区中或在第二误码率 可验证的，未在第一区域中除去。

公开(公告)号：WO2006108607A2

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：PCT/EP2006/003318

申请日：2006-04-11

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB, René ,  HANSEN, Achim ,  ATTNER, Juri

Inventor： STAUB, René ,  HANSEN, Achim ,  ATTNER, Juri

IPC: B42D15/10 ,  G03H1/02

CPC classification number: G03H1/26 ,  B42D25/328 ,  G03H1/0244 ,  G03H2001/2615 ,  G03H2240/55 ,  G03H2250/36 ,  Y10S428/916 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24521 ,  Y10T428/24529 ,  Y10T428/24545 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24917

Abstract: Es wird eine Transferfolie, insbesondere Heißprägefolie, beschrieben, die eine Trägerfolie (22) und eine auf der Trägerfolie (22) angeordnete und von der Trägerfolie (22) ablösbare Übertragungslage mit einer Strukturschicht (14) umfaßt. Es ist vorgesehen, daß die Trägerfolie (22) auf ihrer der Strukturschicht (14) zugewandten Seite eine Master-Reliefstruktur (22m) aufweist, daß die Strukturschicht (14) auf ihrer der Trägerfolie (22) zugewandten Seite eine zur Master-Relief struktur (22m) der Trägerfolie (22) komplementäre erste Reliefstruktur (14o) aufweist, daß die Strukturschicht (14) auf ihrer der Trägerfolie (22) abgewandten Seite eine sich von der ersten Reliefstruktur (14o) unterscheidende zweite Reliefstruktur (14u) aufweist und daß die zweite Relief struktur (14u) mindestens bereichsweise mit einer Reflexionsschicht (16) bedeckt ist. Weiter werden ein Verfahren zur Herstellung der Transferfolie, ein mit der Strukturschicht gebildeter Mehrschichtkörper und ein Sicherheitsdokument mit dem Mehrschichtkörper angegeben.

Abstract translation: 本发明提供一种转印箔，特别是烫印箔，设置在载体膜（22）和一个在载体膜（22）和从所述载体膜（22）可释放转印带的结构层（14）层。 据设想，在它的所述结构层（14）侧上的载体膜（22）的面向面向结构的侧到主浮雕的主浮雕结构（22米），所述结构层（14），在其支撑膜（22）（ 所述载体箔（22）的22米）具有互补的第一浮雕结构（140），其在它的载体箔的结构层（14）（22）从本身背向（从第1浮雕结构140）判别第二浮雕结构（14U侧），并且所述第二 浮雕结构（14U）至少部分地覆盖有反射层（16）。 接着，对于转印膜的制备方法，表示具有形成在结构层的多层体和与该叠层体的安全文件。

公开(公告)号：WO2006084685A3

公开(公告)日：2006-08-17

申请号：PCT/EP2006/001126

申请日：2006-02-09

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB, René ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  SCHILLING, Andreas

Inventor： STAUB, René ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  SCHILLING, Andreas

IPC: B42D15/10

Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers (100) mit einer partiell ausgeformten ersten Schicht (3m) angegeben, wobei vorgesehen ist, daß bei dem Verfahren in einem ersten Bereich (5) einer Replizierschicht (3) des Mehrschichtkörpers (100) eine diffraktive erste Reliefstruktur mit einem hohen Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis der einzelnen Strukturelemente, insbesondere mit einem Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis > 0,3 abgeformt wird und die erste Schicht (3m) auf die Replizierschicht (3) in dem ersten Bereich (5) und in einem zweiten Bereich (4, 6), in dem die erste Re lief struktur nicht in der Replizierschicht (3) abgeformt ist, mit konstanter Flächendichte aufgebracht wird, und daß die erste Schicht (3m) durch die erste Reliefstruktur bestimmt teilweise entfernt wird, so daß die erste Schicht (3m) im ersten Bereich (5) oder im zweiten Bereich (4, 6), nicht jedoch im zweiten Bereich (4, 6) bzw. im ersten Bereich (5) teilweise entfernt ist.

公开(公告)号：WO2006084685A2

公开(公告)日：2006-08-17

申请号：PCT/EP2006001126

申请日：2006-02-09

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB RENE ,  TOMPKIN WAYNE ROBERT ,  SCHILLING ANDREAS

Inventor： STAUB RENE ,  TOMPKIN WAYNE ROBERT ,  SCHILLING ANDREAS

IPC: B42D15/10

CPC classification number: B42D25/405 ,  B42D25/328 ,  Y10S359/90

Abstract: The invention relates to a method for producing a multilayer body (100) having a partially molded first layer (3m). The method is characterized in that a diffractive first relief structure having a high depth/width ratio of the individual structure elements, especially a depth/width ratio of > 0.3, is molded into a first area (5) of a replicating layer (3) of the multilayer body and the first layer (3m) is applied with a constant surface density to the replicating layer (3) in the first area (5) and in a second area (4, 6) in which the first relief structure is not molded into the replicating layer (3), and the first layer (3m) is partially removed depending on the first relief structure, so that the first layer (3m) is partially removed in the first area (5) or in the second area (4, 6) but not in the second (46) or in the first area (5).

Abstract translation: 本发明提供了一种用于制造多层体（100），其具有部分成形的第一层（3米），其特征在于，它提供了一个衍射首先在过程中的第一区域（5）的层叠体的复制层（3）的（100） 浮雕结构模制有各个结构元件的高深度对宽度之比，尤其是具有深度对宽度之比的> 0.3，并且所述第一层（3米），以在第一区域中的复制层（3）（5 成形），并在第二区域（4,6），其中，所述第一再没有浮雕结构在复制层（3）被施加有恒定的表面密度，并且使得由第一浮雕结构中的第一层（3M）被确定部分地去除 是这样的，在第一区域（5）或在所述第二区域中的第一层（3M）（4,6），但不是在第二区域（4,6），或在所述第一区域（5）被部分地去除。

公开(公告)号：WO2004113953A2

公开(公告)日：2004-12-29

申请号：PCT/EP2004/006466

申请日：2004-06-16

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  STAUB, René

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  STAUB, René

IPC: G02B

CPC classification number: G02B5/1866 ,  B42D25/324 ,  B42D25/342 ,  G02B5/1819

Abstract: Die Erfindung betrifft ein optisches Sicherheitselement sowie ein System zur Visualisierung von versteckten Informationen mit einem derartigen optischen Sicherheitselement. Das optische Sicherheitselement weist eine Substratschicht auf, in der in einem von eine X- und einer Y-Achse aufgespannten Flächenbereich eine durch Reliefparameter, insbesondere Reliefform, Relieftiefe, Spatialfrequenz und Azimutwinkel, definierte Reliefstruktur zur Erzeugung eines optisch erkennbaren Effektes abgeformt ist. Ein oder mehrere der die Reliefstruktur definierenden Reliefparameter sind in dem Flächenbereich (27) gemäss einer Parameter-Variations- Funktion variiert. Der Flächenbereich (27) ist in ein oder mehrere Musterbereiche (29, 30) und einen Hintergrundbereich (28) geteilt. Ein oder mehrere der die Reliefstruktur definierenden Reliefparameter sind in den ein oder mehreren Musterbereichen (29, 30) gemäss einer gegenüber der Parameter-Variations-Funktion des Hintergrundbereiches (28) phasenverschobenen Parameter-Variations-Funktion variiert. Weiter ist ein Verifikationselement vorgesehen, das ein durch eine periodische Transmissions-Funktion definiertes Verifikationsraster besitzt, dessen Periode der Periode der Parameter-Variations-Funktion entspricht.

Abstract translation: 本发明涉及一种光学安全元件和用于隐藏信息可视化这样的光学安全元件的系统。 光学安全元件具有在由X和由浮雕参数所定义的区域的Y轴表面积限定的平面的基板层，特别是浮雕的形状，浮雕深度，空间频率和方位角，浮雕结构被成形，以产生光学可检测效应。 一个或多个定义所述浮雕图案浮雕参数的在根据参数变化函数的区域（27）而变化。 表面积（27）被分成一个或数个图案区域（29，30）和背景区域（28）。 一个或多个浮雕结构限定浮雕参数是在所述一个或多个图案区域（29，30）根据背景部分（28）的参数变化的特征的相对改变相移参数变化函数。 此外，检验元件提供一种具有由周期性传输功能验证光栅，其周期对应于参数的变化特征的周期定义。

公开(公告)号：WO2004083911A1

公开(公告)日：2004-09-30

申请号：PCT/EP2004/002822

申请日：2004-03-18

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

IPC: G02B5/18

CPC classification number: G02B5/1861 ,  B42D25/328 ,  G02B5/1823 ,  G02B5/1852 ,  G02B5/1857 ,  G06K19/16

Abstract: Es werden lichtbeugende Mikrostrukturen durch Überlagerung wenigstens zweier Reliefstrukturen hergestellt, wobei die erste Reliefstruktur mechanisch erzeugt ist, während wenigstens eine zweite Reliefstruktur eine photomechanisch generierte Beugungsstruktur ist. Ein Verfahren zum Herstellen von lichtbeugenden Mikrostrukturen, die additive Überlagerungen aus einer Reliefstruktur und wenigstens einer Beugungsstruktur sind, zeichnet sich durch die folgenden Schritte aus: a) Herstellung einer Schicht (2) aus Photoresist auf einem Substrat (1), deren freie Oberfläche die Reliefstruktur aufweist, b) Erzeugen eines Interferenzmusters mit kohärentem Licht über der Reliefstruktur (5), c) Ausrichten der Reliefstruktur auf das Interferenzmuster, d) Belichten der Reliefstruktur mittels des Interferenzmusters e) Entwickeln des Photoresist, wobei durch die Belichtung verändertes Material des Photoresist entfernt wird und Vertiefungen, z.B. Furchen, der Beugungsstruktur auf der Reliefstruktur entstehen und f) Trocknen des Photoresist.

Abstract translation: 通过叠加至少两个光衍射浮雕结构的微结构，其中，所述第1浮雕结构被机械地产生，而第二浮雕结构是至少一个光机械产生的衍射结构产生的。 一种用于生产光衍射微结构的方法，一个浮雕结构的添加剂叠加和至少一个衍射结构的特征在于以下步骤：a）生产的层（2）由光致抗蚀剂的基板上（1）中，浮雕结构的自由表面 ，b）产生相干光的干涉图案的浮雕结构（5），c）中对准由显影光致抗蚀剂，它是由光致抗蚀剂的曝光改性材料中除去的干扰模式e的装置）照射该浮雕结构上的干涉图案的浮雕结构，D） 部和凹部，例如， 在浮雕结构衍射图案的槽形成和f）干燥所述光致抗蚀剂。

公开(公告)号：WO2004049250A1

公开(公告)日：2004-06-10

申请号：PCT/EP2003/012451

申请日：2003-11-07

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

IPC: G06K19/16

CPC classification number: B42D25/465 ,  B42D25/00 ,  B42D25/29 ,  B42D25/305 ,  B42D25/324 ,  B44C3/02 ,  B44F7/00

Abstract: Es wird eine Schichtanordnung, insbesondere für Transfer- oder Laminierfolien, vorgeschlagen, welche wenigstens zwei aufeinanderfolgende Kunstharzschichten aufweist, zwischen denen eine Grenzfläche mit einer einen linsenartigen Effekt erzeugenden, beugungsoptisch wirksamen Struktur (1) (4, 5, 6, 7, 8) vorgesehen ist, wobei eine besondere Ausbildung der beugungsoptisch wirksamen Struktur beansprucht wird.

Abstract translation: 它是一种层安排，特别是用于传输或层压薄膜，提出了一种包括至少两个连续的树脂层，其中一个类透镜的效果，衍射光学有效结构在它们之间形成界面（1）（4，5，6，7，8） ，其中所述光学衍射结构的特定结构要求保护。

公开(公告)号：WO2004011272A3

公开(公告)日：2004-02-05

申请号：PCT/EP2003/007984

申请日：2003-07-22

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB, René ,  GRIEBEL, Thomas, Herbert ,  KROLZIG, Olaf ,  BUCHER, Josef

Inventor： STAUB, René ,  GRIEBEL, Thomas, Herbert ,  KROLZIG, Olaf ,  BUCHER, Josef

IPC: B42D1/00

Abstract: Es wird ein individualisiertes Sicherheitsdokument (10) wie ein Reisepass, ein Sparbuch o.dgl. beschrieben, das eine Anzahl Blätter (14) aufweist, die miteinander mittels einer Heftung (16) oder einer Klebung verbunden sind. In das Sicherheitsdokument (10) ist mittels der Heftung (16) oder Klebung eine mit Sicherheitselementen versehene Übertragungsfolie (18) eingebunden, die eine Grundfolie (20) und eine die Sicherheitselemente aufweisende Dekorschichtanordnung (22) aufweist. Die Dekorschichtanordnung (22) ist auf das zugehörige Blatt (14) des Sicherheitsdokumentes (10) transferierbar. Gleichzeitig wird die Grundfolie (20) von der Dekorschichtanordnung (22) abgelöst und kann aus dem Sicherheitsdokument (10) herausgetrennt werden.

公开(公告)号：WO2003084764A3

公开(公告)日：2003-10-16

申请号：PCT/EP2003/003482

申请日：2003-04-03

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB, René ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

Inventor： STAUB, René ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

IPC: B42D15/10

Abstract: Ein schwer kopierbares Sicherheitselement (2) umfasst einen Schichtverbund (1), der zwischen zwei Schichten (5, 6) des Schichtverbunds (1) eingebettete, mikroskopisch feine optisch wirksame Strukturen (9) eines Flächenmusters aufweist. In einer von Koordinatenachsen x und y aufgespannten Ebene des Flächenmusters sind in eine Grenzfläche (8) zwischen den Schichten (5; 6) in Flächenteilen eines holographisch nicht kopierbaren Sicherheitsmerkmals die optisch wirksamen Strukturen (9) abgeformt. In wenigstens einem Flächenteil ist die optisch wirksame Struktur (9) eine durch additive Überlagerung einer makroskopischen Überlagerungsfunktion (M) mit einem mikroskopisch feinen Reliefprofil (R) gebildete Beugungsstruktur (S, S*, S**). Sowohl das Reliefprofil (R), die Überlagerungsfunktion (M) als auch die Beugungsstruktur (S, S*, S**) sind Funktionen der Koordinaten x und y. Das Reliefprofil (R) ist eine lichtbeugende oder lichtstreuende optisch wirksame Struktur (9) und behält, der Überlagerungsfunktion (M) folgend, die vorbestimmte Profilhöhe bei. Die Überlagerungsfunktion (M) ist wenigstens stückweise stetig und keine periodische Dreieck-oder Rechteckfunktion. Im Vergleich zum Reliefprofil (R) ändert sich die Überlagerungsfunktion (M) langsam. Bei Kippen und Drehen des Schichtverbunds (1) erblickt der Beobachter auf den beleuchteten Flächenteilen helle, von der Betrachtungsrichtung abhängige, kontinuierlich wandernde Streifen.

公开(公告)号：WO2003059643A1

公开(公告)日：2003-07-24

申请号：PCT/EP2002/012243

申请日：2002-11-02

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  STAUB, René

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  STAUB, René

IPC: B42D15/00

CPC classification number: B42D25/29

Abstract: Ein diffraktives Sicherheitselement (2) ist in Teilflächen eingeteilt, die eine optisch wirksame Struktur (9) an Grenzflächen eingebettet zwischen zwei Schichten eines Schichtverbunds (1) aus Kunststoff aufweist. Wenigstens die zu beleuchtende Basisschicht (4) des Schichtverbunds (1) ist transparent. Die optisch wirksame Struktur (9) besitzt als Grundstruktur ein Beugungsgitter nullter Ordnung mit einer Periodenlänge von höchstens 500 nm. In wenigstens einer der Teilflächen ist ein integrierter optischer Wellenleiter (5) mit einer Schichtdicke (s) aus einem transparenten Dielektrikum zwischen der Basisschicht (4) und einer Kleberschicht (7) des Schichtverbunds (1) und/oder einer Schutzschicht (6) des Schichtverbunds (1) eingebettet, wobei die Profiltiefe der optisch wirksamen Struktur (9) in einem vorbestimmten Verhältnis zur Schichtdicke (s) steht. Das Sicherheitselement (2) erzeugt bei der Beleuchtung mit weissem einfallendem Licht (13) in der nullten Beugungsordnung gebeugtes Licht (14) von hoher Intensität und intensiver Farbe.

Abstract translation: 的衍射安全元件（2）被分成部分区域中，（1）由塑料制成的具有层复合材料的两层之间的界面处嵌入的光学有效结构（9）。 至少所述层复合材料（1）的被照亮的基极层（4）是透明的。 光学活性结构（9）具有作为基本结构，衍射光栅的零级具有周期长度不超过500纳米。在局部区域中的至少一项所述的集成光波导路（5）与所述基体层之间的透明电介质材料层的厚度（S）（4 ）和层复合材料（1）和/或保护层（6）的层复合材料（1）被嵌入，其中，所述光学活性结构（9）的预定的比率，以该层的厚度（S）的轮廓深度是的粘合剂层（7）。 的安全元件（2）照射时产生具有高强度和强烈的颜色的零衍射级衍射光（14）白色入射光（13）。