电子枪、掩膜版制备方法及半导体装置

    公开(公告)号:CN109698102B

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN201710986115.6

    申请日:2017-10-20

    Inventor: 李传

    Abstract: 本发明揭示了一种电子枪,所述电子枪包括:枪体及电子抑制结构,所述枪体具有一发射端,所述电子抑制结构固设于所述发射端,并位于所述发射端的开口的径向外侧,所述电子抑制结构用于在所述电子枪使用时接地,所述枪体产生的电子束自所述发射端发射,所述电子抑制结构吸收所述电子束发射至目标后反弹的电子。于是,借助于所述电子抑制结构,有效改善了电子束经目标后反复反弹的状况,降低了对目标的影响。由此进行的掩膜版制备,可以有效降低电子束对掩膜版的影响,提高掩膜版的精度。

    一种多电子枪EBSM设备的控制系统及其控制方法

    公开(公告)号:CN112379639A

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN202011041596.1

    申请日:2020-09-28

    Abstract: 本发明涉及一种多电子枪EBSM设备的控制系统及其控制方法。克服现有工业互联网配合OPC协议的控制系统无法协同控制多台电子枪以及DCS控制系统成本较高,加工效率较低的问题。系统包括CNC系统、PLC、服务器、工控机和电子枪控制柜组件;控制方法中CNC系统对工作台的各电机轴进行伺服控制;PLC对送粉系统、铺粉系统等组件进行控制;服务器对待成型工件进行扫描路径规划,将扫描路径与参数处理为各种控制程序;工控机发送开始指令至CNC系统、从服务器下载并执行打印程序;工控机还监测工作台C轴旋转角度,计算C轴确切位置和C轴理论位置之间的误差,对当前程序进行矫正;电子枪控制柜组件接收并执行工控机发送的打印程序,进行多组电子枪单元的协同控制。

    三维物品的增材制造
    233.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109196618B

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN201780033988.3

    申请日:2017-05-30

    Inventor: C.埃克伯格

    Abstract: 提供了一种用于通过接连地沉积粉末材料的单独层来形成三维物品的方法,所述粉末材料的单独层被熔融在一起以便形成物品,所述方法包括如下步骤:提供至少一个电子射束源,所述电子射束源发射电子射束以用于对粉末材料进行加热或熔融中的至少一个,其中所述电子射束源包括阴极、阳极、以及在阴极和阳极之间的维纳尔杯;在维纳尔杯与阳极之间并且紧密靠近于维纳尔杯地提供护环,其中所述护环具有比维纳尔杯的孔径更大的孔径;通过为护环提供比维纳尔杯和阴极更高的负电位,当形成三维物品时,保护阴极和/或维纳尔杯免受真空弧放电能量电流。

    阴极配置、电子枪以及包括此电子枪的光刻系统

    公开(公告)号:CN108666188B

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN201810479190.8

    申请日:2014-12-22

    Abstract: 本发明涉及一种聚焦电极,包括:圆柱形壳状体,该圆柱形壳状体限定用于容纳阴极本体的腔穴,和前盖部,该前盖部设置有圆形的电子透射孔径和聚焦表面,其中,热陷捕表面被设置在所述圆柱形壳状体的内表面上,该热陷捕表面被配置成用于在使用中接收由阴极本体所释放的热辐射,其中所述前盖部还包括内电极表面,其被配置成支撑所述阴极本体,其中所述圆柱形壳状体包括有角度的间隙,该有角度的间隙形成在壳状体结构中的狭缝或削切部,用于容纳约束配置,该约束配置用于以支撑结构为基准来约束所述聚焦电极和/或所述阴极本体。

    一种异速双电子注电子枪
    239.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110459449A

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201910773085.X

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 本发明公开一种异速电子注电子枪,应用于真空电子技术领域,为了解决现有技术无法解决发射具有不同速度电子注电子枪的难题;本发明采用具备阳极的高电势功能及具备阴极的电子注发射功能的阴极阳极混合结构,通过第一阴极与阴极阳极混合结构之间的电压差对第一阴极发射面发射的第一电子注进行第一次加速,通过阴极阳极混合结构与第二阳极之间的电压差对第一电子注进行第二次加速;通过阴极阳极混合结构与第二阳极之间的电压差对阴极阳极混合结构上阴极发射面发射的第二电子注进行一次加速,并通过第一聚焦极对第一电子注进行聚焦,通过第二聚焦极对第二电子注进行聚焦,能实现两个异速高质量的电子注发射。

    一种基于场发射阴极电子源的电离真空计及其应用方法

    公开(公告)号:CN107993908B

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201711200611.0

    申请日:2017-11-27

    Applicant: 温州大学

    Inventor: 董长昆 张建

    Abstract: 本发明公开了一种基于场发射阴极电子源的电离真空计及其应用方法,本发明公开了一种基于场发射阴极电子源的电离真空计,该真空计包括场发射电子源、离子收集极、电子振荡收集极、和圆筒外电极等。从场发射阴极发射出的电子流,以一定能量进入电离区域轰击真空腔体残留气体分子,气体被电离形成正离子,部分离子被离子收集极收集,收集到的离子电流与气体压强成正比,从而测量真空系统的压强。本真空计具有灵敏度高、测量范围宽、功耗低、放气低、响应速率快等优点。

Patent Agency Ranking