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公开(公告)号：TW201428833A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102131603
申请日：2013-09-02
Inventor： 金劍平 , JIN, JIAN-PING , 李龍謙 , LEE, LENG-KHEAM
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/681 , B25J11/0095 , B25J15/0616 , B25J15/0658 , B25J15/0666 , G01B11/27 , G01N21/9501 , G01N2201/025 , H01L21/67144 , H01L21/67706 , H01L21/6838 , H01L21/68757 , Y10T29/49826
Abstract: 本發明是關於一種多功能晶圓及膜片架操作系統，其包含：一晶圓固定工作臺總成，其具有一晶圓固定工作臺，該晶圓固定工作臺提供一超平坦晶圓固定工作臺表面，其經組態用於攜載一晶圓或一膜片架，並且該系統包含下列至少一項：一平坦化裝置，其經組態用於自動往法向於該晶圓固定工作臺表面之一方向施加一向下力至一扭曲或非平坦晶圓之部分；一移位限制裝置，其經組態用於在中止一施加之負壓力及經由該晶圓固定工作臺施加一正壓力至一晶圓之底側後，自動壓制或防止該晶圓相對於該晶圓固定工作臺表面之非受控側向運動；及一旋轉偏位補償裝置，其經組態用於自動補償安裝在一膜片架上之一晶圓之一旋轉偏位。
Abstract in simplified Chinese: 本发明是关于一种多功能晶圆及膜片架操作系统，其包含：一晶圆固定工作台总成，其具有一晶圆固定工作台，该晶圆固定工作台提供一超平坦晶圆固定工作台表面，其经组态用于携载一晶圆或一膜片架，并且该系统包含下列至少一项：一平坦化设备，其经组态用于自动往法向于该晶圆固定工作台表面之一方向施加一向下力至一扭曲或非平坦晶圆之部分；一移位限制设备，其经组态用于在中止一施加之负压力及经由该晶圆固定工作台施加一正压力至一晶圆之底侧后，自动压制或防止该晶圆相对于该晶圆固定工作台表面之非受控侧向运动；及一旋转偏位补偿设备，其经组态用于自动补偿安装在一膜片架上之一晶圆之一旋转偏位。
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公开(公告)号：JP6356128B2
公开(公告)日：2018-07-11
申请号：JP2015529063
申请日：2013-09-03
Inventor： フランチェスコ、パンパローニ , エルンスト、ハー.カー.シュテルツァー , クリスチャン、マッテイアー
CPC classification number: G01N21/03 , B01L3/5082 , B01L2300/042 , B01L2300/0858 , G01N21/0303 , G01N21/11 , G01N21/13 , G01N21/6458 , G01N21/6486 , G01N2021/0307 , G01N2021/0346 , G01N2021/0378 , G01N2021/0389 , G01N2201/025 , G01N2201/06113 , G02B21/0076 , G02B21/16 , G02B21/26 , G02B21/33
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公开(公告)号：JP2018513966A
公开(公告)日：2018-05-31
申请号：JP2017548195
申请日：2016-03-22
Applicant: イラミーナ インコーポレーテッド , イルミナ ケンブリッジ リミテッド
Inventor： スティーブン ローリングス , ベンケイツ マイソール ナーガラージャ ラオ , ベン ケオン アン , ニティン ウドパ
CPC classification number: C12Q1/6837 , B01L3/5027 , B01L7/52 , B01L9/52 , B01L9/527 , B01L2300/0654 , B01L2300/0816 , B01L2300/0822 , B01L2300/0877 , C12Q1/6869 , G01N21/13 , G01N21/253 , G01N21/6452 , G01N35/04 , G01N35/1095 , G01N2035/00356 , G01N2035/00752 , G01N2035/0091 , G01N2201/025 , G02B21/34
Abstract: 本発明方法はシステムステージ上に第1キャリヤ組立体を位置決めするステップを有する。キャリヤ組立体は支持フレームを備え、この支持フレームは、支持フレームの窓を画定する内方フレーム端縁を有する。第1キャリヤ組立体は、窓内に位置決めされかつ内方フレーム端縁によって包囲される第1基板を有する。第1基板はその上にサンプルを有する。本発明方法は、さらに、第1基板におけるサンプルからの光学的信号を検出するステップを有する。本発明方法はさらに、システムステージ上における第1キャリヤ組立体をシステムステージ上で第2キャリヤ組立体と交換するステップを有する。第2キャリヤ組立体は、支持フレームと、支持フレームによって保持されるアダプタプレートを含む。第2キャリヤ組立体は、アダプタプレートによって支持される第2基板を有し、この第2基板上のサンプルを有する。本発明方法は、さらに、第2基板のサンプルからの光学的信号を検出するステップを有する。【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6326419B2
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：JP2015538062
申请日：2013-10-18
Applicant: ピカッロ インコーポレイテッド
Inventor： レラ、クリス・ダブリュー , クロッソン、エリック・アール , ウォルク、マイケル・アール , タン、ジー・メン
IPC: G01M3/02
CPC classification number: G01M3/20 , G01N21/3504 , G01N33/0004 , G01N2201/025
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公开(公告)号：JP6321553B2
公开(公告)日：2018-05-09
申请号：JP2014559339
申请日：2013-02-28
Applicant: スマート アプリケーションズ リミティド
Inventor： マイケル トレバー ジン , クイントン エンコンベ ウッズ , ペトラス ヘンドリック バイズ
CPC classification number: G01N21/954 , E04G23/008 , F23J13/00 , F23J99/00 , F23J2213/60 , G01C19/00 , G01N2201/023 , G01N2201/025 , G01N2201/062 , G03B37/005
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018021922A
公开(公告)日：2018-02-08
申请号：JP2017172161
申请日：2017-09-07
Applicant: スマート アプリケーションズ リミティド
Inventor： マイケル トレバー ジン , クイントン エンコンベ ウッズ , ペトラス ヘンドリック バイズ
IPC: G01N29/265 , G01N29/22 , G02B23/24 , G02B23/26 , G01B11/30
CPC classification number: G01N21/954 , E04G23/008 , F23J13/00 , F23J99/00 , F23J2213/60 , G01C19/00 , G01N2201/023 , G01N2201/025 , G01N2201/062 , G03B37/005
Abstract: 【課題】垂直に直立した構造物の内部の側壁のための検査および修理モジュールを提供する。 【解決手段】少なくとも1つのデータ記録機構11を支持するためのキャリア2と、これに関連した電源5と、前記キャリアによって支持されておりかつ導管内での縦方向の前進後退移動を実現するように構成されている、コントローラによって制御可能な1組の駆動された軌道車輪を備える推進手段と、前記データ記録機構が前記モジュールから前記モジュールが検査のために中に配置されている垂直に直立した構造物の内部の側壁への距離を測定するように、かつ、この距離測定値をコントローラに中継するように構成されている、少なくとも1つの距離測定器を含む、ことを特徴とする検査モジュール。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP6110445B2
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：JP2015147424
申请日：2015-07-27
Applicant: シスメックス株式会社
IPC: G01N35/02
CPC classification number: G01N35/00732 , G01N21/78 , G01N35/00 , G01N35/00871 , G01N35/026 , G01N35/04 , G01N2021/7759 , G01N2035/00326 , G01N2035/00831 , G01N2035/00851 , G01N2035/00881 , G01N2035/0465 , G01N2035/0491 , G01N2201/025 , G01N2201/061 , G01N35/02
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公开(公告)号：JP2016538531A
公开(公告)日：2016-12-08
申请号：JP2016519914
申请日：2014-09-30
Applicant: レニショウ パブリック リミテッド カンパニーRenishaw Public Limited Company , レニショウ パブリック リミテッド カンパニーRenishaw Public Limited Company
Inventor： アンソニー メイソン トーマス , アンソニー メイソン トーマス
CPC classification number: G01N21/65 , G01J3/0208 , G01J3/0237 , G01J3/0248 , G01J3/2803 , G01J3/2823 , G01J3/44 , G01J2003/2826 , G01N2201/025 , G01N2201/06113 , G01N2201/103 , G01N2201/11 , G01N2201/117 , G01N2201/122
Abstract: 本発明は、サンプル上に光プロファイル(110)を生成するように構成された光源(101)と、サンプルと光源(101)からの光の相互作用から生成される特性光を検出するための、少なくとも1つの受光素子(104)を有する受光器(103)と、サンプルを支持するための支持体(109)であって、光プロファイル(110)に対して移動可能である支持体(109)と、処理ユニット(121)とを備える分光装置に関する。処理ユニット(121)は、支持体(109)と光プロファイル(110)の間に発生したと予期される相対運動に基づいて、特定の時間において受光素子(104)によって記録されたスペクトル値と、特定の時間において受光素子(104)によって記録された特性光を生成したと予測されるサンプル上の点を関連づけるように構成されている。
Abstract translation: 本发明包括被配置为产生在样品上，样品和光源，用于检测从所述光从（101）的相互作用产生的特征的光的光分布（110）的光源（101）， 具有至少一个光接收元件（104）和（103），用于支撑样品（109）的支撑光检测器，所述载体是相对于光学轮廓（110）和（109）可动 涉及光谱设备和处理单元（121）。 所述处理单元（121），基于预期的所述支撑件（109）和所述光学轮廓（110）之间已经发生的相对运动，在特定的时间由所述光接收元件（104）所记录的频谱值， 它被配置为一个点上，预计由在特定时间的光接收元件（104）以产生所记录的特征的光的样品相关联。
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公开(公告)号：JP2016014657A
公开(公告)日：2016-01-28
申请号：JP2015113703
申请日：2015-06-04
Applicant: サムコ株式会社
CPC classification number: G01J1/0238 , G01J1/4257 , G01N21/55 , G01N2021/8427 , G01N2201/025 , G01N2201/1087
Abstract: 【課題】試料からの反射光を確実に捉えることのできる光ビーム測定装置を提供する。 【解決手段】光ビーム測定装置1は、第1傾斜機構131と第2傾斜機構132とを有する光軸傾斜機構13を備える。光ビーム光源部112から照射される照射光の光軸A1について、第1傾斜機構131は第1傾斜軸T1を中心に光軸A1を傾斜させ、第2傾斜機構132は第2傾斜軸T2を中心に光軸A1を傾斜させる。光ビーム測定装置1は、半導体チップCからの反射光が傾いていても、光軸傾斜機構13の作用により半導体チップCからの反射光を捉えことができるため、確実に測定や検査を行うことができる。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够可靠地捕获从样品反射的光的光束测量装置。解决方案：光束测量装置1具有装备有第一倾斜机构131和第二倾斜机构132的光轴倾斜机构13 第一倾斜机构131相对于第一倾斜轴线T1倾斜从光束光源部112射出的光的光轴A1，第二倾斜机构132相对于第二倾斜轴T2倾斜光轴A1 。 由于如果反射光倾斜，光束测量装置1可以通过光轴倾斜机构13的作用来可靠地捕获从半导体芯片C反射的光，所以可以毫不费力地进行测量或检查。
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公开(公告)号：JP2015536452A
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：JP2015538066
申请日：2013-10-18
Applicant: ピカッロ インコーポレイテッド , ピカッロ インコーポレイテッド
Inventor： レラ、クリス・ダブリュー , クロッソン、エリック・アール , ウォルク、マイケル・アール , タン、ジー・メン
CPC classification number: G01M3/20 , G01M3/38 , G01N21/01 , G01N21/31 , G01N21/3504 , G01N21/39 , G01N2021/0314 , G01N2201/025
Abstract: 【課題】移動体プラットフォームからのガス漏洩検知を向上させる。【解決手段】本発明は、測定されたガスが漏洩ガスであるのかバックグラウンドレベルであるのかを区別するために、自動水平方向空間スケール解析を行うことができる。測定されたガスが漏洩ガスであるのか他のガス発生源から発生したガスであるのかを区別するために、同位体比トレーサ及び/または化学トレーサを用いることによって源を特定することができる。多点測定に多点測定結果の空間解析を組み合わせることで、漏洩源までの距離を推定することができる。これらの方法は、個々にまたは任意の組合せで実施することができる。【選択図】図1a
Abstract translation: 为了提高从所述移动平台的气体泄漏检测。 本发明中，为了测量气体区分无论是对于任一背景水平被泄漏气体，也能够执行自动水平空间尺度分析。 为了测量气体以区分一种其它气体源产生的气体是否泄漏气体，也能够通过使用同位素比示踪和/或化学示踪剂来识别源。 通过组合多点测量的空间分析的多点测量，因此能够将距离估计到泄漏源。 这些方法可以单独或以任何组合来进行。 点域1A
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