公开(公告)号：EP0881987A1

公开(公告)日：1998-12-09

申请号：EP97905726.0

申请日：1997-02-11

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： PAVLIK, Robert, S., Jr. ,  SEMPOLINSKI, Daniel, R. ,  WASILEWSKI, Michael, H.

IPC: C03B19 ,  C03C3 ,  C04B41

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2207/52 ,  C03B2207/54 ,  C04B41/53

Abstract: An article of relatively pure silica, and a furnace and method of producing the article. The article is produced by collecting molten silica particles (24) in a refractory furnace in which at least a portion of the refractory has been exposed to a halogen-containing gas to react with contaminating metal ions in the refractory.

公开(公告)号：EP0831060A1

公开(公告)日：1998-03-25

申请号：EP96914406.2

申请日：1996-05-23

Applicant: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION

Inventor： KATSURO, Yoshio, Mitsubishi Chem.Corp., Kurosaki D ,  KATSUKI, Yoshinobu, Mitsubishi Chem.Corp. ,  TAKAZAWA, Akihiro, Mitsubishi Chem.Corp. Kurosaki ,  KATO, Hanako, Mitsubishi Chem.Corp., Kurosaki Dev. ,  UTSUNOMIYA, Akira Mitsubishi Chem. Corp. Kurosaki

IPC: C01B33/18 ,  C07F7/04

CPC classification number: C03B19/095 ,  C01B33/18 ,  C01P2006/80 ,  C03B19/01 ,  C03B19/09 ,  C03B19/1065 ,  C03B2201/03 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/26 ,  Y10S65/08

Abstract: A method for producing a high purity synthetic quartz powder, characterized by using a tetramethoxysilane having a trimethoxymethylsilane content of at most 0.3 wt%, and converting it to a synthetic quartz by a sol-gel method.

Abstract translation: 一种生产高纯度的合成石英粉，通过使用具有至多0.3重量％的三甲氧基甲基硅烷的内容的特点是四甲氧基硅烷，和通过溶胶 - 凝胶法将其转换为合成石英的方法。

公开(公告)号：EP0463543B1

公开(公告)日：1995-08-30

申请号：EP91109973.7

申请日：1991-06-18

Applicant: SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： Matsumura, Mitsuo ,  Matsui, Hiroshi

IPC: C30B15/10 ,  C30B35/00

CPC classification number: C03B19/095 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C30B15/10 ,  C30B35/002 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/90

公开(公告)号：EP0430685B1

公开(公告)日：1995-03-29

申请号：EP90312973.2

申请日：1990-11-29

Applicant: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

Inventor： Sasaki, Shigeo, Mitsubishi Monsanto Chemical Co. ,  Kojima, Miho, Mitsubishi Monsanto Chemical Co.

IPC: C01B33/148 ,  C01B33/18

CPC classification number: C01B33/18 ,  C01B33/1485 ,  C01P2006/80 ,  C03B2201/03

公开(公告)号：EP0463543A1

公开(公告)日：1992-01-02

申请号：EP91109973.7

申请日：1991-06-18

Applicant: SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： Matsumura, Mitsuo ,  Matsui, Hiroshi

IPC: C30B15/10 ,  C30B35/00

CPC classification number: C03B19/095 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C30B15/10 ,  C30B35/002 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/90

Abstract: A quartz glass crucible for use in a process for pulling a single crystal silicon and having an outer layer (3) and an inner layer (4). The outer layer (3) contains less than 0.3 ppm each of Na, K and Li and more than 5 ppm of Al. The outer layer (3) further contains bubbles to present an opaque appearance. The inner layer (4) is made by melting powders of high purity non-crystalline synthetic silica and contains less then 200 ppm of OH group. There is also disclosed a method for producing the crucible.

Abstract translation: 的石英玻璃坩埚用于在过程中使用用于拉动单晶硅和具有上外层（3）和在内侧（4）层。 外层（3）包含每个的Na，K和Li的和大于5ppm的Al小于0.3ppm。 外层（3）另外含有气泡呈现给不透明的外观。 内层（4）是通过熔融高纯度非结晶合成二氧化硅粉末制成并包含较少然后200ppm的OH基团。 有圆盘因此游离缺失一种用于制造该坩埚。

公开(公告)号：WO2017103121A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081446

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WESSELY, Frank ,  SCHREIBER, Andreas ,  ROOS, Björn ,  SCHEICH, Gerrit

IPC: C03B19/06 ,  C03C3/06 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/066 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C1/022 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/10 ,  C03C2204/04

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, iv.) Zerkleinern des Quarzglaskörpers unter Erhalt einer Quarzglaskörnung, v.) Verarbeiten des Quarzglaskörpers zu einer Vorform und vi.) Bilden eines opaken Quarzglaskörpers aus der Vorform. Die Erfindung betrifft weiterhin einen opaken Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Reaktor und eine Anordnung, die jeweils durch Weiterverarbeiten des opaken Quarzglaskörpers erhältlich sind.

公开(公告)号：WO2013149831A1

公开(公告)日：2013-10-10

申请号：PCT/EP2013/055772

申请日：2013-03-20

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： LEHMANN, Walter ,  KAYSER, Thomas

IPC: C03B19/10 ,  C03B20/00 ,  C03B19/09

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B19/095 ,  C03B19/1005 ,  C03B19/107 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/03 ,  C03C23/0075

Abstract: Die Herstellung von Quarzglaskörnung umfasst die Granulation pyrogen hergestellter Kieselsäure und Bildung eines SiO 2 -Granulats (9), Trocknen und Reinigen des SiO 2 -Granulats (9) durch Erhitzen in einer halogenhaltigen Atmosphäre, und Verglasen des SiO 2 -Granulats (9) unter einem Behandlungsgas, das mindestens 30 Vol.-% Helium und/oder Wasserstoff enthält. Dieser Prozess ist zeit- und kostenaufwändig. Um ein Verfahren anzugeben, das ausgehend von porösem SiO 2 -Granulats (9) eine preisgünstige Herstellung dichter, synthetischer Quarzglaskörnung ermöglicht, die zum Einschmelzen blasenfreier Bauteile aus Quarzglas geeignet ist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Reinigen und Verglasen des SiO 2 -Granulats (9) sowie eine Nachbehandlung der verglasten Quarzglaskörnung jeweils in einem um eine Mittelachse (7) rotierenden Drehrohr (6) eines Drehrohrofens (1) erfolgen, wobei das Drehrohr (6) beim Verglasen eine Innenwandung aus einem keramischen Werkstoff aufweist, und wobei die verglaste Quarzglaskörnung einer Nachbehandlung in einer Atmosphäre, die weniger als 20 % Helium oder Wasserstoff enthält bei einer Behandlungstemperatur von 300 °C oder mehr und während einer Behandlungsdauer von mindestens 10 Minuten unterzogen wird.

Abstract translation: 石英玻璃造粒的处理气体下的制剂，其包含在造粒热解制备的硅酸和形成的SiO 2颗粒（9），干燥并在含卤素的气氛中通过加热纯化二氧化硅颗粒（9），和玻璃化的二氧化硅颗粒（9）的， 含有至少30体积百分比的氦和/或氢的％。 这个过程是费时又费钱。 为了提供一种方法，其允许，从多孔的SiO 2颗粒（9）的低成本生产致密，合成二氧化硅颗粒的适合于熔化石英玻璃的无气泡的部件开始，它是根据本发明提出，在SiO 2颗粒的清洗和玻璃化（9） 和玻璃化二氧化硅颗粒的后处理在一个绕中心轴转动（7）每个旋转管（6）的旋转窑（1）的发生，其中，所述旋转管（6）具有玻璃化过程中由陶瓷材料制成的内壁，并且其中所述玻璃化二氧化硅颗粒到后处理 进行其中包含少于20％氦和氢在300℃以上的处理温度，并在至少10分钟的治疗期间的气氛。

公开(公告)号：WO2012004398A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：PCT/EP2011/061683

申请日：2011-07-08

Applicant: HERAEUS QUARTZ UK LIMITED ,  COAPES, Richard Benjamin ,  MUNDY, Alan ,  SAYCE, Ian George

Inventor： COAPES, Richard Benjamin ,  MUNDY, Alan ,  SAYCE, Ian George

IPC: C03B19/14

CPC classification number: C03B19/1492 ,  C03B19/1438 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03B2207/34 ,  C03B2207/52 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/131

Abstract: Hollow ingots of transparent synthetic vitreous silica glass of external diameter greater than 400 mm and internal diameter greater than 300 mm are disclosed. The ingots are substantially free from bubbles or inclusions greater than 100 μιη in diameter, have no more than 100 ppB of any individual metallic impurity, and have chlorine concentration less than 5 ppM. Also disclosed are methods for producing such ingots, in which a porous soot body of density greater than 0.4 g/ cm 3 is deposited on an oxidation resistant mandrel. The soot body is dehydrated on a mandrel comprising graphite, carbon fibre reinforced carbon, silicon carbide, silicon impregnated silicon carbide, silicon carbide-coated graphite or vitreous silica, either under vacuum or in the presence of a reducing gas, and then sintered to transparent pore-free glass under vacuum or in an atmosphere of helium.

Abstract translation: 公开了外径大于400mm，内径大于300mm的透明合成玻璃石英玻璃的中空铸锭。 锭基本上没有大于100μ？的气泡或夹杂物 直径不超过100 ppB的任何单独的金属杂质，氯浓度小于5ppM。 还公开了生产这种锭的方法，其中密度大于0.4g / cm 3的多孔烟灰体沉积在抗氧化心轴上。 在真空下或在还原气体存在下，烟灰体在包括石墨，碳纤维增强碳，碳化硅，硅浸渍的碳化硅，碳化硅涂覆的石墨或玻璃状二氧化硅的心轴上脱水，然后烧结成透明 无孔玻璃在真空或氦气氛中。

公开(公告)号：WO2011052610A1

公开(公告)日：2011-05-05

申请号：PCT/JP2010/069007

申请日：2010-10-26

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  森田 隆介 ,  中川 拓哉 ,  岩田 桂 ,  高田 雅章

Inventor： 森田　隆介 ,  中川　拓哉 ,  岩田　桂 ,  高田　雅章

IPC: C03B20/00 ,  C03B8/04 ,  C03C3/06 ,  G02B1/02 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57

Abstract: 　本発明は、波長２５０ｎｍ以下の深紫外線用光学部材であって、ハロゲン元素を実質的に含有せず、最大ＯＨ基含有量が１０重量ｐｐｍ未満であり、ＯＤＣ（酸素欠乏型欠陥）およびＥプライムセンターがともに１×１０ １４ ｃｍ －３ 未満であり、ＳｉＨおよび酸素過剰型欠陥を実質的に含有せず、仮想温度が１０５０℃以下の合成石英ガラスからなる深紫外線用光学部材に関する。

Abstract translation: 本发明公开了一种波长为250nm以下的深紫外线用光学构件，该光学构件包含基本上不含卤素元素的合成石英玻璃，其OH基含量最高为10重量ppm以下，具有ODC含量（氧 - 缺陷缺陷）和小于1×1014cm-3的E-prime中心基本上不含SiH并且基本上不含过氧缺陷，并且具有1050℃或更低的假想温度。

公开(公告)号：WO2009025077A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：PCT/JP2008/002196

申请日：2008-08-12

Applicant: 信越石英株式会社 ,  山形茂 ,  笛吹友美

Inventor： 山形茂 ,  笛吹友美

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/09 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/32 ,  C03C3/06 ,  C03C4/20 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  Y02P40/57

Abstract: 　本発明は、シリカガラスにおいて、少なくとも、ＯＨ基含有量が１～５０ｗｔ．ｐｐｍであり、仮想温度が８００～１１００°Cであり、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎの各金属不純物濃度がそれぞれ２００ｗｔ．ｐｐｂ以下であるシリカガラス、及び、このようなシリカガラスを製造するためのシリカガラスの製造方法である。これにより、化学反応装置の材料として長期間使用しても、材料表面のエッチング等による強度低下及び透過率低下の物性変化が抑制された、耐化学性に優れたシリカガラス、及びその製造方法が提供される。

Abstract translation: 公开了至少具有1-50重量％的OH基含量的二氧化硅玻璃。 ppm，假想温度为800-1100℃，Li，Na，K，Mg，Ca，Cr，Fe，Ni，Cu和Zn的金属杂质浓度不大于200wt。 PPM。 还公开了一种生产这种二氧化硅玻璃的方法。 这种二氧化硅玻璃具有优异的耐化学性，并且即使长时间用作化学反应器的材料，也抑制了由于表面蚀刻而导致的强度劣化和透射率降低等物理性能的变化。