公开(公告)号：CN101460897A

公开(公告)日：2009-06-17

申请号：CN200680054845.2

申请日：2006-06-07

Applicant: 集成方案株式会社

Inventor： 饭野仁

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/70 ,  B29D11/00634 ,  G02B5/201 ,  G03B27/545 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/7084 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明的曝光装置对于通过基板搬运单元(5)以一定速度向一定方向搬运的基板(4)，在曝光部位(曝光部分)(2)通过在曝光光学系统(3)的光轴(光程)(S)上设置的掩膜(11)照射来自灯(连续光源)(9)的曝光光。在基板(4)上转印并曝光掩膜(11)的开口部分(11a)的图像时，由摄像单元(6)的线性CCD(20)拍摄在基板(4)上预先形成的像素(基准图案)(18)的前方边缘以及侧方边缘(图案边缘)，检测出基板(4)上的搬运方向和与该搬运方向成直角的方向中的基准位置。在由摄像单元(6)拍摄的像素(18)从摄像位置(F)被移动到曝光位置(E)时，曝光部位(2)一边对掩膜(11)进行位置调节以使掩膜(11)的位置与基板(4)上的基准位置一致，一边对沿基板(4)的搬运方向的曝光区域进行连续曝光。

公开(公告)号：CN101099106A

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN200580046016.5

申请日：2005-10-28

Applicant: 集成方案株式会社

Inventor： 饭野仁

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1368

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G02F1/133516 ,  G02F1/136209 ,  G02F2001/136222 ,  G03F7/70525

Abstract: 本发明提供一种在TFT基板的规定位置上高精度地形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案的液晶显示装置用基板的制造方法。为此，包括：在TFT基板(6)上涂敷滤色器或者黑矩阵的感光材料的步骤；由搬运单元(3)边以规定速度搬运涂敷了上述感光材料的TFT基板(6)边由摄像单元(2)拍摄像素区域的步骤；由控制单元(4)的图像处理部(13)检测利用上述摄像单元(2)拍摄的像素区域中预先设定的基准位置的步骤；以及形成步骤，以该检测出的基准位置为基准，由灯控制器(16)控制曝光光学系统(1)的光源(7)的照射定时，在TFT基板(6)的规定位置上形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案。