母基底材料、膜形成区域的配设方法、滤色器的制造方法

    公开(公告)号:CN101515082A

    公开(公告)日:2009-08-26

    申请号:CN200910007390.4

    申请日:2009-02-17

    Inventor: 坂本贤治

    CPC classification number: G02F1/133516 G02B5/201

    Abstract: 本发明提供一种能减小对液滴喷出装置的基板的方向偏移对命中位置的位置偏移带来的影响的母基底材料、膜形成区域的配设方法、滤色器的制造方法。母基底材料具有多个包含1以上的膜形成分区的膜形成区域,其特征在于,包括:具有第一膜形成分区的第一膜形成区域;具有比第一膜形成分区的膜的形成面积更小的第二膜形成分区的第二膜形成区域;在配置膜材料时使用的配置装置中设置的状态下,对于在配置装置中具有的转动装置的转动中心,在比第一膜形成区域更靠近的位置配置第二膜形成区域。

    曝光方法以及曝光装置
    245.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101460897A

    公开(公告)日:2009-06-17

    申请号:CN200680054845.2

    申请日:2006-06-07

    Inventor: 饭野仁

    Abstract: 本发明的曝光装置对于通过基板搬运单元(5)以一定速度向一定方向搬运的基板(4),在曝光部位(曝光部分)(2)通过在曝光光学系统(3)的光轴(光程)(S)上设置的掩膜(11)照射来自灯(连续光源)(9)的曝光光。在基板(4)上转印并曝光掩膜(11)的开口部分(11a)的图像时,由摄像单元(6)的线性CCD(20)拍摄在基板(4)上预先形成的像素(基准图案)(18)的前方边缘以及侧方边缘(图案边缘),检测出基板(4)上的搬运方向和与该搬运方向成直角的方向中的基准位置。在由摄像单元(6)拍摄的像素(18)从摄像位置(F)被移动到曝光位置(E)时,曝光部位(2)一边对掩膜(11)进行位置调节以使掩膜(11)的位置与基板(4)上的基准位置一致,一边对沿基板(4)的搬运方向的曝光区域进行连续曝光。

    滤色片的制造方法和滤色片

    公开(公告)号:CN101410734A

    公开(公告)日:2009-04-15

    申请号:CN200780010497.3

    申请日:2007-04-02

    CPC classification number: G02B5/201 G02B5/223 G02F1/133516

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种利用喷墨方式形成滤色片的滤色片的制造方法,该滤色片能确保与利用旋转涂布法得到的、具有可得到充分色特性的平均膜厚的像素的滤色片具有同等或几乎同等的色特性和亮度。用于解决上述技术问题的滤色片的制造方法包括如下工序:准备含有颜料、颜料分散剂、粘合剂形成体系、溶剂的特定的滤色片用喷墨墨液的工序(A);用喷墨方式分别形成R墨液层、G墨液层和B墨液层的工序(B);以及工序(C),其使上述各墨液层固化,分别形成平均膜厚在1.5μm~2.5μm、膜厚分布在1.0μm~3.0μm的范围内且每一像素中膜厚在1.5μm以下及2.5μm以上的区域的面积的总比例在5%以下的R像素、G像素和B像素。

    热成像工艺
    249.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100478783C

    公开(公告)日:2009-04-15

    申请号:CN200410100146.X

    申请日:2004-12-02

    Inventor: J·V·卡斯帕

    CPC classification number: B41M5/38207 B41M3/003 B41M5/265 G02B5/201

    Abstract: 本发明涉及在受体上制造滤色元件的方法,该受体具有一个窗口区域和/或潜在或现有掩蔽区域,该方法包括在热转印一种颜料着色剂之前,从热转印织构化供体将一种织构化材料热转印至该受体,其中该织构化材料被转印至(a)至少一个掩蔽区域或(b)一个掩蔽区域和窗口区域的一部分上。或者,该织构化材料被转印到至少部分掩蔽区域并不超过窗口区域的一部分。

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