公开(公告)号：TW201221591A

公开(公告)日：2012-06-01

申请号：TW100124957

申请日：2011-07-14

Applicant: LG化學公司

Inventor： 鄭順和 ,  金聖洙 ,  洪瑛晙 ,  洪敬寄 ,  張影來 ,  李守坰 ,  姜俊求 ,  任相赫 ,  丘在必 ,  柳殷相

IPC: C09D ,  G02B ,  B05D

CPC classification number: G02B1/10 ,  C08F220/22 ,  C08J7/047 ,  C08J2301/12 ,  C08J2427/12 ,  C09D4/06 ,  C09D5/00 ,  C09D5/006 ,  C09D5/1681 ,  C09D7/66 ,  C09D201/04 ,  G02B1/105 ,  G02B1/11 ,  G02B1/111 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0294 ,  G02B27/0006

Abstract: 本發明係有關於一種抗炫用塗層組成物及一種抗炫塗膜,其具有優良之耐磨性及耐污性。抗炫用塗層組成物,包括:a)黏合劑樹脂;b)包含氟系UV可固化官能基之化合物;c)光起始劑;d)表面可固化之光起始劑;以及e)具有不平坦表面之粒狀物。當利用抗炫用塗層組成物,以單一塗佈方法形成膜時,則可以同時提供耐磨性及耐污性,維持膜受摩擦時之耐磨性及耐污性,且可以減少或輕鬆移除油性組成物之髒污,例如指紋。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系有关于一种抗炫用涂层组成物及一种抗炫涂膜,其具有优良之耐磨性及耐污性。抗炫用涂层组成物,包括:a)黏合剂树脂;b)包含氟系UV可固化官能基之化合物;c)光起始剂;d)表面可固化之光起始剂;以及e)具有不平坦表面之粒状物。当利用抗炫用涂层组成物,以单一涂布方法形成膜时,则可以同时提供耐磨性及耐污性,维持膜受摩擦时之耐磨性及耐污性,且可以减少或轻松移除油性组成物之脏污,例如指纹。

公开(公告)号：TW201803910A

公开(公告)日：2018-02-01

申请号：TW106110877

申请日：2017-03-30

Applicant: 日產化學工業股份有限公司 ,  NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

Inventor： 湯川昇志郎 ,  YUKAWA, SHOJIRO ,  星野有輝 ,  HOSHINO, YUKI ,  竹田佳代 ,  TAKEDA, KAYO

IPC: C08F22/38 ,  C08G59/40 ,  C08L33/24

CPC classification number: C08F22/38 ,  C08L33/24 ,  C09D7/40 ,  C09D133/24 ,  C09D201/04

Abstract: 供所形成之影像形成用底層膜具有高的撥液性(疏液性)，且即使少的紫外線曝光量亦可使親撥液性容易地變化之硬化膜形成組成物及使用該組成物所得到的硬化膜。 一種硬化膜形成用樹脂組成物，其特徵為含有作為(A)成分之包含來自具有下述式(1)之結構的第1單體之結構單位的聚合物；作為(B)成分之成分(A)以外之聚合物，且其係基於聚合物之總重量基準的氟含有率少於(A)成分之聚合物；作為(C)成分之光酸產生劑；與溶劑。 (式中，R1表示氫或甲基，R2表示可與其所鍵結之氧原子一起脫離的含氟基)。

Abstract in simplified Chinese: 供所形成之影像形成用底层膜具有高的拨液性(疏液性)，且即使少的紫外线曝光量亦可使亲拨液性容易地变化之硬化膜形成组成物及使用该组成物所得到的硬化膜。 一种硬化膜形成用树脂组成物，其特征为含有作为(A)成分之包含来自具有下述式(1)之结构的第1单体之结构单位的聚合物；作为(B)成分之成分(A)以外之聚合物，且其系基于聚合物之总重量基准的氟含有率少于(A)成分之聚合物；作为(C)成分之光酸产生剂；与溶剂。 (式中，R1表示氢或甲基，R2表示可与其所键结之氧原子一起脱离的含氟基)。

公开(公告)号：TW201800440A

公开(公告)日：2018-01-01

申请号：TW106105030

申请日：2017-02-16

Applicant: 旭硝子股份有限公司 ,  ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED

Inventor： 代田子 ,  SHIROTA, NAOKO ,  佐佐木都 ,  SASAKI, MIYAKO ,  阿部岳文 ,  ABE, TAKEFUMI

IPC: C08G61/12 ,  C09D165/00

CPC classification number: B41M1/04 ,  B41M1/06 ,  B41M1/10 ,  B41M1/12 ,  C09D7/40 ,  C09D11/10 ,  C09D201/04 ,  C09D201/06

Abstract: 本發明提供一種含氟樹脂之塗佈液組成物，其可利用有版印刷法製作表面平坦性優異的膜。 一種塗佈液組成物，其含有主鏈上具有脂族環之氟樹脂及含氟溶劑，並且前述含氟溶劑之沸點在185℃以上，且前述組成物於25℃下之黏度在1,000mPa・s以下。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种含氟树脂之涂布液组成物，其可利用有版印刷法制作表面平坦性优异的膜。 一种涂布液组成物，其含有主链上具有脂族环之氟树脂及含氟溶剂，并且前述含氟溶剂之沸点在185℃以上，且前述组成物于25℃下之黏度在1,000mPa・s以下。

公开(公告)号：TW201704414A

公开(公告)日：2017-02-01

申请号：TW105113561

申请日：2016-04-29

Applicant: 日本華爾卡工業股份有限公司 ,  NIPPON VALQUA INDUSTRIES, LTD.

Inventor： 岩城征道 ,  IWAKI, MASAMICHI ,  大住直樹 ,  OSUMI, NAOKI

IPC: C09J11/06 ,  C08J3/24 ,  C09K3/10 ,  B32B7/12

CPC classification number: B32B27/304 ,  B32B15/08 ,  B32B15/082 ,  B32B27/30 ,  C08F14/185 ,  C08K5/0025 ,  C09D201/00 ,  C09D201/04 ,  C09J11/06 ,  C09J201/00 ,  C09K3/10

Abstract: 本發明提供一種接著劑組合物以及密封構造體及其製造方法。接著劑組合物(12)包含：偶合劑，其含有包含與無機材料進行反應之第1官能基及與有機材料進行反應之第2官能基的化合物；及交聯劑，其可與氟系彈性體(13)之交聯部位進行交聯。密封構造體(10)包含金屬製支持體(11)、氟系彈性體(13)、及將金屬製支持體(11)與氟系彈性體(13)接著之接著劑組合物(12)。密封構造體(10)之製造方法包括準備金屬製支持體(11)及氟系彈性體(13)之步驟、及使用接著劑組合物(12)將氟系彈性體(13)接著於金屬製支持體(11)之步驟。藉此，提供一種低成本且接著強度較高之接著劑組合物以及密封構造體及其製造方法。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种接着剂组合物以及密封构造体及其制造方法。接着剂组合物(12)包含：偶合剂，其含有包含与无机材料进行反应之第1官能基及与有机材料进行反应之第2官能基的化合物；及交联剂，其可与氟系弹性体(13)之交联部位进行交联。密封构造体(10)包含金属制支持体(11)、氟系弹性体(13)、及将金属制支持体(11)与氟系弹性体(13)接着之接着剂组合物(12)。密封构造体(10)之制造方法包括准备金属制支持体(11)及氟系弹性体(13)之步骤、及使用接着剂组合物(12)将氟系弹性体(13)接着于金属制支持体(11)之步骤。借此，提供一种低成本且接着强度较高之接着剂组合物以及密封构造体及其制造方法。

公开(公告)号：TWI565767B

公开(公告)日：2017-01-11

申请号：TW102100401

申请日：2013-01-07

Applicant: 東麗股份有限公司 ,  TORAY INDUSTRIES, INC.

Inventor： 石田康之 ,  ISHIDA, YASUYUKI ,  岩谷忠彥 ,  IWAYA, TADAHIKO ,  高田育 ,  TAKADA, YASUSHI

IPC: C09D5/16 ,  C09D171/00 ,  C09D4/02 ,  C09D7/12 ,  G02B1/11

CPC classification number: C09D5/1668 ,  B05D5/08 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08J2400/102 ,  C08J2400/202 ,  C08J2433/16 ,  C09D4/00 ,  C09D201/04

公开(公告)号：TW201430068A

公开(公告)日：2014-08-01

申请号：TW102140643

申请日：2013-11-08

Applicant: 大金工業股份有限公司 ,  DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

Inventor： 吉田知弘 ,  YOSHIDA, TOMOHIRO ,  深見大 ,  FUKAMI, DAI

IPC: C08L83/12 ,  C08G77/46 ,  C08F299/08 ,  C08F2/46 ,  C08J7/04 ,  C09D183/12 ,  G02B1/12

CPC classification number: C09D133/16 ,  C08F299/00 ,  C08F299/08 ,  C08G77/20 ,  C09D5/00 ,  C09D7/40 ,  C09D183/04 ,  C09D201/02 ,  C09D201/04 ,  G02B1/18

Abstract: 本發明係提供一種可形成表面處理層之表面處理組成物，該表面處理層係具有撥水性、撥油性、抗污性，且具有優異耐摩擦性及優異表面滑動性。該表面處理組成物係包含(A)至少具有1種硬化性部位之含氟聚合物、及(B)至少具有1種硬化性部位之含矽聚合物。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系提供一种可形成表面处理层之表面处理组成物，该表面处理层系具有拨水性、拨油性、抗污性，且具有优异耐摩擦性及优异表面滑动性。该表面处理组成物系包含(A)至少具有1种硬化性部位之含氟聚合物、及(B)至少具有1种硬化性部位之含硅聚合物。

公开(公告)号：TW201335296A

公开(公告)日：2013-09-01

申请号：TW102100401

申请日：2013-01-07

Applicant: 東麗股份有限公司 ,  TORAY INDUSTRIES, INC.

Inventor： 石田康之 ,  ISHIDA, YASUYUKI ,  岩谷忠彥 ,  IWAYA, TADAHIKO ,  高田育 ,  TAKADA, YASUSHI

IPC: C09D5/16 ,  C09D171/00 ,  C09D4/02 ,  C09D7/12 ,  G02B1/11

CPC classification number: C09D5/1668 ,  B05D5/08 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08J2400/102 ,  C08J2400/202 ,  C08J2433/16 ,  C09D4/00 ,  C09D201/04

Abstract: 本發明所欲解決之課題係提供一種維持光澤感或透明性，同時使指紋難以被辨識的成形材料、可形成顯現該效果之表面層的塗料組成物、及該表面層的製造方法。一種成形材料，其係在至少一側面具有表面層之成形材料，其中該表面層之JIS Z8741：1997所規定的60°鏡面光澤度為60%以上，在下列之條件下，於該表面層進行模擬指紋附著及模擬指紋拭除，以依照JIS Z8730：2009及JIS Z8722：2009所求得的模擬指紋附著前之狀態作為基準之模擬指紋拭除後之正反射光進入的色差△E*ab(di：8°)Sb10W10(以後稱為△ESCI-2)、及以模擬指紋附著前之狀態作為基準之模擬指紋拭除後之正反射光去除的色差△E*ab(de：8°)Sb10W10(以後稱為△ESCE-2)符合下式(1)之範圍：((△ESCI-2)2+(△ESCE-2)2)1/2≦2.0...式(1)。

Abstract in simplified Chinese: 本发明所欲解决之课题系提供一种维持光泽感或透明性，同时使指纹难以被辨识的成形材料、可形成显现该效果之表面层的涂料组成物、及该表面层的制造方法。一种成形材料，其系在至少一侧面具有表面层之成形材料，其中该表面层之JIS Z8741：1997所规定的60°镜面光泽度为60%以上，在下列之条件下，于该表面层进行仿真指纹附着及仿真指纹拭除，以依照JIS Z8730：2009及JIS Z8722：2009所求得的仿真指纹附着前之状态作为基准之仿真指纹拭除后之正反射光进入的色差△E*ab(di：8°)Sb10W10(以后称为△ESCI-2)、及以仿真指纹附着前之状态作为基准之仿真指纹拭除后之正反射光去除的色差△E*ab(de：8°)Sb10W10(以后称为△ESCE-2)符合下式(1)之范围：((△ESCI-2)2+(△ESCE-2)2)1/2≦2.0...式(1)。