Abstract:
The invention relates to peptides comprising an amino acid sequence of or derived from a claudin protein for use as a pharmaceutical agent, in particular as an adjuvant or drug delivery-enhancing agent in pain therapy.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Laserdiode mit hoher Effizienz. Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Laserdiode mit hohem Wirkungsgrad, geringem optischen Verlust und geringem ohmschen Widerstand anzugeben. Darüber hinaus soll die erfindungsgemäße Laserdiode preiswert herstellbar sein. Die erfindungsgemäße Laserdiode weist eine erste n-leitend ausgebildete Mantelschicht (14), eine erste n-leitend ausgebildete Wellenleiterschicht (12), die auf der ersten Mantelschicht (14) angeordnet ist, eine aktive Schicht (10), die zur Strahlungserzeugung geeignet ist und die auf der ersten Wellenleiterschicht (12) angeordnet ist, eine zweite p-leitend ausgebildete Wellenleiterschicht (16), die auf der aktiven Schicht (10) angeordnet ist, und eine zweite p-leitend ausgebildete Mantelschicht (18), die auf der zweiten Wellenleiterschicht (16) angeordnet ist, auf, wobei erfindungsgemäß die Summe der Schichtdicke der ersten Wellenleiterschicht (12), der Schichtdicke der aktiven Schicht (10) und der Schichtdicke der zweiten Wellenleiterschicht (16) größer als 1 μm ist und die Schichtdicke der zweiten Wellenleiterschicht (16) kleiner als 150 nm ist, wobei die aktive Schicht (10), die erste Mantelschicht (14), die zweite Mantelschicht (18), die erste Wellenleiterschicht (12) und die zweite Wellenleiterschicht (16) derart ausgebildet sind, dass die maximale Modenintensität der Grundmode (24) in einem Bereich außerhalb der aktiven Schicht (10) liegt, und wobei die Differenz der Brechzahl der ersten Wellenleiterschicht (12) und der Brechzahl der ersten Mantelschicht (14) zwischen 0,04 und 0,01 beträgt.
Abstract:
Ein Mikrowellenresonator zur induktiven Erzeugung eines Plasmas (5) wird eingeführt. Der Mikrowellenresonator umfasst eine erste Röhre (4) und eine leitfähige, vorzugsweise metallische Platte (1). Die Röhre (4) ist für das Anschließen an eine Zuführeinrichtung für ein Prozessgas und zum Leiten des Prozessgases ausgebildet und umfasst ein dielektrisches Material. Die leitfähige Platte (1) weist ein erstes, vorzugsweise zylindrisches, Loch (2) auf, das sich von einer ersten Öffnung auf einer ersten Seite der leitfähigen Platte (1) zu einer zweiten Öffnung auf einer der ersten Seite gegenüber liegenden zweiten Seite der leitfähigen Platte (1) erstreckt. Die erste Röhre (4) ist in dem ersten Loch (2) angeordnet. Die leitfähige Platte (1) weist außerdem einen ersten Schlitz (3) auf, der zu der ersten und der zweiten Seite der leitfähigen Platte (1) und zu dem ersten Loch (2) geöffnet ist. Die Erfindung führt außerdem einen Plasmagenerator mit einem solchen Mikrowellenresonator ein.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas, umfassend eine Wechselspannungsquelle (10), einen Wanderwellenresonator (18) sowie Kopplungsmittel (16), die dazu ausgelegt sind, die von der Wechselspannungsquelle (10) erzeugte Wechselspannung in den Wanderwellenresonator (18) derart einzukoppeln, dass elektromagnetische Wanderwellen entstehen, wobei der Wanderwellenresonator (18) dazu ausgelegt ist, die elektrische Feldstärke der elektromagnetischen Wanderwellen derart zu überhöhen, dass in einem Gas ein Plasma gezündet wird. Die Erfindung betrifft ferner Verfahren zur Erzeugung eines Plasmas, das folgende Schritte umfasst: Erzeugen einer Wechselspannung; Erzeugen elektromagnetischer Wanderwellen in einem Wanderwellenresonator (18) durch Einkoppeln der Wechselspannung in den Wanderwellenresonator (18); und Überhöhen der elektrischen Feldstärke der elektromagnetischen Wanderwellen in dem Wanderwellenresonator (18), um in einem Gas ein Plasma zu zünden. Des Weiteren betrifft die Erfindung die Verwendung der genannten Vorrichtung und/oder des genannten Verfahrens zur Plasmabehandlung.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Erzeugung und zur Detektion eines Raman-Spektrums. Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Erzeugung und zur Detektion eines Raman-Spektrums anzugeben, die eine automatisierte bzw. automatisierbare und gleichzeitig quantitative SERD-Spektroskopie (z.B. Konzentrationsmessreihen) ermöglichen. Dazu werden bei der SERD-Spektroskopie ein erstes Spektrum (16) und ein zweites Spektrum (17) in Bezug auf ihre Intensitätswerte zueinander normiert, und nachfolgend ein erstes Differenzspektrum (D1) berechnet, ein zweites Differenzspektrum (D2) berechnet, das erste Differenzspektrum (D1) in ein erstes Transformationsspektrum (K1) überführt, das zweite Differenzspektrum (D2) in ein zweites Transformationsspektrum (K2) überführt und das Raman-Spektrum (R1) durch Addition des ersten Transformationsspektrums (K1) und des zweiten Transformationsspektrums (K2) berechnet.
Abstract:
The invention concerns about electrical devices having improved transfer characteristics and a corresponding method of tailoring the transfer characteristics of such electrical devices. According to one aspect of the invention, there is provided an electrical device including at least two transistor segments or at least two transistors connected in parallel or in series characterized in that the at least two segments of the transistor or the at least two of the transistors have a different single transfer characteristic due to at least one of different topology and different material properties.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Transistor, bei dem das elektrische Feld mittels Feldplatten in der aktiven Region in kritischen Gebieten reduziert und dadurch das elektrische Feld entlang des Bauelements gleichmäßiger verteilt wird. Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Transistor und ein Verfahren zu dessen Herstellung anzugeben, bei dem das elektrische Feld in der aktiven Region geglättet ist (bzw. Feldspitzen reduziert sind), wobei das Bauelement preiswerter und einfacher herstellbar ist. Das erfindungsgemäße Halbleiterbauelement weist ein Substrat (20) mit einer darauf angeordneten aktiven Schichtstruktur auf, wobei auf der aktiven Schichtstruktur (24, 26) ein Sourcekontakt (30) und ein Drainkontakt (28) angeordnet ist, und der Sourcekontakt (30) und der Drainkontakt (28) voneinander beabstandet sind, und mindestens ein Teil eines Gatekontakts (32) auf der aktiven Schichtstruktur (24, 26) im Bereich zwischen Sourcekontakt (30) und Drainkontakt (28) angeordnet ist, wobei eine Gate-Feldplatte (34) mit dem Gatekontakt (32) elektrisch verbunden ist, und wobei zusätzlich mindestens zwei separate Feldplatten (50, 52, 54, 56, 58, 60) direkt auf der aktiven Schichtstruktur (24, 26) oder direkt auf einer Passivierungsschicht (36) angeordnet sind.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement und ein Verfahren zu dessen Herstellung, welches auf mindestens zwei definierten Wellenlängen mit einem definierten Intensitätsverhältnis emittiert. Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches Halbleiterbauelement und ein Verfahren zu dessen Herstellung anzugeben, welches auf mindestens zwei definierten Wellenlängen mit einem definierten Intensitätsverhältnis emittiert. Dabei sollen sowohl die Wellenlängen als auch das Intensitätsverhältnis äußerst präzise einstellbar sein. Das erfindungsgemäße Halbleiterbauelement weist ein Substrat (8), eine auf dem Substrat (8) angeordnete erste Ladungsträgerbarrierenschicht (7), eine auf der ersten Ladungsträgerbarrierenschicht (7) angeordnete photolumineszierende Schicht (6), eine auf der photolumineszierenden Schicht (6) angeordnete zweite Ladungsträgerbarrierenschicht (5) und eine auf der zweiten Ladungsträgerbarrierenschicht (5) angeordnete aktive, elektrolumineszierende Schicht (4) aus mindestens einem anorganischen Halbleiter auf, wobei die photolumineszierende Schicht (6) zumindest einen Teil des von der elektrolumineszierenden Schicht (4) emittierten Lichts absorbiert und weiterhin eine auf der aktiven, elektrolumineszierenden Schicht (4) angeordnete, zumindest teilweise transparente Kontaktschicht (1) vorgesehen ist.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Erzeugung von Laserstrahlung im THz-Bereich. Dazu wird eine Halbleiter- Laserstruktur vorgesehen, wobei ein Substrat (1) in einem ersten Bereich (7) entlang einer Längsachse von Wellenleiterschichten aus einem ersten, semiisolierenden Substratmaterial mit einer geringen Dämpfung für elektromagnetische Strahlung im Bereich von 0.1 THz bis 10 THz und in einem zweiten Bereich (8) entlang dieser Längsachse aus einem zweiten Substratmaterial mit einer geringen Dämpfung für elektromagnetische Strahlung im Bereich von 0.1 THz bis 10 THz besteht, wobei auf der zweiten Mantelschicht (6) im zweiten Bereich des Substrats eine Schicht (10) aus einem dritten Material mit einer geringen Dämpfung für elektromagnetische Strahlung im Bereich von 0.1 THz bis 10 THz angeordnet ist und sowohl die der zweiten Mantelschicht abgewandte Seite der Schicht aus dem dritten Material als auch die der ersten Mantelschicht (2) abgewandte Seite des zweiten Substratmaterials eine reflektierende Schicht (11) aufweist.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Mikroplasmaarray zur Erzeugung von Niedertemperatur-Plasmen bei Atmosphärendruck oder atmosphärennahen Drücken. Vorgeschlagen wird, dass die Wände von in regelmäßigen Abständen voneinander in ein Substrat (1) eingebrachten Löchern, Hohlelektroden (2) bildend, metallisch beschichtet und diese Hohlelektroden (2) einzeln oder gruppenweise von einer Seite des Substrates (1) mit einer elektrischen Anregung im GHz-Bereich versorgt sind.