Abstract:
Die Erfindung betrifft ein freistehendes Halbleitersubstrat sowie ein Verfahren und eine Maskenschicht zur Herstellung eines freistehenden Halbleiterschicht-Substrats, bei dem sich das Halbleitersubstrat selbständig ohne weitere Prozessschritte vom Ausgangssubstrat ablöst. Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstrats umfasst folgende Verfahrensschritte: Bereitstellen eines Ausgangssubstrats, Aufbringen einer Maskenschicht mit einer Vielzahl von Öffnungen auf dem Ausgangssubstrat, Aufwachsen mindestens eines Halbleitersubstrats, wobei die Maskenschicht von mindestens einem Halbleitermaterial lateral überwachsen wird, und anschließendem Abkühlen von Ausgangssubstrat, Maskenschicht und Halbleitersubstrat, wobei das Material zu Ausbildung der Maskenschicht zumindest teilweise aus Wolframsilizidnitrid oder Wolframsilizid besteht, und es während des Wachstums mindestens eines Halbleitersubstrats oder beim Abkühlen zu einer Trennung von Halbleitersubstrat und Ausgangssubstrat kommt und ein Halbleitersubstrat freistehend erhalten wird. Die erfindungsgemäße Maskenschicht für die Herstellung eines freistehenden Halbleitersubstrats besteht dabei zumindest teilweise aus Wolframsilizidnitrid oder Wolframsilizid.
Abstract:
The invention relates to Stat molecules which are mutated and their use in the activation of gene expression, in the screening of inhibitors or activators of transcription factors, the identification of binding proteins, the production of a drug for diagnosis and/or treatment of diseases associated with the activation of gene expression as well as in the targeting of active substances. The Stat molecules occurring in the nucleus of a cutaneous T cell lymphoma cell line are characterized in that at least one conserved hydrophobic amino acid on the surface of the N-domain of the Stat wild type is mutated.
Abstract:
Für die effektive Erzeugung von Röntgenstrahlen oder EUV-Licht ist es notwendig, dass Tröpfchen-Targets zur Verfügung stehen, die eine Ausdehnung in der Größe möglicher Laserwellenlängen haben und somit im Vergleich zumStand der Technik einen kleineren Durchmesser aufweisen und die einen Nebel bilden, der eine Atomdichte von > 10 18 Atome/cm 3 aufweist. Deshalb soll eine Lösung angegeben werden, die dieErzeugung von derartigen Tröpfchen-Targets ermöglicht. Die hohe Dichte soll auch in größerem Abstand von der Düse realisiert sein, d.h. das Tröpfchen-Target weist eine im Vergleich zum Stand der Technik bessere Kollimation auf, um die Lebensdauer der Düse zu erhöhen. Die Aufgabe wird durch eine Vorrichtung, mindestens aufweisend ein Gefäß zur Aufnahme einer Target Flüssigkeit, in dem mittels eines nichtreaktiven Gases ein hoher Druck realisiert ist, ein mit dem Gefäß verbundenes im ms-Bereich schaltendes elektromagnetisches Ventil und eine Düse, dadurch gelöst, dass erfindungsgemäß die Düse als Überschalldüse ausgebildet ist, das Ventil mit der Überschalldüse über einen Expansionskanal verbunden ist, um den Expansionskanal Mittel zur Heizung derart ausgebildet sind, dass die Temperatur auf eine Größe einstellbar ist, bei der ein übersättigter Dampf im Expansionskanal ausgebildet ist, und zwischen elektromagnetischem Ventil und dem Mittel zur Heizung ein Isolator angeordnet ist. Die erfindungsgemäße Vorrichtung ermöglicht die Erzeugung von hochdichten sub-µ Flüssigkeitstargets.
Abstract:
Es soll ein Verfahren zur Erzeugung verstärkter spontaner Emission kohärenter kurzwelliger Strahlung, insbesondere zum Pumpen von transienten Kurzpuls-Röntgenlasern, angegeben werden, das mit weniger technisch aufwendigen Mitteln realisiert werden kann und den Aufbau von entsprechenden Geräten mit hoher Folgefrequenz und höherer mittlerer Ausgangsleistung in Tischgröße ermöglicht. Hierzu wird erfindungsgemäß mit nur einem Pumpstrahl im sub-ns-Bereich mit zeitlich modulierter Intensitätsverteilung, aufweisend einen Vorder- und einen Hauptteil, ein Target bestrahlt, wobei der Vorderteil des Pumpstrahls über eine Dauer von einigen 100 ps eine Intensität aufweist, deren Niveau im Vergleich zum sich anschließenden kurzen Hauptteil des Pumpstrahls mit einer maximalen Intensität von 10 12 W/cm 2 bis 10 18 W/cm 2 um mindestens zwei Größenordnungen geringer ist.
Abstract translation:它是用于产生放大的相干短波辐射的自发辐射,尤其是用于通过瞬时短脉冲X射线激光器抽中规定的方法,它可以以较少的技术上复杂的装置来实现和使对应于表尺寸的高重复率和较高的平均输出功率器件的设计 , 为了这个目的,根据本发明的具有在亚纳秒范围只有一个泵浦光束与时间调制的强度分布,其包括照射前和主要部分,一个目标具有一段大约100皮秒的其电平的强度泵浦光束的前部相比 对于用10 <12> w ^ <2>的最大强度到10 <18> w ^厘米泵浦光束的随后短主要部分<2>是幅度/厘米/至少两个数量级低。
Abstract:
Ziel des Verfahrens ist eine Vereinfachung bisher bekannter Passivierungsverfahren. Nach dem Verfahren werden die Halbleiterbauelemente erwärmt und unter Hochvakuum mit einem gasförmigen, reaktiven und niederenergetischen Medium gereinigt und in-situ wird eine geschlossene, isolierende oder niedrigleitende, lichtdurchlässige Schutzschicht aufgebracht, die in Bezug auf das Material an der Spiegelfläche sowie verbliebener Komponenten des Eigenoxids inert ist. In einer bevorzugten Realisierung ist das optische Halbleiterbauelement ein GaAs-basierende Halbleiterlaser, das reaktive und niederenergetische Medium ist atomarer Wasserstoff und die Schutzschicht besteht aus ZnSe.
Abstract:
Amounts of endohedral fullerenes or fullerene derivatives which can be isolated macroscopically are to be prepared efficiently irrespective of the type of doping agent to be implanted. To that end, according to the invention, fullerenes or fullerene derivatives are applied to a target and irradiated in the solid phase with low-energy ions having kinetic energy of between 5 eV and 500 eV of the doping agents to be implanted. The application of fullerenes or fullerene derivatives and irradiation are carried out simultaneously or successively. The energy of the ions and the irradiation dose at which most of the ions of the doping agents to be implanted penetrate the fullerene or fullerene derivatives to be applied to the target are determined in series of measurements.
Abstract:
The invention concerns novel dimaleinimido-substituted dihydroxyalkanes, a process for their preparation and their use as crosslinking reagents. The disadvantage with the cleavable bismaleinimido derivatives used hitherto which react with SH groups is that the subsequent cleavage of the crosslinking reagents from the proteins has to be carried out in acid or alkaline media. The object of the invention is to prepare novel cleavable crosslinking reagents which react with SH groups and do not require subsequent cleavage of the crosslinking reagents from the proteins in acid or alkaline media. This object is achieved by dimaleinimido-substituted dihydroxyalkanes of the general formula given in figure 3.
Abstract:
The invention concerns a method of producing large-area crystalline layers on economical carriers, in particular for constructing high-efficiency solar cells. According to the invention, in order to produce the locally selective nucleation centres on the substrate surface, a solvent is disposed in a structured manner, the substance to be crystallized is then deposited, dissolves and crystallites are formed at the solution/substrate interface. Finally, these crystallites undergo epitaxial growth to form a completely closed crystalline layer. In order to dispose a solvent in a structured manner on the substrate surface, either a solvent is applied which is then structured in droplet form or first a surface relief in the form of conical or pyramidal depressions is produced and a layer of solvent is then applied to the structured substrate surface.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung (300) mit einem Substrat (310) und einem aluminiumgalliumarsenidbasierten Halbleiterbauelement (320), wobei das Substrat (310) einkristallin ist, wobei das Substrat (310) einen Galliumindiumarsenid-Mischkristall mit der Summenformel Ga(1-x)In(x)As aufweist, wobei der Indiumanteil x zwischen 0,1 Prozent und 4 Prozent beträgt.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Verfahren zum Herstellen eines Oxidkristalls mit Perowskitstruktur und einer chemischen Formel ABO3, wobei die Komponenten A und B unterschiedliche Kationen mit unterschiedlichen Ionenradien sind und das Verfahren den Schritt aufweist: - Kontrollieren von wenigstens einem Wachstumsparameter beim Herstellen des Oxidkristalls derart, dass der hergestellte Oxidkristall eine Stöchiometrieabweichung aufweist, die dadurch verursacht wird, dass eine Anzahl von denjenigen Gitterplätzen des Oxidkristalls, die ohne Stöchiometrieabweichung von Kationen mit größerem Ionenradius besetzt würden, durch Kationen mit kleinerem Ionenradius besetzt werden.