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    露光装置および照明ユニット
    221.
    发明申请
    露光装置および照明ユニット 审中-公开
    曝光装置和照明装置

    公开(公告)号：WO2015001736A1

    公开(公告)日：2015-01-08

    申请号：PCT/JP2014/003213

    申请日：2014-06-16

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： 梶山　康一 ,  水村　通伸 ,  畑中　誠

    IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/7015 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70275

    Abstract: 　本発明は、マスク上のパターンをマイクロレンズアレイで基板上に結像することにより基板を露光する露光装置等に関し、露光光を出射する照明ユニットを小型化する。マイクロレンズアレイ３０が、移動方向Ａに交わる方向への配列を含んで２次元的に配置された複数のマイクロレンズ３１を有し、照明ユニットが、複数のレーザダイオードが配列されたＬＤアレイバーと、そのＬＤアレイバーを構成する複数のレーザダイオードから出射した複数の発光光を、移動方向Ａに交わる方向についてはその方向に並ぶマイクロレンズ３１の複数個に跨って広がるとともに、移動方向Ａについてはその移動方向に隣接する列に並ぶマイクロレンズ３１に及ばない広さに制限されたスリット形状の露光光束に変換してその露光光束による露光光１７０で一列に並ぶ複数のマイクロレンズ３１上を照明する照明光学系とを有する。

    Abstract translation: 本发明涉及通过使用微透镜阵列在基板上形成掩模图案的图像来对基板进行曝光的曝光装置等，并且减小了用于发射曝光光的照明单元的尺寸。 微透镜阵列（30）具有在与运动方向（A）相交的方向上包括阵列的二维微透镜（31）。 照明单元具有：LD阵列，其中布置有多个激光二极管; 以及照明光学系统，用于将构成所述LD阵列条的所述多个激光二极管发射的多个光转换成与所述移动方向（A）相交的方向上的所述多个曝光光的狭缝状光束， 沿着该方向排列的微透镜（31），并且对于移动方向（A）限制为未到达排列成与该移动方向相邻的行的微透镜（31）的平面，并且将多个 以由转换的曝光光束构成的曝光光（170）排列成一列的微透镜（31）。

    露光装置
    222.
    发明申请
    露光装置 审中-公开
    曝光装置

    公开(公告)号：WO2014006942A1

    公开(公告)日：2014-01-09

    申请号：PCT/JP2013/059575

    申请日：2013-03-29

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： 橋本　和重 ,  新井　敏成 ,  冨塚　吉博

    IPC: G03F7/20 ,  F21S2/00 ,  F21V19/00 ,  H01L21/027 ,  F21Y103/00

    CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/2004

    Abstract: 　光源として複数の短寸のランプを用い、簡単な構造で、照度ムラの低い露光を行うことができる露光装置を提供する。ランプ交換が容易な露光装置を提供する。　露光装置１００は、被露光体１１を搬送方向に搬送する搬送部２と、被露光体１１よりも、長手方向の長さが短い棒状の光源３２、及び、光源３２と被露光体１１との間に配置される偏光子３４を備えた複数の光照射ユニット３１を、水平面内で規定間隔に並べて配置した光照射部３とを有し、光照射ユニット３１は、光源３２および偏光子３４が被露光体１１に対して平行に配置され、且つ、各偏光子３４の偏光軸の方向が搬送方向に対して規定方向に設定され、各光源３２は、光源３２の長手方向が搬送方向に対して平行、または、斜め方向となるように配置されている。露光装置１００は、被露光体１１または光照射部３を搬送方向に対して交差する方向に揺動させる揺動手段５６ｂを有する。

    Abstract translation: 提供一种曝光装置，其使用多根短
    距灯作为光源，并且能够通过简单的结构以较少的照度不均匀性进行曝光，所述曝光装置具有易于更换的灯。 曝光装置（100）具有：传送单元（2），其在传送方向上传送要暴露的对象（11）; 以及具有在水平面内以规定间隔设置的多个光照射单元（31）的光照射单元（3），每个所述光照射单元设置有具有长度方向长度的棒状光源（32） 比被曝光的物体（11）短，以及设置在光源（32）和待暴露物体（11）之间的偏振器（34）。 每个光照射单元（31）具有平行于要被曝光的物体（11）设置的光源（32）和偏振器（34），每个偏振器（34）的偏振轴的方向被设定 相对于传送方向到预定方向，并且光源（32）分别设置成使得光源（32）的纵向方向与传送方向平行或对角。 曝光装置（100）具有使与被曝光对象（11）或光照射部（3）沿与传送方向相交的方向摆动的摆动装置（56b）。

    露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
    223.
    发明申请
    露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 审中-公开
    曝光装置，曝光方法和制造装置的方法

    公开(公告)号：WO2013176178A1

    公开(公告)日：2013-11-28

    申请号：PCT/JP2013/064213

    申请日：2013-05-22

    Applicant: 株式会社ニコン

    Inventor： 福井　達雄

    IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/201

    Abstract: 　照明光学系をマスクに対して高速に相対移動させながらプレートを露光する露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供することにある。露光装置は、パターンが形成されたマスクを支持するマスク支持機構とプレートを保持するプレート支持機構とを備え、光源から出力される照明光を用いてパターンをプレートに転写する露光装置であって、照明光をマスクに照射させる照明光学系と、照明光学系によって照明されるパターンの像をプレートに投影するレンズアレイと、照明光学系の少なくとも一部及びレンズアレイを支持する支持部を備え、支持部を光源に対して相対的にマスク及びプレートに沿った方向に移動させる移動装置と、を有する。

    Abstract translation: 本发明提供了一种曝光装置，用于在使照明光学系统相对于掩模高速移动的同时曝光板，其曝光方法及其制造方法。 使用由光源输出的照明光将图案转印到板上的曝光装置设置有用于支撑其上形成有图案的掩模的掩模支撑机构和用于支撑该板的板支撑机构，其中， 曝光装置具有：用于将照明光照射到掩模上的照明光学系统，用于将使用该照明光学系统照射的图案的图像投影到该平板上的透镜阵列，以及设置有用于至少支撑的支撑部的移动装置 照明光学系统和透镜阵列的一部分，移动装置沿着掩模和板沿着相对于光源的方向移动支撑部分。

    METHOD AND APPARATUS FOR THE PHOTOPOLYMERIZATION AND THE WASHING IN SERIES OF DIGITAL PRINTING PLATES FOR FLEXOGRAPHY
    224.
    发明申请
    METHOD AND APPARATUS FOR THE PHOTOPOLYMERIZATION AND THE WASHING IN SERIES OF DIGITAL PRINTING PLATES FOR FLEXOGRAPHY 审中-公开
    数字印刷机系列中的光电聚合和洗涤方法与装置

    公开(公告)号：WO2013156942A1

    公开(公告)日：2013-10-24

    申请号：PCT/IB2013/053042

    申请日：2013-04-17

    Applicant: DE CARIA, Riccardo

    Inventor： DE CARIA, Riccardo

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: B41F35/00 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2032 ,  G03F7/3064 ,  G03F7/3071 ,  G03F7/70558

    Abstract: The present invention relates to a method and an apparatus for the photopolymerization and the washing in series of digital printing plates for flexography. The method according to the present invention is characterised in that it implements in series the exposure and washing steps of the printing plate, which is continuously moved. The present invention further concerns an apparatus adapted to implementing said method.

    Abstract translation: 本发明涉及用于柔版印刷的一系列数字印刷版的光聚合和洗涤的方法和装置。 根据本发明的方法的特征在于它连续地实现印版的曝光和洗涤步骤。 本发明还涉及适于实现所述方法的装置。

    SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCTION OF NANOSTRUCTURES OVER LARGE AREAS
    226.
    发明申请
    SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCTION OF NANOSTRUCTURES OVER LARGE AREAS 审中-公开
    用于生产大面积纳米结构的系统和方法

    公开(公告)号：WO2012085845A1

    公开(公告)日：2012-06-28

    申请号：PCT/IB2011/055827

    申请日：2011-12-20

    Applicant: EULITHA A.G. ,  SOLAK, Harun ,  CLUBE, Francis

    Inventor： SOLAK, Harun ,  CLUBE, Francis

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/70408

    Abstract: A method and apparatus for printing a pattern of periodic features into a photosensitive layer, including the steps of providing a substrate bearing the layer, providing a mask, arranging the substrate such that it has a tilt angle with respect to the substrate in a first plane orthogonal thereto, providing collimated light for illuminating the mask pattern so as to generate a transmitted light-field composed of a range of transversal intensity distributions between Talbot planes separated by a Talbot distance, and so that said transmitted light-field has an intensity envelope in the first plane, illuminating the mask with said light whilst displacing the substrate relative to the mask in a direction parallel to the first plane and to the substrate, wherein the tilt angle and the intensity envelope are arranged so that the layer is exposed to an average of the range of transversal intensity distributions.

    Abstract translation: 一种用于将周期性特征图案印刷到感光层中的方法和装置，包括以下步骤：提供承载该层的基底，提供掩模，布置基底，使得其在第一平面中相对于基底具有倾斜角 提供用于照亮掩模图案的准直光，以产生由Talbot距离分离的Talbot平面之间的横向强度分布范围组成的透射光场，并且使得所述透射光场具有强度包络 所述第一平面，用所述光照亮所述掩模，同时沿平行于所述第一平面的方向相对于所述掩模移位所述基板和所述基板，其中所述倾斜角度和所述强度包络被布置成使得所述层暴露于平均值 的横向强度分布范围。

    FABRICATION METHOD OF CYLINDRICAL GRATINGS
    227.
    发明申请
    FABRICATION METHOD OF CYLINDRICAL GRATINGS 审中-公开
    圆柱形花纹的制作方法

    公开(公告)号：WO2011113706A1

    公开(公告)日：2011-09-22

    申请号：PCT/EP2011/053226

    申请日：2011-03-03

    Applicant: Université Jean-Monnet ,  PARRIAUX, Olivier ,  LYNDIN, Nikolay ,  TONCHEV, Svetlen

    Inventor： PARRIAUX, Olivier ,  LYNDIN, Nikolay ,  TONCHEV, Svetlen

    IPC: G03F7/24 ,  G03F7/20 ,  G01D5/00

    CPC classification number: G03F7/24 ,  G01D5/3473 ,  G03F7/201 ,  G03F7/703

    Abstract: The present invention solves the stitching problem and the problem of a predetermined integer number of grating lines per closed circle of a cylindrical grating by resorting to a novel phase mask method which proposes to geometrically transform and to optically transfer a standard planar radial grating pattern (1) into a cylindrical photoresist pattern (9) at the circularly cylindrical wall (7) of a given element (3). The planar radial grating pattern can be easily written with an integer number of lines having strictly constant period without any stitching problem by means of the available tools of planar technologies such as a laser or electron beam generator and reactive ion etching. The photolithographic transfer is made by illumination means (19) which permit the needed geometrical transformation from a planar radial grating to a circularly cylindrical grating, in particular by providing a cylindrical wave having a non-zero axial component and the same central axis (A) as said circularly cylindrical wall or a spherical wave (B) with its center on this central axis.

    Abstract translation: 本发明通过采用一种新的相位掩模法来解决圆柱形光栅的每个闭合圆的预定整数格子线的问题，该方法提出了几何变换和光学传递标准的平面辐射光栅图案（1 ）到给定元件（3）的圆柱形壁（7）处的圆柱形光致抗蚀剂图案（9）。 通过诸如激光或电子束发生器和反应离子蚀刻的平面技术的可用工具，平面的径向光栅图案可以容易地用具有严格恒定周期的整数行编写而没有任何缝合问题。 光刻传输由照明装置（19）制成，其允许从平面径向光栅到圆柱形光栅的所需几何变换，特别是通过提供具有非零轴向分量和相同中心轴线（A）的圆柱波， 作为所述圆柱形壁或其中心在该中心轴线上的球面波（B）。

    微細構造体の作製方法
    228.
    发明申请
    微細構造体の作製方法 审中-公开
    生产微结构的方法

    公开(公告)号：WO2011046169A1

    公开(公告)日：2011-04-21

    申请号：PCT/JP2010/068047

    申请日：2010-10-14

    Applicant: 国立大学法人京都大学 ,  国立大学法人 香川大学 ,  鈴木 孝明 ,  小寺 秀俊 ,  神野 伊策 ,  平丸 大介

    Inventor： 鈴木　孝明 ,  小寺　秀俊 ,  神野　伊策 ,  平丸　大介

    IPC: G03F7/20 ,  B81C1/00

    CPC classification number: G03F7/0037 ,  B81C1/00126 ,  B81C99/002 ,  G03F1/14 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/201

    Abstract: 　複雑な立体形状の微細構造体を少ない工程で形成することができる微細構造体の作製方法を提供する。　未露光の感光性樹脂４２に沿って、透光部と遮光部とを含む第１のマスクパターン２２を配置するとともに、第１のマスクパターン２２に関して感光性樹脂４２とは反対側に、透光部と遮光部とを含む第２のマスクパターン３２を配置する。次いで、感光性樹脂４２及び第１のマスクパターン２２を貫通する中心軸Ｚを中心に、感光性樹脂４２及び第１のマスクパターン２２を一体回転させながら、第２のマスクパターン３２に関して感光性樹脂４２及び第１のマスクパターン２２とは反対側から、中心軸Ｚの方向に対して斜めに傾いた方向から露光光を照射することにより、第２のマスクパターン３２の透光部と第１のマスクパターン２２の透光部とを透過した露光光の光束を、感光性樹脂４２に露光する。

    Abstract translation: 所公开的微结构制造方法可以以几步形成复杂的三维形成的微结构。 沿着未曝光的感光性树脂（42）设置包含透光部和遮光部的第一掩模图案（22），将含有透光部和遮光部的第二掩模图案（32）配置在 第一掩模图案（22）与感光性树脂（42）的反面。 此外，通过使感光性树脂（42）和第一掩模图案（22）围绕通过感光性树脂（42）和第一掩模图案（22）的中心轴（Z）一体旋转，并且在同一 从相对于中心轴线（Z）的方向倾斜地倾斜的方向，从第二掩模图案（32）的背面与感光性树脂（42）和第一掩模图案（22）反射的曝光时间， 通过第二掩模图案（32）的透光部和第一掩模图案（22）的透光部的透光的光束曝光感光性树脂（42）。

    露光方法および露光装置
    229.
    发明申请
    露光方法および露光装置 审中-公开
    曝光方法和曝光装置

    公开(公告)号：WO2010001782A1

    公开(公告)日：2010-01-07

    申请号：PCT/JP2009/061506

    申请日：2009-06-24

    Applicant: ソニー株式会社 ,  小野 彰

    Inventor： 小野　彰

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/7035

    Abstract: 　深さ方向に自由度の高い露光パターンを形成することが可能な露光方法を提供する。光源１１からの露光用の射出光Ｌ０を、平行光束Ｌ１とする。また、この平行光束Ｌ１を拡散板１６によって拡散させ、その拡散光Ｌ３を、フォトマスク２１を介してフォトレジスト３２に照射する。これにより、フォトレジスト３２に対する拡散光Ｌ３の拡散角に応じて、従来のようなテーパ形状のみならず、例えばパラボリック形状等の露光パターンも形成することが可能となる。

    Abstract translation: 提供一种能够在深度方向上形成高自由度的曝光图案的曝光方法。 从光源（11）发射的用于曝光的光（L0）成为平行光束（L1）。 该平行光束（L1）由扩散器（16）扩散，并且漫射光（L3）通过光掩模（21）照射光致抗蚀剂（32）。 这允许不仅如前所述形成锥形曝光图案，而且还可以形成根据漫射光（L3）在光致抗蚀剂（32）上的扩散角的抛物线形状的曝光图案。

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