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发明授权
阴极配置、电子枪以及包括此电子枪的光刻系统有权转让

公开(公告)号：CN108666188B

公开(公告)日：2020-06-12

申请号：CN201810479190.8

申请日：2014-12-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L.迪努-格尔特勒 , E.P.霍杰沃斯特

IPC: H01J3/02 , H01J1/15 , H01J1/28 , H01J37/075 , H01J37/317 , G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种聚焦电极，包括：圆柱形壳状体，该圆柱形壳状体限定用于容纳阴极本体的腔穴，和前盖部，该前盖部设置有圆形的电子透射孔径和聚焦表面，其中，热陷捕表面被设置在所述圆柱形壳状体的内表面上，该热陷捕表面被配置成用于在使用中接收由阴极本体所释放的热辐射，其中所述前盖部还包括内电极表面，其被配置成支撑所述阴极本体，其中所述圆柱形壳状体包括有角度的间隙，该有角度的间隙形成在壳状体结构中的狭缝或削切部，用于容纳约束配置，该约束配置用于以支撑结构为基准来约束所述聚焦电极和/或所述阴极本体。

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